【課題】 原板の画像パターンを感光性スクリーンに正確に焼付けることができ、しかも、優れた作業性の得られる真空密着焼付装置の提供。
【解決手段】 内部に露光用光源が配置された筺体と、この筺体に設けられた透光板上に載置される、原板およびスクリーン枠体に感光性スクリーンが張られてなる感光体材料の感光性スクリーンを真空密着させる減圧手段および押圧手段とを備えた真空密着焼付装置であって、押圧手段は、前記スクリーン枠体内に収容されて、感光性スクリーンにおける有効領域を囲むよう当該感光性スクリーンに当接されて配置されるシール部材と、このシール部材の中央開口を覆うよう設けられた可変形性を有するシート体とにより構成され、押圧手段および感光性スクリーンによって囲まれる密閉空間内が減圧されることにより感光性スクリーンと原板とが真空密着される。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示される部分構造を有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。


（式中、Ｒ⁰は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜８のアルキル基又はアルキレン基であり、Ｒ¹は炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基又はアルキレン基で、少なくとも１個以上のフッ素原子を含む。）
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光流体とレンズの汚染を減少し、ウェハ上の欠陥を減少する液浸リソグラフィ処理を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上に液浸リソグラフィを実施する方法を提供する。この方法は、半導体ウェハの表面にレジスト層を提供する工程を有する。次に、エッジビード除去処理により、毎分1000回転よりも速い速度でウェハを回転し、このウェハの回転中にノズルを通して溶剤を供給する。次に、液浸リソグラフィ装置を使用して、レジスト層を露光する。 （もっと読む）

【課題】基板にレジストを塗布し、露光後の基板を現像する塗布、現像装置において、露光処理の際の基板温度の安定化を図り、露光処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】レジストの塗布、現像を行う処理部Ｓ１の棚ユニットＵ１〜Ｕ３内に、レジスト塗布後の基板を加熱する加熱部と加熱された基板を冷却する冷却部とを設ける。そして処理部と露光装置との間に介在するインターフェイス部Ｓ３の棚ユニットＵ４に、露光前の基板を載置して当該基板の温度を露光処理に適した温度に調整するための温調プレートを備えた温度調整部を設け、前記冷却部で冷却した基板をこの温調プレートにより高精度に温度調整する。 （もっと読む）

【課題】所定の立体面を有する三次元微小成形体の成形精度を向上させることのできる感光性樹脂組成物および該組成物を用いたドライフィルムを提供する。
【解決手段】化学線露光量（ｍＪ／ｃｍ²）をｘとし、その露光量による樹脂硬化量を現像前の塗布膜厚ｈ（μｍ）に対する現像後の残膜厚Δｈ（μｍ）の比ｙ（＝Δｈ／ｈ）で表わし、ｘとｙとの関係式ｙ＝αＬｎ（ｘ）±β（βは任意の実数）を求めた場合、０．３５≦α≦０．７８である光感度を有する組成物を三次元微小成形体製造用の感光性樹脂組成物として用いるとともに、該組成物を用いて感光性ドライフィルムを得る。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーにおいて良好なパターンを形成することが可能なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成するＳ１１。レジスト膜上に保護膜を形成するＳ１２，Ｓ１３。光学系の最終要素と保護膜との間の少なくとも光路を選択的に屈折率が空気よりも大きい液浸液で満たす液浸機構とフォトマスク上のパターンをレジスト膜へ投影するためのスキャン動作に応じて液浸機構と基板との相対的な位置を変化させる移動機構とを有する液浸露光装置によってレジスト膜を露光するＳ１４。保護膜を剥離するＳ１６。レジスト膜を現像するＳ１７。レジスト膜および保護膜は、液浸液の保護膜上における接触角が、保護膜上に液浸液が滴下された後に一度低下した後に上昇する特性を示すように形成される。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時に用いられる液浸溶液による問題の発生を抑制すること。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜上に保護膜を形成するための塗布溶液を前記レジスト膜上に塗布すること及び必要に応じて加熱することによって前記レジスト膜上に前記保護膜を形成する工程と、液浸溶液を用いる液浸露光法によって前記レジスト膜にパターンを転写することによって、前記レジスト膜に潜像を形成する工程と、前記潜像形成後、前記保護膜を剥離する工程と、前記剥離後、前記基板上にレジストパターンを形成するために前記レジスト膜を現像する工程とを含むパターン形成方法において、前記塗布液膜形成後と前記保護膜を剥離する前との間に、前記保護膜の欠陥有無を検査するために第１の検査を行う工程と、前記検査時に前記欠陥があった場合、予め決められた所定の処理を行う工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光方法を採用した場合においても、微細で精細なレジストパターンを形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されたフォトレジスト膜の所定位置に、液体を媒体として光を照射する露光工程と、前記露光工程の後、前記フォトレジスト膜を加熱するポスト・エクスポージャー・ベーク（ＰＥＢ）工程と、前記ＰＥＢ工程の後、前記露光工程により光が照射された前記フォトレジスト膜を現像する現像工程とを含むレジストパターン形成方法において、前記露光工程の後で、前記ＰＥＢ工程の前に、前記フォトレジスト膜の上面、基板の側面及び裏面の少なくとも何れかの箇所に残存する液体を低減又は除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光方式における媒体となる液体の汚染や変質を有効に防止し、基板上に高精度にフォトレジストパターンを形成することが可能なフォトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板２上にフォトレジスト膜３と上層膜４とが配設されたフォトレジストパターン形成用基板１を得、液体を媒体として露光を行うことで、基板２上に所定のレジストパターンを形成する方法であって、フォトレジストパターン形成用基板１を得るに際し、基板２上の略全域にフォトレジストを塗布した後、少なくとも露光領域６を残すように、基板２の外周側に塗布したフォトレジストの少なくとも一部を除去してフォトレジスト膜３付き基板７を得、得られたフォトレジスト膜３付き基板７上の略全域に、上層膜成分４ａを塗布してフォトレジストパターン形成用基板１を得るフォトレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 感光層の感度低下を効果的に抑制でき、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体が、第一の形態ではヘイズ値が４．０％以下であり、第二の形態ではその少なくとも片面に不活性粒子が塗布され、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、０．１〜１０（ｍＪ／ｃｍ^２）であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

レジスト膜上に設けられる、液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料であって、露光光に対して透明で、液浸露光用の液体に対して実質的な相溶性を持たず、かつ前記レジスト膜との間でミキシングを生じない特性を有する材料、当該材料により形成された保護膜及びレジスト膜を有する複合膜、及びこれらを用いたレジストパターン形成方法が提供され、これらにより、液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液体の変質を同時に防止し、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光前にレジスト膜表層を親水性化することにより、液浸露光時にレジスト界面の浸液におけるマイクロバブルの発生を防止する。
【解決手段】 シリコン基板１上に導電膜３を形成し、導電膜３上にレジスト膜２を形成する。シリコン基板１を活性酸素雰囲気に曝しながらレジスト膜２に真空紫外光４を照射することにより、レジスト膜２の表層に酸化層５を形成して、レジスト膜２表層を親水性化する。露光装置の投影レンズとレジスト膜２との間に浸液２７を満たし、該浸液２７を介してレジスト膜２に対して露光光２３を照射する。 （もっと読む）

【課題】 煩雑な工程で形成されるレジストパターンを用いずに微細なパターンを形成し得る方法を提供する。
【解決手段】 基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセス、中でもリソグラフィー露光光がレジスト膜に到達する経路の少なくとも前記レジスト膜上に空気より屈折率が高くかつ前記レジスト膜よりも屈折率が低い所定厚さの液体を介在させた状態で露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる液浸露光プロセスにおいて、液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜形成用材料を除去するための保護膜除去用溶剤であって、フッ素系溶剤を含む液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤を用いることにより、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。
【解決手段】液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜形成用材料を除去するための保護膜除去用溶剤であって、フッ素系溶剤を含む液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤を用いて前記保護膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】印刷版原版の感光層の表面の酸素を確実に遮断した状態で感光層を露光することが出来る印刷版原版露光装置を提供する。
【解決手段】
透明基板の表面と押さえ部材の底面部および側壁面とで形成される閉空間を真空排気手段によって真空排気して、前記側壁部を徐々に屈曲させつつ、前記底面部に保持された前記印刷版原版の前記感光層を前記一端側から徐々に前記透明基板表面に密着させていき、前記透明基板の表面に前記印刷版原版の前記感光層の全面を略完全に密着させ、前記印刷版原版の前記感光層から酸素を遮断する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型感光性樹脂を用いて、厚さの異なる画像を形成する方法を提供する。
【解決手段】基板と該基板上に形成されたポジ型感光性樹脂層とからなる感光性積層体に、第一の領域には、実質的に光の照射を行なうことなく、第二の領域には、当該領域の感光性樹脂層の表面側の一部の厚み部分までが変性するようなエネルギー量の光を照射し、そして第三の領域には、当該領域の感光性樹脂層の全てが変性するようなエネルギー量の光を照射する工程、及び、この光処理を行なったポジ型感光性樹脂層に現像液を接触させることにより、該感光性樹脂層の変性部分を溶解除去する工程からなる、基板上に、少なくとも、相対的に厚い樹脂層からなる凸部樹脂領域、相対的に薄い樹脂層からなる凸部樹脂領域、そして基板露出領域から構成される画像パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】 前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、印刷版等に利用される網点画像を高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を有するパターン形成材料における該感光層に対し、
光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して網点画像が形成されるように露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合反応により硬化する感光層（膜）を有する印刷版原版の、酸素を遮断し他状態で露光した後の経過時間による重合率の変化に配慮し、製版作業の能率を低下させることなしに、良好な性能の印刷版を作製可能とした印刷版の作製方法および装置を提供すること。
【解決手段】酸素遮断層を有さない印刷版に、光重合によって潜像形成を行う印刷版の作製方法であって、酸素を遮断して行う露光時に、印刷版上での走査露光順序に応じて予め定められた露光パワーにより、印刷版上の各位置の露光を行うことを特徴とする印刷版の作製方法、並びにこれを具体化した装置。 （もっと読む）

流体（Ｌ３）中に浸漬されたレジスト（Ｌ２）等の感光層をパターニングするために照射する方法は、除去可能な透明層（Ｌ４，Ｌ５）を配置するステップと、流体中の不完全部分が表面上に投影された焦点から外れるように浸漬流体及び透明層を通じてレジスト上に照射線を投射するステップと、その後に透明層を除去するステップとを含んでいる。透明層は、表面上の照射線の焦点からそのような不完全部分を離間させるように機能することができ、そのため、シャドーイングを減少させ又は排除することができる。従って、照射がより複雑となる可能性があるが、欠陥が減少する。それは、特に例えば流体／表面の界面における浸漬流体中の小さな気泡又は粒子の形態をなす不完全部分において特に有効となり得る。照射線は、検査、処理、パターニング等を含む任意の目的のためのものであってよい。透明層の除去は、レジスト層を現像するステップと組み合わせることができる。
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