【課題】搬送機構の負荷を軽減可能な技術を提供する。
【解決手段】メインロボットＴ２１とＰＥＢロボットＴ３１との間の基板の受け渡しを、ＰＥＢ処理ユニットＰ−ＨＰ（ＰＥＢ）の備える仮置部Ｔを介して行わせる。すなわち、メインロボットＴ２１に、ＰＥＢ処理ユニットＰ−ＨＰ（ＰＥＢ）内の仮置部Ｔに送り基板を載置させ、ＰＥＢロボットＴ３１に、仮置部Ｔに載置された送り基板を取り出させる。また、ＰＥＢロボットＴ３１に、仮置部ＴにＰＥＢ処理前の送り基板を載置させ、メインロボットＴ２１に、仮置部Ｔに載置されたＰＥＢ処理後の戻り基板を取り出させる。この構成によると、送りＰＡＳＳ・戻りＰＡＳＳを介して基板を受け渡す場合に比べて搬送機構の搬送工程数を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのような薄板を保持する際、一定以上の押圧力が保持すべき薄板に作用しないようにしつつ、保持すべき薄板の位置ずれを吸収することが可能な薄板の保持装置及び該装置を有するフォトマスクの保持システム並びに搬送方法を提供する。
【解決手段】一対の薄板保持部２８を有する薄板の保持装置１６であって、当接部は、基部と、前記駆動部による移動方向に沿って相対移動可能な形態で該基部に対して係合する当接本体とを有し、前記当接本体と前記基部との間には、間隔を狭める向きに前記当接本体を付勢する第１付勢手段が設けられ、前記基部には、係止部が設けられ、それにより、薄板を保持する際、前記一対の薄板保持部２８のいずれか、或いは両方において、前記当接本体と前記係止部との間にクリアランスが生じることにより、位置ずれ吸収手段と、押圧力制限手段とが形成される。 （もっと読む）

【課題】半導体処理工程における移載容器中の部品支持構造の改良。
【解決手段】
移載容器は、基台５０及び蓋６０からなり、
該基台上の２つの抵触台５２と抵触部品５８で”コ“の字状にレチクル７０の支持部を構成する。抵触台の内側両端に相対してそれぞれ硬質の支持部品５５を設け、各支持部品はそれぞれ高低差のある高い第一突出片及低い第二突出片を具え、これらの頂上をアーチ状として支持接触面を点接触とし、同一抵触台上の二つの支持部品は、低い第二突出片を相対的に内側に配置して、レチクルが変位して第一突出片から滑り落ちても、第二突出片が受ける。 （もっと読む）

【課題】
原版の上に付着した微粒子を効果的に除去する露光装置を提供する。
【解決手段】
本発明の露光装置は、真空環境下で投影光学系を介して原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、露光装置は、原版を洗浄する洗浄装置を有し、洗浄装置は、原版のレーザー照射領域にレーザー光を照射する照射手段と、原版を移動させるステージと、レーザー光を原版に正射影したときの方向をレーザー入射方向と定義した場合、照射手段又はステージの一方を用いて、レーザー照射領域をレーザー入射方向と直交する方向に移動させる第１の走査手段と、照射手段又はステージの他方を用いて、レーザー照射領域をレーザー入射方向と同一の方向に移動させる第２の走査手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチングした金属膜のパターン線幅が常に寸法規格を満たしたフォトマスクを作製する中間測長機能を備えたドライエッチングシステムを提供する。
【解決手段】ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。パターン線幅を寸法規格と照合し、寸法規格に至らない際には、自動でフィードバックしてドライエッチング用真空チャンバー内でドライエッチングを継続して行う機能を備えたこと。 （もっと読む）

【課題】レチクルの保管，移動時の汚染に係る情報を含めた管理を行うレチクル管理方法を提供する。
【解決手段】レチクル１を用いた露光時の処理情報に加え、保管，移動時のレチクル汚染に関する情報をレチクルストッカーにおいて、レチクル１に付随したＩＣチップ３に記録する。レチクル１を用いて露光処理する時に、ＩＣチップ３に記録した汚染に関する情報が所定の規格量を超えた時点で洗浄など汚染除去処理を指示し、実行する。このレチクル１に係る情報に含めた保管，移動時のレチクル汚染に関する情報を呼び出すことで、レチクル洗浄を行って、パターン欠陥に結びつく汚染状態のレチクル１を露光処理に使用することを防止できる。 （もっと読む）

【課題】露光装置やレチクルストッカなどの半導体製造装置を使用した半導体装置の製造工程において、ヘイズの発生を低減することができる技術を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造工程で使用される露光装置１０において、この露光装置１０とクリーンルームとの間に外気取り込み部１８を設ける。そして、外気取り込み部１８の内部に光触媒フィルタ１９ａを配置する。続いて、光触媒フィルタ１９ａの後段に化学フィルタを配置する。この化学フィルタは、有機物を除去する有機物除去フィルタ１９ｂと、無機物を除去する無機物除去フィルタ１９ｃより構成されている。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのペリクル膜内空間に発生する成長性異物の原因となるアウトガス等を除去して、成長性異物の発生を抑えるフォトマスクの保管方法を提供することである。フォトマスクの成長性異物の有無の検査、成長性異物を除去する洗浄を行うことのないフォトマスク保管方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク１０を構成するペリクルフレーム１３に、ペリクル膜内空間１８と外部とをつなぐ通気孔１５を設けたフォトマスク１０を収納・保管するフォトマスクストッカー３０に内部の気圧を制御する機能を持たせ、フォトマスクストッカー３０内の雰囲気を減圧、常圧、加圧を繰り返すことで、ペリクル膜内空間１８の雰囲気を、外部から供給された清浄度の高い雰囲気と置換させるフォトマスク保管方法である。 （もっと読む）

【課題】複数のパターン領域を有する原版の検査に好適な検査装置を提供する。
【解決手段】露光により基板にパターンを転写するために使用される原版を検査する検査装置に関する。検査装置は、原版を検査する検査部３ａと、検査部３ａを制御する制御部４とを備える。制御部４は、原版に対して複数の検査領域を設定し、複数の検査領域のうち少なくとも特定の検査領域について検査部３ａに検査させる。制御部４は、その検査において検査部３ａによって異常が発見されなかった場合に、複数の検査領域のうち特定の検査領域以外の他の検査領域についての異常の有無とは無関係に、原版を使用した露光を可能にする。 （もっと読む）

【課題】搬送アームの微妙な変形や位置ずれについても容易に、かつ、確実に検出することができる基板搬送装置の検査装置および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ティーチングを行った直後等のように基板搬送ロボットが搬送アーム６ａを正確に受渡対象部にアクセスできる状態にて、搬送アーム６ａをレーザスキャナのスキャンエリアＳＡにアクセスさせ、搬送アーム６ａの先端点ＬＰ，ＲＰの３次元座標位置を基準座標位置として取得して記憶しておく。適当なタイミングの検査時に基板搬送ロボットが搬送アーム６ａをスキャンエリアＳＡにアクセスさせ、搬送アーム６ａの先端点ＬＰ，ＲＰの３次元座標位置を測定し、その実測座標位置と基準座標位置との差分に基づいて搬送アームの形状異常および位置ずれ異常を判定する。 （もっと読む）

【課題】平面なワークピースを処理するプラズマ処理システムは、前記システムのプラズマ処理チャンバに対するワークピースの回転位置を変更する能力を有するように提供される。
【解決手段】前記システムのワークピース搬送装置は、前記システムのリアクタチャンバに結合される。前記ワークピース搬送装置は、前記チャンバの各々の間でワークピースを搬送することが可能である。前記システムは、前記プラズマ処理システムの外部のファクトリ環境との間でワークピースを搬送する、前記ワークピース搬送装置に結合されたファクトリインタフェースをさらに備えている。前記ファクトリインタフェースは、（ａ）内部容積を規定するフレームと、（ｂ）前記内部容積内の前記フレーム上に支持された回転可能及び並行移動可能なアームと、（ｃ）該アームの外側端に取り付けられたワークピースハンドリングブレードと、（ｄ）ワークピースの回転を容易にする静止ワークピース保持用支持ブラケットとを備えている。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクに関する情報をその製造段階から枚葉で管理するマスクブランクの管理システムを提供する。コストをより一層低減できる局所クリーン化を構築するのに好適なマスクブランクの管理システムを提供する。
【解決手段】基板上に転写パターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクであって、基板を研磨する工程、研磨された基板上に薄膜を成膜する工程、必要に応じてレジストを塗布する工程、等の工程を経て製造されるマスクブランクの管理システムであって、１個の収納ケースに１枚の基板ないしはマスクブランクを収納するとともに、前記マスクブランクに関する情報を該マスクブランクを収納する収納ケースに対応付けて管理する。また、基板ないしはマスクブランクを収納ケースに収納した状態で各工程間を移動させる。また、収納ケースは内部の基板ないしはマスクブランクを高清浄な雰囲気で保管できるように汚染物質を除去するためのフィルター手段を備える。 （もっと読む）

本発明は、レチクルを保護するための方法、システム、および部品を提供し、具体的には、保管および使用中にレチクル上のヘイズ形成を最小限にするための方法、システム、および部品を提供する。レチクル上での湿度レベルが低減された保管庫ハウジング内のパージを実質的に継続的に持続することにより、またはパージされていないときにレチクルをコンテナ内で乾燥剤またはゲッタの近くに一時的に保管することにより、ヘイズ形成を、なくし、または最小限にし、または十分に抑制することができる。また、コンテナ内のフィルタ媒体を、レチクルを実質的に継続的にパージする間に「再生される」ように配置してもよく、コンテナがパージされていないときに、低減された望ましい湿度レベルをレチクル・コンテナ内で容易に維持することができる。さらに、本発明のシステムは、パージ・システムに付随するイオナイザを備えることができる。たとえば、イオナイザを、パージ・システムの複数のパージ・ラインのうちの少なくとも１つに付随させることができる。また本発明のシステムは、パージ・システムに接続された、ＣＤＡまたは超ＣＤＡの供給源を含むパージ・ガス源を備えることができる。保管庫ハウジングは、複数のレチクル保管容器を各々備える複数の棚を備えることができる。
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【課題】各種の情報に基づいて、レチクルに施すべき各種の処理に対するレチクルの優先順位を算出でき、これにより、レチクルを適切に管理できるレチクル管理方法、管理装置及び管理プログラムの提供を課題とする。
【解決手段】半導体製造に用いられるレチクルに関するレクチル情報、半導体に関する半導体情報、半導体を製造する工場に関する工場情報に含まれる各種の情報の少なくとも一つに、パラメータを付与するパラメータ付与手段１４と、各種の情報の少なくとも一つに重み付けを実行する重み付け手段１５と、パラメータ及び重みに基づいて、レチクルに対して施すべき所定の処理に対するレチクルの優先順位を算出する優先順位算出手段１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型のペリクルの取り扱いを容易にするペリクル用ハンドリング器具を提供する。
【解決手段】ペリクル用ハンドリング器具は、把手部１６を有するフレーム体１２と、該フレーム体１２に取り付けられる一対の保持体１３とを備える。保持体１３は、矩形状のペリクルの対向する２辺の外側面に形成した溝３３に係合する保持爪２４と、ペリクルの他の１辺の外側面に当接する受け部材２７とを有する。好ましくは、フレーム体１２を、一対の保持体１３の間隔を拡縮可能とするように伸縮自在に構成する。また、保持爪１３を、溝３３を形成したペリクルの外側面に対して接近離反移動可能に設ける。 （もっと読む）

【課題】ペリクルをマスクから剥がす際に、異物がマスクに付着したりマスクを傷つけることを防止する。
【解決手段】マスク１を熱板に載置して固定し、ペリクルをマスクに固定する粘着剤を軟溶化して、ペリクルを把持して所定長移動し、そのギャップに粘着剤巻き取り手段１２を挿入してペリクル粘着剤を巻き取って剥離する。 （もっと読む）

基板の表面上のヘイズ成長を防止する装置および方法が開示される。この装置は、基板を保存する働きをする容器と、その容器に結合された気体源とを含む。気体源は、基板の表面上にヘイズが成長するのを防止するために、容器内に気体を分与する働きをする。
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【課題】フォトマスクを保管し輸送するための装置および方法を提供すること。
【解決手段】フォトマスク保管容器２０は、流体の漏れない壁、フォトマスクをこの容器に出し入れするための開口２８、および保管流体用の封止可能な入口３２を有する。本方法は、開口を通してフォトマスクを保管容器の中に入れること、入口を通して保管流体を容器の中に導入すること、容器開口を閉じること、および保管流体入口を封止することを含み、それにより保管流体はフォトマスクに対して本質的に不活性である。そして、本方法は、容器開口を開くこと、およびフォトマスク表面から保管流体を除去するようにフォトマスクを保管容器から取り出している間じゅう、フォトマスクの表面をアルコール含有ガスと接触させることを含む。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの曇りが発生することにより、半導体の原版であるフォトマスクが使用できない事態となることがある。このとき、ウエハプロセスが突発的に止まる事となり、多大な損失が発生する。
【解決手段】検査対象であるフォトマスクの曇り原因物質量を測定する手段と、露光に影響が出る最低量の曇り原因物質が堆積されたフォトマスクの曇り原因物質量を臨界値として記憶する手段と、検査対象であるフォトマスクの曇り原因物質量と臨界値とを比較することにより、検査対象であるフォトマスクに堆積する曇り原因物質量が臨界値に達する時期を予測する手段とを備えたことを特徴とするフォトマスク管理装置により、析出する曇りの発生時期を把握する。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）