【課題】基板Ｗの周縁部Ｅに形成された傾斜面Ｂf、Ｂrに付着した汚染物質を、粘着ローラー８４を用いて効果的に除去することを可能とする。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに粘着剤層８４aを介して当接する粘着ローラー８４を、回転させながら基板Ｗの周縁部Ｗに沿って基板Ｗに対して相対的に移動させる（移動動作）。しかも、この移動動作の実行中に、基板Ｗの周縁部Ｅが粘着剤層８４aに食い込んだ状態で、粘着剤層８４aを基板Ｗに対して相対的に回転軸方向Ｄf、Ｄbへ移動させ、これによって傾斜面Ｂf、Ｂrに粘着剤層８４aを接触させている。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅに形成された傾斜面Ｂf、Ｂrに付着したパーティクルを粘着ローラー８４の粘着剤層８４aで捕捉して、効果的に除去することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク上に付着した異物を、微小なパターンの破壊を抑制しつつ異物を除去し、かつ洗浄による新たな異物を付着させない洗浄方法を提供すること。
【解決手段】フォトマスクのパターン表面上に付着した異物を除去する洗浄方法であって、異物付着面に、液体状の異物除去材料を塗布して異物を囲む膜を形成する工程と、液体状の異物除去材料を固体化した膜とする工程と、固体化した膜を異物とともに除去する異物除去工程と、異物除去工程後にフォトマスク上に残存する異物除去材料に触媒を接触させる工程と、残存する異物除去材料を触媒により分解、除去する工程と、を有することを特徴とする、フォトマスクの洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】基板に形成した液膜を冷却し凝固させる基板処理装置および基板処理方法において、ノズルに霜が付着するのを抑制し、霜に起因する基板の汚染を防止する。
【解決手段】基板上から側方に退避した退避位置において、冷却ガスノズル３のガス吐出口３０に対して上面３７ａが平面となった整流部材３７を近接対向配置し、ガス吐出口３０から少量の冷却ガスを吐出させる。不使用時にも冷却ガスを吐出させるアイドリングを行っておくことにより、ノズルの温度上昇を抑制し必要時に直ちに冷温の冷却ガスを吐出させることができる。また、アイドリング時に整流部材３７を配置し、ガス吐出口３０周りの隙間から冷却ガスを吹き出させることにより、高湿度の周囲雰囲気がノズル内に侵入するのを抑制し、ノズル内に下が付着するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液中に含まれるナノオーダーの微小なパーティクルを、効率よく除去する。
【解決手段】現像液ノズル１４２に現像液を供給する現像液供給装置１９０は、現像液貯槽２０１から現像液ノズル１４２へ現像液を供給するための現像液供給管２０２と、現像液供給管２０２に設けられ、現像液供給管２０２中の現像液に直流電圧を印加する電極２１２と、電極２１２に対して、極性反転自在に直流電圧を印加する電源ユニット２１３と、内部に洗浄液を貯留する洗浄液供給源２１６と、現像液供給管２０２に接続され、洗浄液供給源２１６から現像液供給管２０２に洗浄液を供給するための洗浄液供給管２１５と、現像液供給管２０２における電極２１３が設けられた位置を通過した洗浄液を、現像液供給管２０２から排出する廃液管２２０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】基板等から安全かつ効率的に接着剤を除去することができる接着剤の除去方法及びそれら方法を採用するペリクルフレーム接着剤除去装置を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するため、１）接着剤又はその残渣が存在する基板の表面を流体で被覆しながら、２）前記接着剤又はその残渣が存在する箇所近辺に前記流体の流れを遮る隔離領域あるいは、流れが滞留した隔離領域を形成し、３）前記隔離領域内で前記基板を押圧する摺動体を揺動させ、４）前記隔離領域内に前記接着剤又はその残渣を剥離或いは溶融する薬剤を滴下し、若しくは前記揺動体に前記薬剤を滴下するとともに、５）当該摺動体を前記接着剤またはその残渣上を水平方向に移動させ、６）機械的かつ化学的に前記接着剤又はその残渣を前記基板から剥離することを特徴とする接着剤の除去方法の構成とした。 （もっと読む）

【課題】 パターン部材上に固形物が残存することのない塵の除去を可能とするパターン部材洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 基板上にパターンが形成されたパターン部材に付着した塵を除去するパターン部材洗浄方法であって、前記パターン部材のパターン形成面に、冷却により固化可能な液状塵除去材料を付与する工程、前記液状塵除去材料を冷却し、固体又はゲル状の塵除去層を形成する工程、及び前記塵除去層を、前記パターン部材に付着した塵とともに除去する工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に超音波を照射することにより除去された異物が被洗浄物へ再付着することを防止することができる超音波洗浄装置の提供。
【解決手段】超音波洗浄装置であって、少なくとも、超音波を超音波振動子から洗浄液に伝える振動部材と洗浄液の噴出口と吸引口と、を備えており、
前記振動部材は平板状の剛体であり、平板状の超音波振動子に接合されており、
前記洗浄液の噴出口と吸引口は、前期振動部材の表面または前記振動部材が、被洗浄物が載置された平面に形成する垂直投影の内側に配置されていること、を特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】高い除去率で、しかも優れた面内均一性で基板を凍結洗浄する。
【解決手段】基板Ｗ上に形成されたＤＩＷ（凝固対象液）の凝固膜ＦＦに対してＤＩＷの凝固点よりも高い温度を有する融解液（ＤＩＷ）を局部的に供給するとともに、当該融解液を吐出するノズル８を基板表面Ｗｆに沿ってスキャン移動させて基板Ｗへの融解液の供給位置を変位させている。このため、基板Ｗ表面の複数位置で融解液の流速が速くなり、基板Ｗ表面の各部で高い除去率が得られるとともに、除去率の面内均一性も向上している。また、融解液により融解された領域（融解部分ＭＰ）と融解されていない領域（凝固膜ＦＦ）との界面ＩＦが基板Ｗの外周縁部側に広がるのに追随してノズル８を基板Ｗの外周縁部側に移動させているので、融解部分ＭＰで発生した氷塊による基板ダメージを効果的に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用基板の洗浄時に、超音波を印加した洗浄水を用いた洗浄方法を適用した場合でも、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマスクブランク用基板の製造方法は、ガラス材料からなる基板の表面に向かって、周波数が１．５ＭＨｚよりも高い超音波が印加された洗浄水を当てて基板の表面を洗浄する洗浄工程を有する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物全面に超音波を照射し、洗浄時間を短縮することで洗浄液による被洗浄物へのダメージを低減させる超音波洗浄装置およびその方法を提供する。
【解決手段】
超音波振動子を接着した振動部材のサイズを被洗浄物のサイズに合わせ、少なくとも二つ以上の洗浄液供給口を設け、洗浄液供給口に通した洗浄液供給ノズルから洗浄液を流しながら被洗浄物表面に平行に微小な間隙を設けて対向させ、被洗浄物全面にほぼ一様の厚さで洗浄液を流しながら、発振器から発振出力を超音波振動子に印加し、超音波を被洗浄物の表面に照射し、超音波を洗浄液が覆っている被洗浄物の全面に伝播する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの大型化に伴う撓みによる洗浄ムラを解消した、とくにフォトマスクの中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる洗浄ブラシを用いた回転式フォトマスク洗浄装置の提供。
【解決手段】フォトマスクを洗浄する装置であって、少なくともフォトマスク保持部と、フォトマスクを保持しつつ回転させる回転機構と、回転機構制御部と、アームに取り付けられた回転ブラシ部と、回転ブラシ位置制御部を具備していることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】加熱にともなうアウトガスの発生を防止しつつ、マスクの洗浄処理を行うことができるマスク洗浄方法及びマスク洗浄装置を提供する。
【解決手段】マスク洗浄方法は、基板３０の主面３０ａ上に形成されたマスクパターンを有するマスク膜３２に、マスク膜３２側からエネルギー線を照射して基板３０よりもマスク膜３２の温度を高温とすることによりマスク膜３２の表面を洗浄する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】２流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として３０％圧縮応力が２０〜１００ｋＰａ、２０ｋＰａにおける圧縮弾性率が５０〜２００ｋＰａであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 （もっと読む）

【課題】静電チャックによる支持により反射型マスクブランクスの導電膜表面に固着した異物を容易に除去することができるフォトマスクブランクスの洗浄方法の提供。
【解決手段】ガラス基板の一方の面にＣｒを主成分とする導電膜が形成された反射型マスクブランクスの洗浄方法であって、前記導電膜の膜厚をＬ（ｎｍ）とするとき、エッチング量が１０ｎｍ以上、Ｌ−２０ｎｍ以下となるように、硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液を用いて該導電膜をエッチング処理することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽や洗浄キャリアの表面が侵食されることで発生するパーティクルがフォトマスク基板に付着することを防止しながら、超音波洗浄により基板表面のパーティクルを効率的に除去する。
【解決手段】フォトマスク基板を濾過循環させた洗浄液に浸漬し、洗浄槽や洗浄キャリアの表面からパーティクルが発生しないように、超音波のパワー密度をキャビテーションの発生する閾値以上の初期値とした後、当該洗浄槽での超音波洗浄を終了するまでの間に、超音波のパワー密度をこの初期値から段階的及び／又は連続的低減することを特徴とするフォトマスク基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の平面度を維持しながら洗浄を行い、被洗浄物の反り、破損及び被洗浄物の下面側に洗浄液が液侵するのを抑制しつつ、被洗浄物の支持体との接触部分の洗浄残の発生を抑制できる枚葉式洗浄装置。
【解決手段】円筒状の凹部及び該凹部の内壁面に沿って気体を吐出する吐出口を有する旋回流形成部を上面部に複数有し、被洗浄物の直下に配設される吸着浮上テーブルと、吸着浮上テーブルの周辺に配設され、吸着浮上テーブルの直上の被洗浄物の側面を支持する支持体を有し、支持体で支持した被洗浄物を中心軸で回転させるスピンテーブルとを具備し、被洗浄物を非接触な状態で吸着浮上させつつ、支持体で被洗浄物の側面を支持し、スピンテーブルによって前記被洗浄物を中心軸で回転させて上面を洗浄するものであることを特徴とする枚葉式洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】水蒸気と水とを組み合わせて照射する洗浄方法において、水分子の浸透時間に制限されず対象物を傷めることなく確実に洗浄する方法の提供。
【解決手段】水蒸気供給部Ａ、純水供給部Ｂ、水蒸気流体調整部Ｃ、混相流体照射部Ｄ、ウェハ保持・回転・上下機構部Ｅを有する構成であって、混相流体照射部Ｄの混合部１４４は、照射ノズル１４１の上流側に設置されており、該混合部１４４及び照射ノズル１４１は内壁面が略連続的な曲面を形成するとともに、該混合部１４４内壁面の一部に水導入部を有し、該照射ノズル１４１は、ノズル上流側からノズル出口へと向かうに従って縮径し、更に、最小断面積となるのど部を境に、拡径する末広構造を有し、前記混合部１４４内を流動する水蒸気に水を混合して、前記ノズル１４１の出口から混相流体として噴射することにより、対象物に液滴が衝突する際のキャビテーションを制御する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板洗浄装置および基板洗浄方法において、低い温度に保たれた冷却ガスを安定的に基板に供給することのできる技術を提供する。
【解決手段】スピンベース２３上に保持され、表面に液膜を形成されて回転する基板Ｗに対し、冷却ガスを吐出する冷却ガス吐出ノズル３をスキャンすることにより液膜を凍結させてパーティクル等を除去する。冷却ガスを生成するガス冷却ユニット６４０を、冷却ガス吐出ノズル３を支持するアーム３４の回転軸３３に取り付け、アーム３４とともに揺動するようにしている。このため、冷却ガス供給管６４８を短くすることができ、輸送中にガス温度が上昇するのが防止されて、低温のガスを安定して供給することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの曇りを有効に防止することができるフォトマスクの曇り防止方法及び装置を提供すること。
【解決手段】本発明のフォトマスクの曇り防止装置は、ガラス基板の表面に遮光膜を有するフォトマスク１０に、１９３ｎｍ以上であって４３６ｎｍ以下である波長であり、かつ、５Ｊ以上であって１００Ｊ以下の光を照射する光照射装置２１を具備している。なお、本発明のフォトマスクの曇り防止装置は、ガラス基板の表面に遮光膜を有するフォトマスク１０を、４０℃以上であって８０℃以下である環境で３０分以上２４時間以下の時間で加熱する加熱装置３１を具備するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク上の異物をフォトマスクを損傷させることなく容易に除去することができる異物除去方法を得ること。
【解決手段】フォトマスク上に付着した異物を除去する異物除去方法において、エネルギー硬化物質を吐出するノズル６を、異物の位置情報に基づいて異物の位置に応じた位置に相対的に移動させる移動ステップと、ノズル６が異物上にエネルギー硬化物質を吐出して、異物をエネルギー硬化物質によって被覆させる被覆ステップと、所定のエネルギーを出力するエネルギー供給部３が、異物を被覆したエネルギー硬化物質にエネルギーを付与してエネルギー硬化物質を硬化させる硬化ステップと、硬化したエネルギー硬化物質をフォトマスク８から除去する除去ステップと、を含む。 （もっと読む）