【課題】検査工程などの処理工程を効率よく行うことのでき、しかも透光性基板などに欠けなどが発生することを確実に防止した状態で処理を行うことのできるマスクブランクスの製造方法、処理装置、および台車を提供すること。
【解決手段】マスクブランクスを製造するにあたって、透光性基板あるいはマスクブランクスの製造途中品からなる大型で重いワーク１０を搭載した台車２０を検査装置３の昇降板５１、５２により床面Ｆから浮上させて除振台４０に連結する。このため、検査を行う際、ワーク１０を台車２０と除振台４０との間で移載する必要がない。 （もっと読む）

【課題】マスクやウェハ等の基板を異物から保護しながら搬送するとともに搬送後における基板の利用を容易にする。
【解決手段】容器３００は、マスクやウェハ等の基板７１を吸着して保持するチャック３１０と、チャック３１０とともに保管空間１０８を形成するカバー３２０とを備える。基板７１は、チャック３１０にカバー３２０が装着された状態において保管空間１０８内に保持されて搬送される。 （もっと読む）

【課題】 基板のサイズの変更に容易に対応して、その基板の端縁のみを支持することが可能な基板検査装置を提供すること。
【解決手段】 基板支持部２は、マスク基板の第１の辺における端縁を支持する第１支持部２１と、第１の辺における端面と当接するローラ７２とを有する第１支持部材６１と、一対のガイドレール６３と、ガイドレール６３に対して摺動可能に構成され、マスク基板の第２の辺における端縁を支持する第２支持部２２と、第２の辺における端面と当接するローラ７４とを有する第２支持部材６２と、マスク基板の第３の辺における端面と当接する当接位置と退避位置との間を揺動可能な揺動ピン６４と、この揺動ピン６４との距離を変更可能な状態で第１支持部材６１および第２支持部材６２にその両端を支持され、マスク基板の第４の辺における端面と当接する移動バー６５とを備える。 （もっと読む）

本発明は、粒子状物質の影響を受けやすい基板を収容するためのポッドであって、外部とポッドの内部環境との間において均圧化を行い、かつ粒子状物質の影響を受けやすい基板近傍において内部の気体の流れを最小限にするポッドに関する。ポッドは、第１ポッドと、カバー内に配置されるダイヤフラムとを備え、ダイヤフラムは、通常は非撓み位置にあり、その非撓み位置から撓むことができる。好ましくは、ポッドは、第１ポッド内に配置され、かつ粒子状物質の影響を受けやすい基板を収容するための第２エンクロージャを形成する第２ポッドを備える。ポッドは、同ポッドに連結され、かつポッド外部とポッド内部との間で気体の流通を可能にするフィルタを備えることができる。ダイヤフラムは、急激な圧力変化に応答することができる。フィルタは、より緩やかな圧力変化に応答することができ、ダイヤフラムがその通常の非撓み位置に戻ることを許容する。
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【課題】収納したフォトマスクブランクのガス汚染によるレジスト膜の感度変化と粉塵による汚染の両方を抑制することができるとともに、保管、輸送が容易なフォトマスクブランクの梱包方法を提供する。
【解決手段】フォトマスクブランクの梱包方法であって、少なくとも、フォトマスクブランク上にレジスト膜材料を塗布してレジスト膜を成膜するレジスト膜成膜工程と、該フォトマスクブランクをフォトマスクブランク収納容器に収納するフォトマスクブランク収納工程と、該フォトマスクブランク収納容器を、有機ガス吸着剤、塩基性ガス吸着剤、酸性ガス吸着剤から選ばれるいずれか１つ以上のガス吸着剤と共に、密封体で包装して、前記ガス吸着剤を、前記フォトマスクブランク収納容器の外側で且つ前記密封体の内側に配置するフォトマスクブランク収納容器包装工程とにより、フォトマスクブランクを梱包することを特徴とするフォトマスクブランクの梱包方法。 （もっと読む）

基板１０上に被転写体に転写すべく転写パターンを有する転写マスクの原版であるフォトマスクブランクス１００において、フォトマスクブランクス１００は、基板１０上に前記転写パターンとなる遮光膜２０と、レジスト膜３０とを有し、遮光膜２０をパターニングして得られる転写パターンを有する転写マスクを露光装置の基板保持部材で支持したときに、所望のパターン位置精度及び所望のフォーカス精度となるように、基板１０主表面の周縁部に形成されたレジスト膜３０が、露光装置の基板保持部材により支持されるフォトマスクブランクス１００の被支持領域３１における所定領域において除去されている。このような構成により、ステッパーの基板保持部材にレチクルを装着したときに、レチクルの変形を抑制し、転写パターンの位置精度の低下及びフォーカス精度の低下を最小限に抑えることを可能にしている。
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【課題】 方向を間違えて装着されたレチクル搬送容器１１を自動的に修正する。
【解決手段】 レチクル搬送容器１１と、レチクル搬送容器１１を搬送する搬送手段（４、５）と、回路パターンを焼き付ける露光機と、複数のレチクル１２を保管するレチクルストッカー２とを有するレチクル処理システムである。レチクルストッカー２から露光機１の焼き付け位置までの経路に、レチクル搬送容器１１の向きを検出してレチクル搬送容器１１を適切な向きに変更する向き変更手段８１を備えた。向き変更手段８１は、レチクル搬送容器１１を回転させる回転駆動部８２と、レチクルストッカー２から露光機１の焼き付け位置までの経路のいずれかに設けられレチクル搬送容器１１の方向を検出する方向検出手段８３と、方向検出手段８３で検出した方向が１８０°ずれている場合に回転駆動部８２を制御して正規の方向に修正する制御部８４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内でレチクルを移動するためのレチクル交換ユニットを提供すること。
【解決手段】レチクルの表面は、ガス浸透性ペリクル・フレームによりレチクルに取り付けられているペリクルにより保護されている。このレチクル交換ユニットは、レチクル準備チャンバ、ペリクル・フレームの複数の露光したガス浸透部分をレチクル準備チャンバの内部に向けるように配置されているレチクル移送ユニット、および前記レチクル準備チャンバと結合していて、ガスがペリクル・フレームを通して、ペリクルとレチクルとの間のペリクル空間内に／から交互に流れるように、ペリクル・フレームの露光したガス浸透部分が、レチクル準備チャンバの内部の方を向いている場合に、レチクル準備チャンバにパージガス圧およびパージガス圧より低い排気圧を交互に供給するように配置されているパージガス圧および排気圧供給装置を含む。 （もっと読む）

【課題】 従来の大型ペリクルを含め、大型ペリクルを搬送するのに適切な簡便な搬送方法を提供するものであり、そのための搬送用治具、及び大型ペリクルを収納するペリクルケースを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレーム上面にペリクル膜を設け、前記ペリクルフレーム下面にフォトマスクに接着するための粘着面を形成してなる大型ペリクルの搬送方法において、前記ペリクルフレーム下面の一部を前記大型ペリクルの搬送用治具の表面に一時的に粘着させて搬送することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 レチクルを保護する保護部材を設けた場合でも、レチクルを搬送して露光装置の取り付ける場合に、適当な位置に取り付け可能なレチクル搬送装置を提供する。
【解決手段】 位置測定装置２９はレチクル１の下面に形成された位置測定用マーク２６の位置を測定し、これによりレチクル１の位置を測定する。位置測定装置３０は、下蓋２ｂの下面に形成された位置測定用マーク２７の位置を測定し、これにより下蓋２ｂの位置を測定する。レチクル１の位置と下蓋２ｂの位置が分かれば、レチクル１と下蓋２ｂの相対的な位置ずれが分かる。よって、搬送装置によりレチクル１を搭載した下蓋２ｂを搬送して露光装置にセットするとき、このずれを勘案して下蓋２ｂの停止位置を決定することにより、レチクル１を正しく露光装置にセットできる。 （もっと読む）

【課題】 レチクル１２を、安全に且つ確実に支持する。
【解決手段】 レクチル１２を収納するポッド１３と、このポッド１３を塞いで気密にシールする扉１４およびシール１５とを備えたレチクル搬送容器１１である。ポッド１３及び扉１４の各内側面に一対のレチクルリテーナー２５，４５を有し、各レチクルリテーナー２５，４５が、レチクル１２の周縁の上側角部１２Ａ又は下側角部１２Ｂに当接して弾性的に支持する傾斜面部２８を備えた。傾斜面部２８の内側には、レチクル１２の周縁の上側角部１２Ａ又は下側角部１２Ｂが当接したときに上記傾斜面部２８の撓みを許容して弾性的に支持する緩衝機能を持たせる凹部３１，５２を備えた。 （もっと読む）

フォトマスクの貯蔵及び輸送に適切であり、コンテナ本体、カバー、第一及び第二のクッション、並びにコンテナ本体内に形成されたスロット内部に配置された左右の導管を含むコンテナ。一実施形態において、本発明のコンテナは、回転成形によってワンピース設計で形成される。次に、カバーが本体から分離され、十分に滑り込んで密封されるように切削され、その中に配置される。
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【課題】電波吸収物質を用いたフォトマスクでもＲＦＩＤタグにより配送管理し、配送効率を向上させ、誤配送を防止する。
【解決手段】フォトマスク１０のペリクルフレーム１３に貼り付けられた第１ＲＦＩＤタグ１５内の製品管理データとフォトマスクを収納した製品容器４２に貼り付けられた第２ＲＦＩＤタグ４５内の製品管理データとを照合する。その後、第２ＲＦＩＤタグ内の製品管理データと製品容器を梱包する梱包箱６２に貼り付けられた第３ＲＦＩＤタグ６５内の製品管理データとを照合する。これにより、フォトマスクの電波吸収物質により第１ＲＦＩＤタグの電波が梱包箱の外側から受信できない程度に微弱になる場合でも、予め第１ＲＦＩＤタグと照合済みの第２ＲＦＩＤタグと、梱包箱外側の第３ＲＦＩＤタグとを照合できる。従って、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材を使用すべきマスクに応じて変更可能にする。
【解決手段】露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 （もっと読む）

レチクル操作装置が、ハウジング内でクリーンルーム状態を維持する少なくとも実質的に密閉されたハウジングと、ハウジングの内外へレチクルを導入し且つ送出する入力／出力ステーションと、ハウジング内に配置されてレチクルについての所定の機能を行う少なくとも１つの機能ユニットとを備える。装置は、ハウジング内に同様に配置されてハウジング内のレチクルを操作する操作装置を有する。
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【課題】 被ハンドリング体を静電破壊から保護するハンドリング治具及びハンドリング治具用スタンドの提供を目的とする。
【解決手段】 ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動又は往復移動自在に取り付けられたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５に取り付けられ、フォトマスク基板１０と当接する爪６とからなるハンドリング治具1であって、グリップ２，レバー３，固定アーム４，回動アーム５及び爪６に、導電性材料又は帯電防止剤による帯電防止処理を施した材料を使用した構成としてある。 （もっと読む）

電子部品の製造において用いられるレチクル用検出／クリーニング装置であって、検出／クリーニング装置がクリーニングユニットを有し、その中にクリーニングチャンバーが構成されている。圧縮液体クリーニング媒体の導入用の少なくとも１つのガス供給がクリーニングチャンバーへ通じる。ガスをクリーニングチャンバーから放出する少なくとも１つの吸引手段がクリーニングチャンバーから通じる。クリーニングチャンバーはレチクルを導入し且つ取り除く少なくとも１つの第１開口部を有する。半導体製造で用いられる品物の汚染を検出する検出ユニットが設けられる。検出ユニットは検出手段を有し、その中へレチクルが検出ユニットの１つの送り側から導入され得る。クリーニングチャンバーの第１開口部と送り側は互いに反対側にある。送り装置はクリーニングユニットと検出ユニットとの間のレチクルを交換するために設けられる。
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【課題】収納ケース内の基板の配置方向、及び表裏を人手を介することなく変更することで異物の基板への付着、基板端面の損傷、及び基板の粉塵の飛散を抑えることができる基板配置方向制御装置を提供すること。
【解決手段】載置部１００、アーム付き搬送部２００、方向変更部３００を具備し、アーム付き搬送部２００により載置部１００と方向変更部３００とのあいだで基板１の搬送が行われる。方向変更部３００で基板１に備えられたマークが撮像され、あらかじめ登録されているマークデータと照合されて収納ケース内における基板１の配置方向、及び表裏が認識される。認識された基板１の配置方向から登録されている所定の方向に、基板の水平回転、または／および反転を行うものである。 （もっと読む）

レチクル上の粒子汚染を減らすためにレチクル（９１６）とレチクルシールド（９２０）との間に温度勾配を確立するための比較的冷たいガスの流れを使用するための方法及び装置が開示される。本発明の一態様によれば、物体（９２８）の表面の粒子汚染を減らす装置は、プレート（９２０）とガス供給源（９５４）とを含む。このプレートは、第２の温度を有するプレートと第１の温度を有する物体とが、ある空間によって実質的に分離されるように物体に近接して位置決めされる。ガス供給源はこの空間にガス流を供給する。ガスは、第１の温度と第２の温度の両者より低い第３の温度を有する。ガスは、プレート及び物体と協働して温度勾配を作り出し、それによって物体からこの空間内の粒子を運び去る熱泳動力を作り出す。 （もっと読む）

【課題】クランプ力を増加でき大型で大重量のフォトマスク基板を容易にクランプでき、傷つけることなく運搬できるフォトマスク基板の運搬治具を提供する。
【解決手段】フォトマスク基板の運搬治具は、全長の調整が可能な外アームと内アームと、外アームの端部近傍に設けられフォトマスクの一端面をクランプ可能な、弾性クランプ部材を備えた可動クランプ部を持つ可動側ワーククランプ機構と、内アームの端部近傍に設けられ他端面をクランプする固定クランプ部を持つ固定側ワーククランプ機構を有し、可動側ワーククランプ機構は、可動クランプ部を進退させるクランプハンドルが取り付けられたトグル機構を有する。 （もっと読む）