パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体が、第一の形態ではヘイズ値が４．０％以下であり、第二の形態ではその少なくとも片面に不活性粒子が塗布され、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、０．１〜１０（ｍＪ／ｃｍ^２）であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体のヘイズ値が、４．０％以下であり、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜１０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
支持体の全光線透過率が、８６％以上である請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
支持体のヘイズ値、及び、支持体の全光線透過率を求める場合の光の波長が、４０５ｎｍである請求項１から２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項４】
支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体の少なくとも片面に不活性微粒子が塗布され、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜１０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項５】
支持体が、二軸延伸ポリエステルフィルムである請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
露光に用いる光の最小エネルギー量を求める場合の露光波長が、４０５ｎｍである請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
重合性化合物が、プロピレンオキシド基を含む化合物、エチレンオキシド基を含む化合物、ウレタン基を含む化合物、及びアリール基を含む化合物から選択される少なくとも１種を有する請求項１から６に記載のパターン形成材料。
【請求項８】
重合性化合物が、プロピレンオキシド基を含む化合物、ウレタン基を含む化合物、及びアリール基を含む化合物を少なくとも含む請求項１から７のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項９】
重合禁止剤が、フェノール性水酸基を少なくとも２個有する化合物、イミノ基で置換された芳香環を有する化合物、イミノ基で置換された複素環を有する化合物、及びヒンダードアミン化合物から選択される少なくとも１種である請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１０】
感光層が、増感剤を含む請求項１から９のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１１】
増感剤が、縮環系化合物である請求項１０に記載のパターン形成材料。
【請求項１２】
感光層上に保護フィルムを有し、該保護フィルムが、ポリプロピレン樹脂、エチレン−プロピレン共重合樹脂及びポリエチレンテレフタレート樹脂から選択される少なくとも１種を含む請求項１から１１のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１５】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項１４に記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
非球面が、トーリック面である請求項１５に記載のパターン形成方法。
【請求項１７】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項１４から１６のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１８】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項１７に記載のパターン形成方法。

【図１】