【課題】 スカム及びウォーターマーク欠陥が少ないパターンの形成を可能とする。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）と、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含んだ樹脂（Ｃ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】より低温で耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、より耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物から得られたパターンを、５０℃〜１８０℃の条件下で、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２露光する硬化されたパターンの製造方法において、樹脂が、炭素数２〜４の環状エーテルを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化されたパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】４００ｎｍ〜９００ｎｍの波長範囲のレーザー光露光に対して高感度であり、特に感光性組成物を支持体上に塗布するための塗布液の経時安定性が改良された感光性組成物、および耐刷性と地汚れが改善された感光性平版印刷版材料を与えること。
【解決手段】（Ａ）一般式Ｉで示される有機ホウ素塩、（Ｂ）トリハロアルキル置換化合物、（Ｃ）４００ｎｍ〜９００ｎｍの波長範囲に吸収を有するシアニン系色素、および（Ｄ）重合性二重結合基を有する化合物を含んでなる感光性組成物。
【化１】
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【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及び現像欠陥性能に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ＬＤ）により表される部分構造を備えた酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】低温のキュア条件においても比抵抗率の低い有機−無機複合導電性パターンが得られ、且つ高い感光特性により微細パターニングが可能という効果を有する、有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法を得る。
【解決手段】 アルコキシ基を有する化合物（Ａ）、不飽和二重結合を有する感光性成分（Ｂ）、該不飽和二重結合を有する感光性成分（Ｂ）と反応する重合性基を有する脂環式化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、および導電性フィラー（Ｅ）を含むことを特徴とする感光性導電ペーストとする。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュード、溶解識別性及び耐刷性に優れ、露光後の経時による現像性の低下が少ない赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含む下層と、スルホンアミド基、活性イミド基及び／又はアミド基を有するグラフト共重合体を含む上層と、を順次積層してなり、前記グラフト共重合体が、エチレン性不飽和単量体に由来する構成単位をグラフト鎖として有するポリウレタン樹脂であることを特徴とする赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】低温のキュア条件においても比抵抗率の低い有機−無機複合導電性パターンが得られ、且つ高い感光特性により微細パターニングが可能という効果を有し、各種基板上に微細なバンプ、配線などを容易に形成することができる、有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法を得る。
【解決手段】 ２以上のアルコキシ基を有する化合物（Ａ）、不飽和二重結合を有する感光性成分（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および導電性フィラー（Ｄ）を含むことを特徴とする有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストとする。 （もっと読む）

【課題】指紋跡汚れの発生を防止することができる、１液処理が可能な平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体と（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）バインダーポリマーを含有する画像記録層とを有する平版印刷版原版であって、前記支持体表面がヒドロキシカルボン酸塩で処理されているか又は前記支持体に接する層がヒドロキシカルボン酸塩を含有することを特徴とする平版印刷版原版及びこの平版印刷版原版を、ｐＨ２〜１１の現像液で現像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】ｐＨが５〜８の現像液を用いて現像可能な平版印刷版の製造方法において、非画像部の溶出性と画像部の耐刷性を両立することが可能なネガ型平版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム支持体の陽極酸化処理後、燐酸エステル化された多糖類を含む処理液で親水化処理を施し、その後に、少なくとも光ラジカル発生剤、可視光から赤外光の波長領域に吸収を有し前記光ラジカル発生剤を増感させる増感剤及びエチレン性二重結合を有する化合物を含有する感光層を設けることを特徴とするネガ型平版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

感光性印刷ブランクからレリーフ像印刷要素を作製する方法を提供する。少なくとも１つの光硬化性層上に配置されたレーザアブレーション可能な層を有する感光性印刷ブランクをレーザアブレーションして、その場マスクを作製する。次いで、その場マスクを通して少なくとも１つの化学線源に前記印刷ブランクを曝露して、光硬化性層の一部を選択的に架橋し、硬化させる。曝露工程中の少なくとも１つの光硬化性層への空気の拡散を制限し、曝露工程中に、少なくとも１つの化学線源の照明の種類、出力、及び入射角のうちの少なくとも１つを変化させることが好ましい。得られたレリーフ像は、複数のドットを含み、段ボールに印刷するために印刷フルーティングに対する耐性の高いドット形状の複数のドットが生成される。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度、耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）下記式（１）で表される酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、ハロゲン原子、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表し、隣接するＲ₁〜Ｒ₅が互いに連結して環を形成してもよく、Ｘ^-は共役塩基を表す。 （もっと読む）

本発明は、式（I）又は（II）の酸、例えば、相応するスルホニウム塩及びインドニウム塩ならびに相応するスルホニルオキシムを生成する化合物に属し、式（I）又は（II）中、ＸはＣＨ₂又はＣＯであり；ＹはＯ、ＮＲ₄、Ｓ、Ｏ（ＣＯ）、Ｏ（ＣＯ）Ｏ、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ₄ 、ＯＳＯ₂、Ｏ（ＣＳ）又はＯ（ＣＳ）ＮＲ₄ であり；Ｒ₁は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、中断されているＣ₂〜Ｃ₁₈−アルキル、中断されているＣ_３〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、中断されているＣ_３〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、中断されているＣ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ビフェニリル、フルオレニル又はヘテロアリールであり、全て非置換であるか又は置換されている；又はＲ₁は、ＮＲ₁₂Ｒ₁₃であり；Ｒ₂とＲ₃は、例えば、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキレン、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキレン、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキレン、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキレン、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニレン、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニレン、フェニレン、ナフチレン、アントラシレン、フェナントリレン、ビフェニレン又はヘテロアリーレンであり；全て非置換であるか又は置換されている；Ｒ₄は、例えばＣ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり；Ｒ₁₂とＲ₁₃は、例えばＣ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル、Ａｒ、（ＣＯ）Ｒ₁₅、（ＣＯ）ＯＲ₁₅又はＳＯ₂Ｒ₁₅であり；かつＡｒは、フェニル、ビフェニリル、フルオレニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル又はヘテロアリールであり、全て非置換であるか又は置換されている。
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【課題】分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。
【解決手段】本パターン形成材料は、カチオン性基を有する水溶性有機化合物を主成分とする組成物と、組成物を溶解する、水または水と水溶性有機溶媒との混合溶媒を含有するパターン形成材料であって、水溶性有機化合物中のカチオン性基とレジストパターン中のアニオン性基とが塩形成による不溶化膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コーティング時の膜厚の面内均一性が良好で保存安定性が良好な感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。
【解決手段】ポリイミド構造、ポリベンゾオキサゾール構造、ポリイミド前駆体構造、及びポリベンゾオキサゾール前駆体構造からなる群から選ばれる１種以上の構造を有する樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部、テトラヒドロフルフリルアルコール及びフルフラール、フランカルボン酸アルキルエステルで代表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む溶剤（Ｂ）１０〜１０００質量部、並びに感光剤（Ｃ）０．１〜１００質量部、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単層レジストプロセス、多層レジストプロセス、サイドウォールスペーサー法用等のレジスト膜の下層のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、現像後のレジストパターンの裾引きが抑制され、また、アンダーカット形状や逆テーパー形状を抑制し、パターン倒れがないレジスト下層膜材料、及びこれを用いてリソグラフィーにより基板にパターンを形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有し、光及び／又は熱によってスルホン酸を発生する高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化１】
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【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜、を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、（Ａ）熱不安定基で保護されたカルボキシル基を有するフラーレン誘導体と、（Ｂ）有機溶剤とを含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、ポリシロキサンと、感放射線性酸発生剤と、下記一般式（ＣＩ）で表される繰り返し単位を有する重合体と、溶剤と、を含有する。


〔一般式（ＣＩ）において、Ｒ^１は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜５のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を示す。Ｘはラクトン構造又は環状カーボネート構造を有する１価の基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】より優れた形状及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基；Ｘ^１は炭素数２〜３６の複素環であり、該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基で置換されていてもよく、該複素環に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物及び、このような組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基、及び酸不安定基を含むポリマー、及び末端ビニルエーテル基を有する架橋剤を含み、更に光酸発生剤を含むかまたは含まない、上記組成物及び、このような組成物の使用方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、機械特性、化学薬品耐性、基板密着性に優れた硬化物となり、低温プロセスで硬化可能な、感度及び解像度に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ水溶液に可溶なポリベンゾオキサゾール又はアルカリ水溶液に可溶なポリベンゾオキサゾール前駆体、（ｂ）光の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）エポキシ基を有する化合物を含有してなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）