【課題】 煩雑なエッチング工程等を施すことなく、簡便に多層構造が形成できる、絶縁パターン形成方法及び樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 〔Ｉ〕基板上に有機パターンを形成する工程と、
〔II〕前記有機パターンのパターン間に絶縁材料を埋め込む工程と、
〔III〕前記有機パターンを除去し、前記絶縁材料からなる反転パターンを得る工程と、
〔IV〕得られた反転パターンを硬化させる工程と、
を有することを特徴とする、絶縁パターン形成方法と、ダマシンプロセス用絶縁パターン形成材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】より良好なパターン形状を有する接着剤フィルムを形成する方法及びこの方法に用いられる感光性接着シートを提供すること。
【解決手段】基材２と、基材２上に設けられた感光性接着フィルム１と、を備える感光性接着シート４ａ。当該感光性接着シートを、被着体に感光性接着フィルムが被着体側になる向きで貼り付ける工程と、基材を除去してから感光性接着フィルムを露光する工程と、露光された感光性接着フィルムを現像して、パターニングされた接着フィルムを形成させる工程とを含む方法により、パターニングされた接着フィルムを形成するために用いられる。 （もっと読む）

【課題】サイズが大型化した有機ＥＬ素子を凸版印刷法によって形成するための樹脂凸版を、フォトリソグラフィー法でパターニングする際に、スプレー式現像方法をもちいながら、パターン精度が高く、かつ現像ムラ等を無くした製版を行う方法とその方法で得られる印刷用凸版を提供する。
【解決手段】版材の感光性樹脂を露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂を現像する現像工程とを供え、現像工程は版材全体を現像液に浸漬させる浸漬段階と、浸漬後の感光性樹脂の不要箇所をスプレー型の噴出口より噴射される現像液により除去し現像する現像段階と、現像後の感光性樹脂上の現像液の残渣をスプレー型の噴出口より噴射される洗浄液により除去する洗浄段階と、洗浄後の感光性樹脂表面に気体を吹き付け洗浄液を除去する洗浄液除去段階とを具備し、少なくとも現像段階と洗浄段階との版材搬送部が版材搬送方向と直行する水平面に対して傾斜した角度を有する。 （もっと読む）

【課題】硬度及び光沢性が高く、耐衝撃性に優れるとともに、所望の色を発色することが可能な発色材を提供する。
【解決手段】平滑な主面を有する金属下地膜と、前記金属下地膜の前記主面上に形成された、着色材からなる複数の島状部と、前記金属下地膜の前記主面上において、前記複数の島状部の間の空隙を埋めるとともに、上面が、前記複数の島状部の上面位置以上の高さに位置するように形成された金属膜と、を具えるようにして発色材を構成する。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）を有する第一の重合体を含む重合体成分と、（Ｂ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、相互に独立に、炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基等を示す。Ｒｆは、少なくとも１つのフッ素原子を有するともに、ＣＯＯＲ^４で表される基を有する有機基等を示す。） （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、低線熱膨張係数を示す、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（Ａ）（ａ１）カルボキシル基含有構造単位及び（ａ２）エポキシ基含有構造単位を有する共重合体、並びに
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物
（Ｃ）感放射線性重合開始剤
（Ｄ）一般式（1）及び（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも一方を含むことを特徴とする表示素子用感放射線性樹脂組成物によって達成される。 （もっと読む）

【課題】残膜率が向上するレリーフパターンの製造方法、及び当該製造方法で形成されたレリーフパターンを有する電子部品を提供する。
【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、当該塗膜又は成形体に所定パターン状に電磁波を照射後、未露光部の塗膜を除去してパターンを形成する現像工程の前に、当該塗膜又は成形体を加熱する工程を有するレリーフパターンの製造方法であって、前記加熱する工程が、系外から積極的かつ継続的に気体が供給され、且つ、当該塗膜又は成形体から発生する揮発性成分が系外に積極的に除去される雰囲気下で、熱媒体を介するか、電磁波の輻射により、当該塗膜又は成形体を加熱する工程であることを特徴とする、レリーフパターンの製造方法である。 （もっと読む）

【解決手段】（ｉ）下記（Ａ）〜（Ｃ）成分含有の化学増幅ポジ型レジスト材料を基板に塗布しレジスト層を形成する工程、
（Ａ）ヒドロキシスチレン単位、およびｐ-アミロキシスチレン化合物単位、および/又はスチレン化合物単位、および/又はアルキル（メタ）アクリレート単、のの繰り返し単位を有するＭｗ１，０００〜５００，０００の高分子化合物、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）アゾベンゼン構造含有化合物、
（ｉｉ）加熱処理後、フォトマスクを介して放射線又は電子線で露光する工程、
（ｉｉｉ）加熱処理後、現像する工程、を有し、現像後の断面パターン形状においてパターン側壁が基板面に対し７０°以上８７°未満の角度面を有すレジストパターン形成方法。
【効果】保存安定性が高く、プロセス適応性を有し、パターン側壁角度の制御性能に優れ、高解像度で電解メッキ耐性を与えるレジストパターンを形成し得る。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、経時でｐＨが安定かつ膜形成性に優れた現像液、水洗工程を必要としない１液１工程の簡易処理によっても、現像性及び現像カス分散性に優れ、非画像部の汚れが抑制された平版印刷版を作製できる平版印刷版の作製方法、及び、この平版印刷版の作製方法を用いて印刷を行う印刷方法を提供する。
【解決手段】２つ以上の単糖が結合した非還元性糖類を有し、ｐＨが６以上１４以下であることを特徴とする平版印刷版原版処理用の現像液、並びに、これを用いた平版印刷版の作製方法及び印刷方法。 （もっと読む）

【課題】良好な焦点深度をはじめとする良好な解像度を提供する新規のフォトレジストシステムの提供。
【解決手段】樹脂、光活性成分、およびフェノール系成分；を含む化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物のレリーフ像を半導体基体上にコーティングした半導体基体を提供し；並びにイオンを前記基体に適用する；ことを含む、イオン注入された半導体基体を提供する方法 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜としてシリカ系被膜の形成が容易で保存安定性に優れ、比較的安価で、耐熱性、クラック耐性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、下記一般式（２）で表される化合物を含む第２のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第２のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られる重量平均分子量が８０００〜３０００００であるシロキサン樹脂と、溶媒と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】保護層及び非露光部の感光層を同時に除去する工程を含み、かつ、水洗工程を含まない現像処理工程を含む平版印刷版の製版においても、ランニング時に、現像カスの発生が少なく、現像性が良好に維持されるという優れた処理安定性を満足するとともに、耐刷性に優れる平版印刷版を製版することができる平版印刷版の作製方法を提供する
【解決手段】（ｉ）親水性支持体、（ｉｉ）（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）増感色素、及び、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層、並びに、（ｉｉｉ）（Ｅ）特定構造の繰り返し単位を有する重合体を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版を、レーザー露光した後、界面活性剤を含有する現像液の存在下、保護層及び非露光部の感光層を同時に除去する工程を含み、かつ、水洗工程を含まない平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、自然経時により発生する微小残膜を抑制する平版印刷版原版を提供すること、並びに、前記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷版を提供すること。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、（成分Ａ）複素環を有する高分子顔料分散剤、及び、（成分Ｂ）顔料、を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。前記平版印刷版原版を、画像露光する露光工程、及び、現像液により現像処理する現像工程、を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。前記平版印刷版の製版方法により製造されたことを特徴とする平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】高い画像再現性と柔軟性とを両立した印刷版を得ることのできる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】水溶性ポリマーまたは水膨潤性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物であって、前記エチレン性不飽和化合物（Ｂ）が、ポリエチレングリコール骨格を有し、分子中にエチレン性不飽和結合を１個だけ有する分子量４００〜８００の化合物（ｂ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い溶解度及びｉ線、ｇ線透過率を有しながら最終的なポリベンズオキサゾール樹脂の耐熱性及び機械特性を損わないポリベンズオキサゾールの前駆体を使用したレリーフパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ｉ）下記一般式［Ｉ］


で表されるポリアミドを光酸発生剤と共に有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液をキャストしてポリアミドフィルムを得、得られたポリアミドフィルムを活性光線でパターン露光し、次いでアルカリ溶液で現像して露光部分を除去し、さらにこのポリアミドフィルムを加熱してフィルム中のポリアミドをポリベンズオキサゾールに変換する工程を含むレリーフパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】水による現像を行う感光性平版印刷版材料に関して、処理装置を用いて現像処理を続けていった場合のスラッジおよび現像ムラの発生を改善し、耐汚れ性、インキ乗り性に優れたネガ型の感光性平版印刷版材料を提供する。
【解決手段】支持体上に親水性層および水溶性重合体を含む光重合性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料において、支持体上の少なくとも一層が分子中にアルキン構造を有さない高級アルコール系消泡剤を含むことを特徴とする感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】高感度で安定した感度で製造でき、コンタクトホールのパターニング性能やＩＴＯスパッタ耐性、耐熱透明性に優れる硬化膜を、スリットコートで製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂組成物を１０℃以下の温度にする工程、感光性樹脂組成物を基板上にスリットコートする工程、塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、溶剤を除去した感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程、室温で４５秒以上経過させる工程、水性現像液により現像する工程、熱硬化する工程を含み、感光性樹脂組成物が、（成分Ａ）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、架橋基を有する構成単位、カルボキシ基及び／又はフェノール性水酸基を有する構成単位を含有する共重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤並びに（成分Ｃ）溶剤を含有する硬化膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。上記レジスト組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、下記成分（Ｓ１）及び成分（Ｓ２）の少なくとも一方を含んだ溶剤とを含有している。
（Ｓ１）プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート；
（Ｓ２）プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル、鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、及びアルキレンカーボネートからなる群より選択される少なくとも１つ。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層における未露光部については高残膜率を維持でき、かつ、露光部については現像後において未露光部に対して高いパターンコントラストを得る。
【解決手段】化学増幅型レジスト層を基体上に形成する工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光前ベークを行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して所定のパターン露光を行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光後ベークを行う工程と、を有し、前記露光前ベーク時間の方が、前記露光後ベーク時間よりも長くする。 （もっと読む）

【課題】合成が容易で、触媒活性が高い塩基である３級のアミンやアミジンを発生可能な塩基発生剤、及び当該塩基発生剤を用いた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸と塩基を含む構造を有し、電磁波の照射により塩基を発生することを特徴とする塩基発生剤、並びに、当該塩基発生剤及び塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）