【課題】テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テンプレートを用いて感光性エレメントとキャリヤーとから複合印刷版を作製する方法に関する。感光性エレメントは、テンプレート中の切抜き部分を介してエレメントを定置することによりキャリヤー上に位置決めされる。本方法は、凸版印刷用の複合印刷版の作製、特定的には、段ボール基材にフレキソ印刷するための複合印刷版の作製にとくに適する。 （もっと読む）

【課題】
薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有する感熱マスク層を持つ感光性フレキソ印刷原版を提供する。
【解決手段】
少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層、（Ｄ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、（Ｄ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性フレキソ印刷原版。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないでシャープな凸状のレリーフ像を形成することが可能で、印刷品位の優れた水現像可能なフレキソ印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、順次、支持体、親水性重合体を含有する感光層、マスク層を有する感光性印刷版原版において、画像マスクを通して、波長３１０ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光で露光、波長２００ｎｍ〜３００ｎｍの紫外光で露光、現像をこの順で行うことを特徴とする感光性印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、感光性要素から作られる凸版印刷組版で、段ボール板紙などの基板上にインクのパターンを印刷する方法を提供する。
【解決手段】この方法は、感光性要素用のその場マスクを形成するステップと、この要素をその場マスクを介して不活性ガスと１９０，０００ｐｐｍと１００ｐｐｍとの間の酸素濃度を有する環境内で化学放射線に露出させるステップと、印刷領域のパターンを有する凸版印刷組版を形成するように、露出された要素を処理するステップとを含む。印刷は、印刷機に凸版印刷組版を固定し、印刷組版の印刷領域にインクを塗布し、かつインクのパターンを基板上に転写するために、この印刷領域からのインクを基板に接触させることによって実施される。 （もっと読む）

【課題】レリーフパターンを形成するために、感光性要素から印刷フォームを形成するための方法および装置の提供。
【解決手段】感光性要素の組成物層を加熱して層の一部分を液化させ、かつ感光性要素に現像媒体を提供して液化された組成物を除去することによって、感光性要素を熱現像する。感光性要素とベース支持体との間に適合層が配設され、これによって感光性要素と現像媒体との間の圧縮性および接触が改善する。この方法および装置は、感光性要素からの液化された部分の除去効率および形成されるレリーフパターンの均一性を改善する。 （もっと読む）

【課題】高精細画像の再現性、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】表面粗さ（Ｒａ）が０．４５〜０．６０である親水性支持体上に、側鎖にアリールスルホンアミド基を有するフェニルアクリルアミド単位を有するポリマーと、フェノール樹脂と、赤外線吸収剤とを含む記録層を備える平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】経時変化により現像不良が発生せず原画フィルムを必要としないで、凸状のレリーフ像を形成することが可能な感光性樹脂印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）、カバーフィルム（Ｅ）を有する感光性樹脂印刷版原板において、感熱マスク層（Ｃ）が、水不溶性で重量平均分子量が１０００００〜５０００００のアクリル樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ２〜１０の現像液で現像可能であり、耐汚れ性および耐刷性が共に良好で、経時による耐汚れ性の低下が抑制された平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供すること
【解決手段】支持体上に、特定の繰り返し単位を有する重合体を含有する中間層と、画像形成層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版及びこの平版印刷版原版を用いる平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】ダメージのない、寸法安定性の良好なレジストパターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】貫通穴１１形成基板１０上に化学増幅型ネガレジストを塗布してネガレジスト膜１３を形成する工程と、このレジスト膜を選択的に露光する工程と、この露光されたネガレジスト膜上に化学増幅型ポジレジストを重ね塗布してネガレジスト膜１３とポジレジスト膜１４とからなる積層膜を形成する工程と、このポジレジスト膜を選択的に露光する工程と、その後現像して、ネガレジスト膜の露光部分１３ａとポジレジスト膜の未露光部分１４ａとの積層膜からなるパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】カバーフィルムを剥がす際に感熱マスク層に破れやキズを生じない高品位な樹脂凸版印刷版を作製できるコンピューター製版可能な感光性樹脂印刷版原版を提供することにある。
【解決手段】基板上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、接着力調整層（Ｂ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）がこの順に積層された感光性樹脂印刷原版であって、該接着力調整層（Ｂ）が少なくともアミン化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版による。 （もっと読む）

【課題】カバーフィルム剥離時に感熱マスク層に破れやキズ、ピンホールを生じず、赤外レーザーの照射時に感熱マスク層が速やかに融除する、高品位な樹脂凸版印刷版を作製できるコンピューター製版可能な感光性樹脂印刷版原版を提供することにある。
【解決手段】基板上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、接着力調整層（Ｂ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）、剥離補助層（Ｄ）、剥離補助層（Ｄ）に接する面の表面粗さＲａが０．１〜０．６μｍであるカバーフィルム（Ｅ）を有する感光性樹脂印刷版原板において、剥離補助層（Ｄ）が特定の官能基を有する陰イオン界面活性剤を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版による。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学増幅型ネガティブフォトレジストとポジティブフォトレジストとの組み合せによる露光及び現像によりパターンピッチが露光装備の解像度の1/2倍であるマスクパターンを形成するマスクパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るマスクパターン形成方法の代表的な構成は、基板の上部にネガティブフォトレジスト(Negative Photo Resist)膜を形成する。ネガティブフォトレジスト膜の一部領域を露光する。ネガティブフォトレジスト膜を現像する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト(negative tone working photo resist)膜を含む基板の上部にポジティブフォトレジスト(Positive Photo Resist)膜を形成する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト膜の境界部のポジティブフォトレジスト膜に水素気体が拡散するように基板をベーキング(Baking)する。ポジティブフォトレジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】感光性導体ペースト中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層チップ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 導体層転写シート２２によれば、感光性導体ペースト１８は転写支持体１２の一面にビヒクル層１０を介して塗着されていることから、所定のパターンの導体層１８を形成するための露光および現像時において、必ずしも十分な露光・現像性能を必要とせず、感光性樹脂、重合開始剤等の樹脂成分である樹脂量の少ない導体ペーストを用いることができる。したがって、感光性導体ペースト１８中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題が生じない。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、形成するホトレジスト膜の特性に関係なく利用できる保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマー、及び（ｂ）フッ素系溶剤を含有することを特徴とする保護膜形成用材料。本発明の保護膜形成用材料を用いてホトレジスト膜上に保護膜を形成した場合、保護膜形成用材料中に含まれる成分が各種ホトレジスト膜を溶解することがない。このため、ホトレジスト膜の種類に関係なく、液浸露光プロセスを用いて微細で良好なホトレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
下層に感光性絶縁ペーストの塗布膜を形成し、上層に感光性導電ペーストの塗布膜を形成した後、露光、現像、焼成を行う方法において、下層の感光性絶縁ペーストの塗布膜が厚くなっても剥がれが生じないパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
基板上に無機粉末、感光性ポリマー、感光性モノマーおよび重合開始剤を含み、該無機粉末が絶縁性である感光性絶縁ペーストを塗布して感光性絶縁ペースト塗布膜を形成し、該該感光性絶縁ペースト塗布膜上に無機粉末、感光性ポリマー、感光性モノマーおよび重合開始剤を含み、該無機粉末が導電性である感光性導電ペーストを塗布して感光性導電ペースト塗布膜を形成した後、パターン化された透光部を有するフォトマスクを介して露光し、現像する工程を含むパターン形成方法であって、前記感光性絶縁ペースト中のポリマーと感光性モノマーの含有量の比率が質量比で３／７〜６／４の範囲内、前記感光性導電ペースト中のポリマーと感光性モノマーの含有量の比率が質量比で７／３〜９／１の範囲内であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないでシャープな凸状のレリーフ像を形成することが可能で、取扱い性に優れた感光性印刷版原版を提供すること。
【解決手段】少なくとも、順次、支持体、感光層、バリア層およびマスク層を有する感光性印刷版原版において、バリア層が波長３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの光に対し実質透明であり、かつ波長２４０ｎｍ〜３００ｎｍの光に対して吸収を有することを特徴とする感光性印刷版原版。バリア層の波長３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの光に対する吸光度が０．１０以下であり、かつバリア層の波長２４０ｎｍ〜３００ｎｍの光に対する吸光度が０．１５以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造する凸版印刷版の製造方法であって、マスク層が除去された部位の感光性樹脂層が空気中の酸素の影響を受けず、現像後に微細で良好なパターンを有する凸版印刷版を得ることができる凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）支持体上に、（Ｂ）感光性樹脂層と、（Ｃ）少なくとも１種の赤外線吸収性物質を含むマスク層とが、この順に積層されてなる凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造する凸版印刷版の製造方法であって、前記感光性樹脂層上に残存膜を残しつつ、前記マスク層を赤外線レーザー光で選択的に除去してパターニングする工程と、パターニングされた前記マスク層を介して前記感光性樹脂層を紫外線で露光する工程と、前記マスク層を除去すると共に、露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程と、を含む、凸版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体において、露光時に、感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、現像後に良好なパターンを得ることができる凸版印刷版製造用多層積層体、及びこれを用いて行う凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）支持体上に、（Ｂ）感光性樹脂層と、（Ｃ）マスク層と、がこの順に積層されてなり、前記マスク層が、（ａ）少なくとも１種の赤外線吸収性物質、（ｂ）少なくとも１種の紫外線吸収性物質、及び（ｃ）ポリビニルブチラールを含む、凸版印刷版製造用多層積層体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、水系現像が可能で、解像度、難燃性、密着性、耐湿性、電気信頼性、取扱い性に優れた感光性ドライフィルムレジスト及びその製造方法、並びにこれらの利用方法を提供することである。
【解決手段】第一感光層がバインダーポリマー、（メタ）アクリル系化合物、光反応開始剤、難燃剤、並びに、染料及び／又は顔料を必須成分として含有し、第二感光層がバインダーポリマー、及び、（メタ）アクリル系化合物を必須成分として含有し、第二感光層は難燃剤と、染料及び／又は顔料とを実質上含有しない少なくとも二層以上の感光性ドライフィルムレジストを用いることにより、上記課題を解決し得る。 （もっと読む）

【課題】製造工程が複雑になるのを抑制するとともに、製造が困難で製造に時間がかかるマスクを用いることなく、１回のリソグラフィ工程により接続孔および配線溝を形成するためのパターニングを行うことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】この半導体装置の製造方法は、デュアルダマシン法により配線を形成する半導体装置の製造方法であって、配線３を覆うように絶縁膜４、レジスト５、および、感光性シリコンを含有するレジスト６を配置する工程と、クロムマスク２０を用いてレジスト５および６を同時に露光する工程と、レジスト６の露光された部分をシリル化する工程と、現像液を用いてレジスト５の感光部５ｂを除去する工程と、レジスト６のシリル化部６ａおよび６ｂをマスクとして絶縁膜４およびレジスト５の少なくとも一部を除去することにより、絶縁膜４に接続孔７と配線溝８とを形成する工程とを備える。 （もっと読む）