【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット１００であって、ウェハＷを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台１４１と、ウェハ保持台１４１に吸着保持されたウェハＷにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構１５０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】処理液中に含まれるナノオーダーの微小なパーティクルを、効率よく除去する。
【解決手段】現像液ノズル１４２に現像液を供給する現像液供給装置１９０は、現像液貯槽２０１から現像液ノズル１４２へ現像液を供給するための現像液供給管２０２と、現像液供給管２０２に設けられ、現像液供給管２０２中の現像液に直流電圧を印加する電極２１２と、電極２１２に対して、極性反転自在に直流電圧を印加する電源ユニット２１３と、内部に洗浄液を貯留する洗浄液供給源２１６と、現像液供給管２０２に接続され、洗浄液供給源２１６から現像液供給管２０２に洗浄液を供給するための洗浄液供給管２１５と、現像液供給管２０２における電極２１３が設けられた位置を通過した洗浄液を、現像液供給管２０２から排出する廃液管２２０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】露光ユニット全体を小型化することができ、また、タクトタイムの短縮を図ることができ、且つ高精度に異物を検出することが可能なプリアライメント装置及びプリアライメント方法を提供する。
【解決手段】プリアライメント装置２０は、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗの温度を調整する基板温調機構、精密温調プレート２２に載置された基板の異物を検出する異物検出機構３４を有することで、プリアライメント装置２０と基板温調機構と異物検出機構が単一の装置となり、また、搬送用ロボットの数も削減でき、露光ユニット全体を小型化することができる。また、温度の調整が行われている基板にプリアライメント、異物検出を行うことで、タクトタイムの短縮を図ることができる。また、複数のカメラ３０のＹ方向一方側に配置された複数の第１の光源３１Ａは、隣接する第１の光源３１Ａ同士の両端部をＹ方向から見てオーバーラップさせた状態で、Ｘ方向に沿って千鳥状に配置されるので、精度良く異物を検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】より簡単に描画装置の能力を検査し、必要があれば補正する。
【解決手段】描画装置の検査装置が、一方が他方を囲むような形状を有する第１マーク及び第２マークを含む描画データが記憶されている記憶装置と、描画データに基づいて描画装置に第１マークを描画させる第１描画部（露光制御部２０１ｄ等）と、描画された第１マークの位置を検出する第１検出部（描画位置検出部２０１ｉ）と、描画データと第１マークの検出位置とに基づいて描画データを補正する補正部（データ補正部２０１ｅ）と、補正された描画データに基づいて、描画装置に第２マークを描画させる第２描画部（露光制御部２０１ｄ等）と、描画された第２マークの位置を検出する第２検出部（描画位置検出部２０１ｉ）と、第１マークの検出位置と第２マークの検出位置とに基づいて両者の位置ずれ態様を求めるずれ取得部（データ処理部２０１ｋ）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】描画精度の向上に寄与できる描画装置を提供する。
【解決手段】記録媒体Ｐに向けて活性光線硬化型の液滴を吐出する吐出ヘッド６２と、キャリッジ１４を介して吐出ヘッドを走査方向に移動させるヘッド移動装置１８と、活性光線を照射する照射部１６とを備える。照射部をキャリッジとは分離して、且つ走査方向に移動自在に支持する支持部３８と、照射部を吐出ヘッドとは独立して走査方向に移動させる照射部移動装置と、記録媒体に対する活性光線の照射領域を、照射部と対向する第１領域と、吐出ヘッドと対向する第２領域Ａ２とに切り替える切替装置７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ワークローダを介してガラス基板をプリアライメント装置から露光装置に搬送して露光処理するとき、プリアライメント装置、ワークローダ、及び露光装置間で基板の渋滞を生じさせることなく、スムーズに運搬することができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】制御装置２０は、プリアライメント装置１２が処理完了後の基板Ｗを保持する保持時間、及び、ワークローダ１５が基板Ｗを停止して保持する保持時間、及び、露光装置１３が処理完了後の基板Ｗを保持する保持時間を、それぞれ２０秒以下に設定する。 （もっと読む）

直接書込機械中で加工物に描画するための整列方法。ボード参照造形物を備えた参照ボードを利用して、共通の参照に対する、計測ステーション及び書込ステーションの較正を整える。加工物上に書き込まれる調節パターンは、参照ボードの位置に対して算出される。 （もっと読む）

多層スタックの製造における直描書き込みマシン内でのワークピースののパターニング方法。決定された適合公差に従って、接続点のためのパターンを含む第１の回路パターンが、第２の回路パターンの接続点および特定のフィーチャ（例えば、前記ワークピース上または前記ワークピース内にランダム配置されたダイまたはダイ群）の回路パターン（単数または複数）に適合するように、変換される。前記第２の層は、先行して形成された層であってもよいし、あるいは、前記スタックのための同一ワークピース上または異なるワークピース上に後続して形成されるべき層であってもよい。選択されたダイと関連付けられたパターンデータは、調節された回路パターンデータへと変換される。前記変換は、前記回路パターンが前記選択されたダイ（単数または複数）に適合するように、前記変換位置によって規定された変換を用いて行われる。 （もっと読む）

印刷板を処理するシステム(100)は連続的に一列に並んだ複数の印刷板処理ステーション(108、116、120、124)を含む。列の中の最初のステーションは、印刷板(132)を受け取り、ステーションに固有の処理を印刷板に施し、固有の処理が実行された後に列の中の次のステーションに印刷板をわたす(112)。システムコントローラ(104)は印刷板処理ステーションの各々を監視及び制御する。
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【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成装置（１０）において、パターンに対応するパターン情報に基づいて、基板（ＦＢ）の表面に供給された硬化性材料（Ｒ）を押圧する押圧部（１１）と、押圧部（１１）によって押圧された硬化性材料（Ｒ）に所定のエネルギーを付与し、該硬化性材料（Ｒ）を硬化させる硬化部（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】スリーブ印刷版の凸版の径方向位置情報を正確に得ることができるとともに、効率良く、かつ、精度良く前記凸版の検査を行うことが可能なスリーブ印刷版の検査装置を提供する。
【解決手段】スリーブ印刷版３０に設けられた凸版の形状を検査するスリーブ印刷版の検査装置５０であって、円筒面５１Ａを有するとともに、円筒面５１Ａの軸線Ｌ中心に回動可能な回転ドラム５１と、回転ドラム５１の円筒面５１Ａから離間して配置され、軸線Ｌに平行な方向に移動可能な直動部５６と、直動部５６に支持され、軸線Ｌからの径方向距離を測定する距離センサ６０と、回転ドラム５１の回転方向位置情報θ、距離センサ６０の軸線Ｌ方向位置情報Ｚ、距離センサ６０による径方向位置情報ｒ、を得て、円筒面５１Ａに装着されたスリーブ印刷版３０の凸版３３の形状を再現する演算部と７０、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＭＥＭＳ(Micro Electro Mechanical Systems)、半導体等の製造に用いるマスクレス露光装置に関し、基板の所定部位を容易に観察することを目的とする。
【解決手段】 基板を支持するステージと、前記基板に投影する露光パターンを生成するパターン生成部と、前記パターン生成部で生成された露光パターンを前記基板に投影する対物レンズと、前記対物レンズを介して前記基板を観察する観察光学系と、前記基板を露光するための制御を行う露光モードと、前記露光モードで露光された前記基板を観察するための制御を行う観察モードとを備えた制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】版厚を確実に制御しながら感光性樹脂凸版の連続製版を行う。
【解決手段】第１のフィルム層（カバーフィルム）２４、感光性樹脂層２５、及び第２のフィルム層（ベースフィルム）２６を含む積層体を、下部硬質板１４と上部硬質板１５とにより挟んだ状態で、感光性樹脂層の露光を行うものであり、下記（ａ）工程〜（ｄ）工程を有している感光性樹脂凸版の製造方法を提供する。
（ａ）上部硬質板及び／又は下部硬質板の温度、又は下部硬質板に積層される第１のフィルム層を介した下部硬質板の温度を、直接又は間接に計測する工程。
（ｂ）前記下部硬質板に積層した前記第１のフィルム層の上に、液状感光性樹脂を塗布する工程。
（ｃ）前記液状感光性樹脂の塗布厚みを調節する工程。
（ｄ）下部硬質板と上部硬質板との間隔を調節する工程。 （もっと読む）

【課題】ウェハ面内のパタン寸法の均一性を向上させ、半導体装置の特性のばらつきを抑えることが可能な半導体製造方法と半導体製造装置を提供する。
【解決手段】ウェハ上にマスクパタンを複数の露光ショットにより露光する際に、予め測定されたエッチング後の各露光ショット内のパタン寸法分布に基づき、各露光ショット内の補正露光量を求め、各露光ショットにおいて、それぞれの補正露光量で露光し、露光されたウェハをエッチングすることにより、ウェハにパタンを形成する。 （もっと読む）

光学アセンブリは、ＥＵＶマイクロリソグラフィー用の投影露光装置 （１０１）に取り付けられる目的に適合し、少なくとも一つの真空チャンバ（７０，７１，６８ａ）、該真空チャンバ（７０，７１，６８ａ）内に配置され、投影露光装置 （１０１）の有効光束（３）が入射する光学面（１８）を有する少なくとも一つの光学素子（６，７；６５，６６；６３）、および光学面（１８）を洗浄する洗浄装置（７２）を備える。洗浄装置（７２）は、投影露光装置 （１０１）で露光動作を行うための真空圧（ｐ_０）よりも高い真空チャンバ（７０，７１，６８ａ）内のガス圧で、光学面（１８）の粒子洗浄を行うように構成される。その結果、有効光束が入射し、異物を確実に洗浄可能な光学面を有する光学素子を提供することのできる光学アセンブリとなる。
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【課題】複数の図形要素群のベクトルデータを含む入力データをランレングスデータである出力データに変換する際に、出力データの生成に要する時間を短縮する。
【解決手段】データ変換装置では、描画領域８における所定幅の単位領域８０毎の単位ランレングスデータを順次生成する際に、図形要素群であるセルのうち、セル８３が処理対象の注目単位領域８０ａと重なる注目セルとして抽出され、注目セル８３にて注目単位領域８０ａから連続する同じランレングスの数が局所ランレングスリピート回数として取得される。そして、局所単位ランレングスリピート回数等に基づいて注目単位領域８０ａと次の単位領域８０とのランレングスが同一か否か判断され、同一の場合に注目単位領域８０ａの単位ランレングスデータが次の単位領域８０の単位ランレングスデータとして出力される。これにより、出力データの生成に要する時間が短縮される。 （もっと読む）

【課題】 基板の矯正が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
パッキン３に正圧をかけ伸張させ、露光テーブル１と接触させて密閉空間９０を生成し、真空吸引孔４０と真空ポンプ４により密閉空間９０を吸引し、大気圧によりプレート２０を押圧し、プレート２０と露光テーブル１により基板９９に荷重をかけ、基板９９を矯正する。吸引ポンプ１１による基板吸着圧力が所定の設定値に達したら、真空ポンプ４を停止し、パッキン３を収縮させて搬送装置２を搬入コンベア５３上に退避させ、露光を実行する。 （もっと読む）

【課題】面付け用のカラーフィルタパターンを感光層が形成された処理基板にパターン露光するインラインの露光装置において、１台の露光ラインで効率良く異種のカラーフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも第1の基板搬送手段１０と、第２の基板搬送手段２０と、基板受け取りステージ３０と、アライメント手段と、基板待機部４０と、露光部５０と、基板搬出部６０と、制御手段７０と、を具備している露光装置である。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ等の基板を設計し、液晶ディスプレイ等の基板を作製する場合、設計変更した時であっても基板の作製に要する時間を短くできる描画データ作成方法および描画データ作成装置を提供する。
【解決手段】設計データの構成要素から、繰返し構成要素と非繰返し構成要素とを分離し、繰返し構成要素のレイアウト情報を抽出し、非繰返し構成要素についてラスタライズして部品データを作成する工程と、繰返し構成要素から、更に繰返し構成要素と非繰返し構成要素とを分離し、抽出した繰返し構成要素のレイアウト情報を抽出し、非繰返し構成要素についてラスタライズして部品データを作成するという一連のことを所定の回数繰返し行う工程と、残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成する工程とを有し、各構成要素の部品データおよびレイアウト情報を保存する。 （もっと読む）