【課題】容器本体の所定位置に固定した状態のペリクルを蓋体で被覆して異物付着を防止しつつ、輸送中にも前記固定状態を確実に維持でき、且つ前記固定状態を簡単に解除してペリクルの取り出しを可能とするペリクル収容容器を提供する。
【解決手段】ペリクル１６を載置した容器本体１２と蓋体１４とから構成され、ペリクルフレーム１６ａの凹部２６に、先端部２８ａを挿入した状態で回動可能のピン２８と、容器本体１２に設けた、ペリクルフレーム１６ａの凹部２６から先端部２８ａが抜き出し可能にピン２８を装着するピン装着部３２と、容器本体１２に被着した蓋体１４の外側からピン装着部３２のピン２８を回動できるように蓋体１４に形成した開口部１４ａと、開口部１４ａの閉塞板４０とを備えたペリクル固定部１８を複数設置し、ピン装着部３２に装着したピン２８を所定角度回動して、ピン２８を保持する突起部３０と切欠部３２ｂとを具備する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム又はイオンビーム撮像機器による極端紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）マスク検査の技術を提供する。
【解決手段】結合モジュールは、開口を定める上側部分と、マスク接触要素と、チャック接触要素と、マスク接触要素と上側部分の間に接続された中間要素とを含むことができる。開口の形状及びサイズは、極端紫外線（ＥＵＶＬ）マスクのパターン転写区域の形状及びサイズに対応することができる。結合モジュールは、マスク接触要素がＥＵＶＬマスクの上側部分に接触した状態でチャック接触要素がＥＵＶＬマスクを支持するチャックに接触するような形状及びサイズとすることができる。結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクがチャック上に位置決めされた時にＥＵＶＬマスクの上側部分とチャックの間に少なくとも１つの導電経路を更に提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 板状体の正面を塞がずに、かつ光源と受光素子とを備えている投受光センサを用いて、板状体を確実に検出する。
【構成】 検出装置は板状体が所定位置に存在するか否かを検出する。検出装置は、板状体の一側面へ向けて斜めにスポット状の検出光を投光する光源と反射光を受光する受光素子とを備えている投受光センサと、投受光センサから見て板状体よりも遠方にあり、かつ板状体が存在しない場合、検出光を拡散反射する拡散反射部と、投受光センサへ入射する反射光の所定の強度以下であることから、板状体を検出する検出部、とを備えている。板状体の側面が透明の場合、板状体の側面へ入射した検出光は板状体の内部で複数回反射し投受光センサとは異なる方向へ出射し、板状体の側面が鏡面状の反射面の場合、板状体の側面へ検出光は斜めに入射して投受光センサとは異なる方向へ正反射する。 （もっと読む）

【課題】短時間の圧力変動による影響が抑制されたＥＵＶＬ用マスク（マスクブランクス）の製造装置の提供。
【解決手段】ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスク（マスクブランクス）の製造装置２０は、クリーンルーム１０のワーキングエリア１１に導入された清浄空気を超清浄化空気として製造装置２０内に導入するファンフィルタユニット２５、搬出入用の開口部２４、排気用の開口部２６を有し、製造装置２０内で超清浄化空気の流通方向において、搬出入用の開口部より下流側、かつ、排気用の開口部よりも上流側の位置に、呼吸機構用の開口部２７が設けられ、製造装置２０内の圧力と、クリーンルーム１０のワーキングエリア１１内の圧力との圧力差の変動に応じて、製造装置２０への清浄空気の導入または排気を行う呼吸機構を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクまたはＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクスの製造装置。 （もっと読む）

【課題】平板状の基板を収納する基板収納ケースの内部に基板が収納されているかどうかの判別を基板収納ケースの外部から容易に認識できる基板収納ケースを提供すること。
【解決手段】収納される基板が平行に載置される底面部と、少なくとも一部が底面部に支持されて該基板を保持できる基板固定治具と、底面部と咬合して基板を密封収納できる蓋部とを有する基板収納ケースであって、ケース内部の基板の有無を表示する基板有無表示部がケース外部から目視可能となるように設置され、基板固定治具への基板の載置の有無に対応して、基板有無表示部の表示変更が行われる。 （もっと読む）

【課題】原版へのパーティクルの付着の防止に有利な技術を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたパターン領域を有する原版を用いて、前記パターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、前記原版を保管するストッカと、前記パターンを前記基板に転写する転写処理を行う処理部と、前記ストッカと前記処理部との間で前記原版を搬送する搬送機構と、を有し、前記搬送機構は、前記パターン領域を覆うように配置されることにより、前記パターン領域を保護する保護プレートと、前記保護プレートに配置され、前記原版の前記パターン領域以外の部分を介して前記原版を保持する保持部と、を含むことを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、フォトマスク基板を保存又は運搬するためのケース内のマスク係止具であって、フォトマスク面に接触せずにケース内にきっちりと定置でき、フォトマスクの破損やずれによる静電気の発生を防止できるマスクケースのマスク係止具を課題とする。
【解決手段】
カーボンを混入した樹脂からなるマスクケースのマスク係止具で、マスクケースの内面の四隅の各角部に設置し、係止具基体から湾曲アームを介して枝部、その上面方向に突起部と該突起部の一面に設けた傾斜面とを有し、マスクの稜線により該傾斜面で枝部上に載置し、該湾曲アームが下方向に撓んで弾力をもってマスクを保持するマスクケースのマスク係止具である。 （もっと読む）

【課題】露光用のマスクを安定に接地可能とする。
【解決手段】レチクルＲを収容するレチクルポッド２０であって、レチクルＲを収容可能なインナーポッド４１と、インナーポッド４１を収容可能なアウターポッド３９と、インナーポッド４１に設けられて、レチクルＲの接地領域８Ａに接触可能な導電性の可動な接触部１３２Ａと、インナーポッド４１のアウターポッド３９との接触部であるベースプレート５３と接触部１３２Ａとを導通する板ばね１５４とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板ケースをドライ洗浄で実施するにあたり、被洗浄物が複雑な形状を含む場合であっても洗浄可能な基板ケース洗浄装置を提供する。
【解決手段】シリコンウェハやフォトマスクなどの異物の付着を嫌う基板を保持するドア部２と、前記ドア部２を周囲の雰囲気と遮断することによって保持された基板に異物が付着するのを防止するためのカバー部と、前記ドア部２に設けられたパッキン５であって、前記ドア部２と前記カバー部を密封するためのパッキン５と、を備えている基板ケースの前記ドア部２の洗浄装置１であって、少なくとも前記ドア部を載置し回転させるためのターンユニット３と、前記ドア部２に向って洗浄用ガスを噴出するガス噴出ノズル４と、を備えていることを特徴とする基板ケース洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】収納容器に対するレチクルの位置決めに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に転写すべきパターンと第１マークとが形成されたパターン面を有するレチクルを収納する収納容器であって、前記パターン面を保護するためのベースプレートと、前記ベースプレートに配置され、前記パターン面を介して前記レチクルを支持する支持部と、前記レチクルの前記パターン面とは反対側の面を保護するように、前記ベースプレートに載置されるカバーと、を有し、前記ベースプレートは、前記支持部に支持された前記レチクルの前記第１マークを観察するために光透過部材で構成されたウィンドウ部を含み、前記ウィンドウ部に第２マークが形成されている、ことを特徴とする収納容器を提供する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制しつつレチクルを容器に位置決めするのに有利な技術を提供する。
【解決手段】容器は、レチクルを収容するインナーケースと、アウターケースとを含む。インナーケースは、ベースプレートと、インナーカバーと、レチクルの面取り部と接触してレチクルを位置決めする第１位置決め部材と、を含む。第１位置決め部材は、面取り部との接触面がベースプレートの上面に対して同一方位での仰角をもって傾斜し、第１位置決め部材が押し付け部で押されて面取り部と最初に接触する第１傾斜面１２２と、第１傾斜面１２２より上方に形成されて第１傾斜面１２２より後に面取り部と接触する第２傾斜面１２１と、を含み、第１傾斜面１２２と第２傾斜面１２１とが第１位置決め部材の外に成す角は１８０°未満である。 （もっと読む）

【課題】少なくともひとつの辺長が１０００ｍｍを超えるような特に大型のペリクルを収納したペリクル収納容器を傾斜及び脱落させることなく安定にかつ清浄な状態を保ち保管するとともに、ペリクル収納容器及び収納されているペリクルに十分な緩衝能力を発揮して衝撃や振動を与えず、輸送及び運搬することが可能なペリクル用梱包箱を提供する。
【解決手段】ペリクル用梱包箱１は、少なくともひとつの辺長が１０００ｍｍを超えるペリクルを収納するペリクル収納容器３０を保管及び／又は輸送するための梱包箱であって、該梱包箱の内部底面に、該ペリクル収納容器の外部底面に突出した複数の脚部３３を夫々挿入する凹みを有する複数の緩衝体１８が、分離して取り付けられているものである。 （もっと読む）

【課題】外箱を必要とせず、使用する材料が少なく、梱包開梱の作業負荷が少なく、また、使用しないときは折り畳んで、少ないスペースで保管でき、耐衝撃性と断熱性に優れた基板収納ケースを提供する。
【解決手段】底面部と正面部と背面部と対向する２つの側面部と開放された開口部を有するケース本体と、ケース本体の開口部を塞ぐケース蓋からなる基板収納ケースであって、ケース本体が、周縁部を接着された、折り曲げ可能な２枚のシートからなり、シートに取り付けられた気体注排口より気体を２枚のシートの間に、注入することによって、直方体形状が保持され、気体注排口より気体を排出することによって、折り畳み可能にする。 （もっと読む）

【課題】シート材を成形したものでありながら、他の補強体を用いずとも、保管、輸送中の外力に耐え、内部に収納したペリクルへの異物付着を防止する十分な剛性を有する、軽量かつ低コストのペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】ペリクルを載置する容器本体と、ペリクルを被覆すると共に容器本体と周縁部で嵌め合い係止する蓋体とからなる樹脂のシート材を成形した少なくとも一辺の長さが５００ｍｍを超えるペリクル収納容器において、容器本体の互いに平行な２辺が、側面方向から見た場合に、蓋体と嵌め合い係止した周縁部の内側に少なくとも２段の立面を有する階段形状に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクへの塵の付着を抑制しつつ、フォトマスク表面に付着した有機化合物を除去可能なマスクケースを提供する。
【解決手段】内部空間にフォトマスクが収納されるケースである。前記フォトマスクに対向する底面に真空紫外光透過部（５）を有し、前記内部空間と連通したガス流入孔（７）およびガス流出孔（８）が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスク用ガラス基板等の表面の品質及び収納ケースの内部に異物が存在するかを容易に検査することができる収納ケースを提供する。
【解決手段】 フォトマスク用基板１７を収納する収納ケース１１は、蓋１２とケース本体１３とから主に構成されている。蓋１２とケース本体１３とは金属材料からなる。蓋１２がケース本体１３に接合されると、収納ケース１１の内部に基板収容室５１が形成される。基板収容室５１を画成する内面５２，５３には黒色皮膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】磨耗粉を低減することのできるペリクル収納ケース用コーナークリップを提供する。
【解決手段】ペリクルを載置するトレイと、ペリクルを覆うように前記トレイと嵌合するカバーとで構成される、ペリクル収納ケースに用いるコーナークリップ。前記コーナークリップの素材が、デュロメータ硬度がD58〜D64の樹脂であることが特徴である。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
本発明は、大型精密部材を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバーとを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバーのうち、少なくともトレイ３を鋳造部材とし、当該鋳造部材の少なくとも大型精密部材を収納する空間を形成する面に導電性塗膜４０を形成し、その導電性塗膜４０の表面を、５μｍ以下の算術平均粗さ（Ｒａ）で、かつ２０μｍ以下の十点平均粗さ（Ｒｚ）とする大型精密部材収納容器１に関する。 （もっと読む）

【課題】蓋体に吸着盤等が吸着可能であると共に、撓みにくい大型精密部材収納容器を提供すること。
【解決手段】大型精密部材４を載置する容器本体３と、容器本体３に係合可能であり、かつ、大型精密部材４を覆う蓋体２を少なくとも含む大型精密部材収納容器１において、蓋体の容器本体３に対向する天面２１は、天面２１の略中央部に位置する平面部２３、および天面２１の外周から平面部２３の外周まで延出し、平面部２３を支持する略平面の斜面部２４を少なくとも有し、平面部２３は、斜面部２４の外周端から、天面２１の長手方向の長さの０．２〜０．８％の高さだけ上方向に位置し、平面部２３の長手方向の長さは、天面２１の長手方向の長さの１／２以下であると共に、平面部２３の短手方向の長さは、天面２１の短手方向の長さの１／２以下としている。 （もっと読む）