【課題】本発明は、基板処理装置に関する。
【解決手段】本発明の実施例によると、第１外壁で取り囲まれ、処理液を噴射する上部チャンバと、上部チャンバの下部に形成され、第２外壁で取り囲まれており、第２外壁に平行に離隔されるように形成された隔壁を含み、上部チャンバから噴射された処理液を回収する下部チャンバと、上部チャンバと下部チャンバとの間に形成され、基板を進行方向に沿って移送する基板移送部と、を含み、下部チャンバの第２外壁間の幅が上部チャンバの第１外壁間の幅より大きい基板処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】基板の処理に使用された処理液のうち、回収すべき処理液と排出すべき処理液とが混ざり合うことを確実に抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗの現像処理に使用される現像液を吐出するノズル３０と、ノズル３０から吐出された現像液が流下する基板処理槽１０と、基板処理槽１０の内部に廃液口４３１が設けられた配管４３と、配管４３と並列的に設けられ、現像液の回収と再利用とのために基板処理槽１０の内部において回収口４２１が設けられた配管４２と、基板処理槽１０の所定部位に設けられ、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、未露光部における残渣の低減を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、現像液、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、ナノインプリント用モールド、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、酸の作用により前記高分子化合物を架橋する、２個以上のベンゼン環と４個以上のアルコキシメチル基とを有するフェノール性化合物、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、露光後に、炭素数７又は８のエステル系溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順番で有する、レジストパターン形成方法。
（もっと読む）

【課題】基板の面内においてレジストパターンの線幅を均一にする。
【解決手段】ウェハＷ上に現像液Ｍを供給して、所定のパターンを露光し且つ露光後にポストエクスポージャーベーキングしたウェハＷのレジスト膜を現像処理する方法であって、ポストエクスポージャーベーキング前後のウェハＷのレジスト膜の膜厚を測定し、ポストエクスポージャーベーキングの前後に測定されたレジスト膜の膜厚差に基づいて、ウェハ上のパターンのショットごとに現像条件を設定し、設定された現像条件に基づいて、各ショットごとに霧状の現像液Ｍを供給する量及び現像時間を調整して、現像処理後のレジストパターンの線幅を調整する （もっと読む）

【課題】フォトマスクにおいて、現像によるレジストパターン寸法の面内バラツキの抑制、且つ現像ローディング効果を抑制することができる現像ノズルおよび現像方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク作製におけるレジスト現像工程で使用する平面状の現像ノズルであって、現像液の単位ノズルが被現像物であるフォトマスク基板側の平面に２次元配列されている現像ノズルとする。また、平面状の現像ノズルの大きさが、被現像物の大きさより大きい現像ノズルとする。 （もっと読む）

【課題】最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成において、描画装置の切り替え作業に起因する描画パターンの設計からのずれを防止することを可能とする。
【解決手段】最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成方法において、基板３上にレジスト膜２を形成し、可変成形電子線ＥＢによりレジスト膜２に描画パターンを描画した後、レジスト膜２のレジスト非溶解部の膜減り率が２０％以下となるように、レジスト膜２にパドル現像を実施する。 （もっと読む）

【課題】新液の使用量を抑えることができ、且つ、現像液の劣化によるフィルターの目詰まりを起こしずらい大型のカラーフィルタ形成用基板の現像処理装置を提供する。
【解決手段】ワーク８０を、処理面を上にして、搬送方向に直行する方向において水平から傾けた状態で搬送する搬送手段を有し、現像処理槽１０内の搬送方向の各位置においてワークが浴びた現像液４１ａを、ワーク処理面の傾斜に沿い流してワークから垂れ流すもので、現像処理槽１０内、底部と搬送されるワークとの間の位置に、搬送方向の所定の位置範囲においてワークから垂れ流された現像処理後の現像液４１ａを受けて回収し、回収した現像処理後の現像液４１ｂを廃液ラインへと流す、廃液回収手段６１を配している。 （もっと読む）

【課題】基板表面上に吐出された処理液の滞留を防止し基板全面における処理の均一化を有効に達成できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部２２と、スプレーパイプ部２２の長手方向に一列に互いに近接して形設され処理液をその吐出口２６から基板Ｗの表面１０２へ吐出する複数のノズル部２４から構成される複数のスプレーノズル１４とを備える基板処理装置において、基板Ｗの表面１０２に対する複数のノズル部２４の吐出口２６の対向角度を、水平姿勢で搬送される基板Ｗの表面１０２の基板搬送方向Ｘに関して交差する方向における中央部付近から両端部付近にかけて、鉛直線に対して漸次大きくなるように、複数のノズル部２４を複数のスプレーパイプ部２２に形設することにより、基板Ｗの表面１０２上において吐出後の処理液の積極的な液流れを発生させる。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルを製造するために用いる縦形現像装置において、基板に塗布される現像液のムラを低減した現像装置および現像方法を提供することを目的としている。
【解決手段】現像液を噴霧する現像室１７と、基板２２を洗浄する洗浄室１９と、現像室に現像液を供給する現像液供給系統と、予め感光性材料が配され所定のパターンに露光照射処理を施された基板２２を現像室１７から次の洗浄室１９に搬送する搬送ベルト２１とを備えた現像装置において、現像室１７から洗浄室１９にて基板表裏全体が水洗いされ、基板２２に付着した現像液や現像時に剥離した樹脂成分等を基板表面から洗い流しており、搬送方向に配列するｎ個のエアカット１８ａ・・・１８ｎのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、基板２２の現像液を除去する構成である。 （もっと読む）

【課題】レジスト溶解領域が互いに大きく異なる現像領域が近接したとしても双方の現像領域の解像性を向上できる。
【解決手段】ウェハは、レジストパターンを形成する領域であって現像するときにレジストを溶解させる溶解領域が第１範囲の第１現像領域と、第１範囲よりも広い第２範囲のレジスト溶解領域を有する第２現像領域とを有し、第１現像領域および前記第２現像領域が第１方向に沿って配設されているとき、第１方向に交差する第２方向にノズルを移動する。 （もっと読む）

【課題】サイズが大型化した有機ＥＬ素子を凸版印刷法によって形成するための樹脂凸版を、フォトリソグラフィー法でパターニングする際に、スプレー式現像方法をもちいながら、パターン精度が高く、かつ現像ムラ等を無くした製版を行う方法とその方法で得られる印刷用凸版を提供する。
【解決手段】版材の感光性樹脂を露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂を現像する現像工程とを供え、現像工程は版材全体を現像液に浸漬させる浸漬段階と、浸漬後の感光性樹脂の不要箇所をスプレー型の噴出口より噴射される現像液により除去し現像する現像段階と、現像後の感光性樹脂上の現像液の残渣をスプレー型の噴出口より噴射される洗浄液により除去する洗浄段階と、洗浄後の感光性樹脂表面に気体を吹き付け洗浄液を除去する洗浄液除去段階とを具備し、少なくとも現像段階と洗浄段階との版材搬送部が版材搬送方向と直行する水平面に対して傾斜した角度を有する。 （もっと読む）

【課題】 柱状電極を有する半導体装置において、柱状電極を形成するためのドライフィルムレジストからなるメッキレジスト膜を現像する際、膨潤したメッキレジスト膜の急激な収縮を抑制し、且つ、レジスト残渣が発生しにくいようにする
【解決手段】 現像部３２では、メッキレジスト膜２５の非露光部は現像液と接触する表面から膨潤して溶解され、メッキレジスト膜２５に柱状電極形成用の開口部が形成される。この状態では、メッキレジスト膜２５の開口部の底部にレジスト溶解物が残存している。中間処理部３３では、現像液用シャワー４２およびリンス液用シャワー４３から現像液およびリンス液が吹き出され、メッキレジスト膜２５上で吹き出された両液が交差して混合される。これにより、膨潤したメッキレジスト膜２５の急激な収縮を抑制し、且つ、レジスト残渣が発生しにくいようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】使用する処理液が発泡性を有する場合でも、処理液に発泡を抑える添加剤等を特に加えることなく、発泡を抑制し、安定な運転が可能な水平搬送処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理液を貯蔵するタンクと、前記処理液をタンクから導出する供給配管と、この供給配管からの処理液を被処理体に噴霧処理するチャンバーと、このチャンバー内で前記被処理体を搬送する搬送手段と、前記チャンバーで噴霧処理した後の処理液を前記タンクに戻す連絡部とを備え、前記処理液がチャンバーとタンクとを循環する水平搬送処理装置において、前記タンクの液面より上方に、タンク内に貯蔵された処理液の液面に処理液を噴霧する消泡ノズルを配置した水平搬送処理装置。 （もっと読む）

【課題】第１に、処理液の更新が促進されて、液溜まりや滞留は発生せず、表面処理の遅速，過不足，バラツキ等が解消され、第２に、しかもこれが簡単な構成により、コスト面にも優れて実現される、基板材の表面処理装置を提案する。
【解決手段】この表面処理装置１５は、電子回路基板の製造工程で使用され、搬送される基板材Ａに対し、上下のスプレーノズル１６，１７から処理液Ｂを噴射して表面処理する。スプレーノズル１６，１７は、基板材Ａの搬送方向に複数本配設されたスプレー管１９，２０に、それぞれ多数個設けられており、上側の各スプレー管１９は、左右に往復揺動する首振りオシレーション方式よりなると共に、中央側のスプレー管１９の揺動角度が、左右側のスプレー管１９の揺動角度より、大きく設定されている。もって処理液Ｂは、基板材Ａ上を左右方向Ｃに向け、液溜まりや滞留のない規則的な流れを形成する。 （もっと読む）

【課題】廃液を削減し、現像液の温度を維持して現像処理を安定させることができる自動現像装置を提供する。
【解決手段】自動現像装置１は、支持体上の画像記録層が画像露光された平版印刷版原版２を搬送する搬送手段１１、及び該搬送手段によって搬送される前記平版印刷版原版に現像液を吹き付ける吹付手段１２を有する現像部３と、前記吹付手段から噴射された前記現像液が回収される外部タンク５と、前記外部タンクに回収された前記現像液を前記吹付手段に再び供給する配管６と、前記吹付手段に供給される前記現像液を加熱する加熱手段７と、を備え、前記現像部３が、前記吹付手段から噴射された前記現像液の温度を保持する保温手段９，１３，３２，３４を有する。 （もっと読む）

【課題】 中間調の網点深度を満足しつつ、高現像速度及び高画像再現性も満足する優れた現像方法を提供するものであり、特に高生産性を要求される印刷分野においてこれまでには得られていない優れた現像方法を提供することを課題とする。
【解決手段】感光性樹脂層を有する画像露光した感光性樹脂印刷版を水又は水系現像液を用いて未露光部を除去する現像方法であって、該現像方法が（Ａ）工程後に（Ｂ）工程を組み合わせた現像工程を含むことを特徴とする感光性樹脂版の現像方法。 （もっと読む）

【課題】解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを形成しうるフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材上に、遮光材料、光重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及びバインダーポリマーを含む感光層と、酸素遮断性層とを順次備えるフォトマスブランクスを画像露光する露光工程と、感光性層及び酸素遮断性層の未露光領域を除去する現像工程と、水洗工程とを有し、該現像工程における、露光後のフォトマスクブランクスに、フォトマスクブランクス表面での圧力が１〜１０ｋＰａとなるように現像液を接触させる高圧現像処理工程、及び、該水洗工程における、現像後のフォトマスクブランクス表面に、表面での圧力が１〜１０ｋＰａとなるように水洗水を接触させる高圧水洗工程、の少なくとも一工程を実施するフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版を作製できる自動現像装置とその方法を提供する。
【解決手段】支持体上の画像記録層が画像露光された平版印刷版原板４を炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する水溶液の満たされた現像槽２０に浸漬した状態で非画像部の除去が行われる浸漬型平版印刷版用自動現像装置２において、処理パスラインを形成する浸漬型の現像槽２０と処理パスライン外に設けた外部タンク５５との間で上記水溶液からなる現像液を浸漬型の現像槽２０の液面を一定に保つように循環させるようにした。
【代表図】図１ （もっと読む）

【課題】平版印刷版の処理性能を均一にすることができる平版印刷版用現像処理方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも前加熱ゾーン２０とその下流配置の現像液処理ゾーン４０とで平版印刷版Ｓが搬送処理される平版印刷版用現像処理方法において、現像液処理ゾーン４０の処理槽４２の平版印刷版入り口近傍に配置した現像液循環手段により入り口近傍の現像液Ｄを処理槽４２内で移動循環させる平版印刷版用現像処理方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を傾斜搬送して現像を行う現像にて、ガラス基板のサイズが大型化しても、面内現像均一性の良好なカラーフィルタを製造する現像方法、現像装置を提供する。
【解決手段】傾斜下部（谷側）ｂに吐出する現像液の吐出圧力が、傾斜上部（山側）側ａに吐出する現像液の吐出圧力よりも高いこと。複数の現像チャンバーで構成される際に第一現像チャンバーにて傾斜下部（谷側）の吐出圧力が高いこと。斜下部（谷側）に吐出する現像液の吐出圧力が、傾斜上部（山側）側に吐出する現像液の吐出圧力よりも２倍高く、傾斜下部（谷側）の現像シャワーノズル４２数が前記式（１）により算出された割合（％）であること。上記現像方法を用いた現像装置。 （もっと読む）