【目的】第１と第２の成形アパーチャによって成形されるビームにおける空間電荷効果によるビーム解像度の劣化による弊害を克服する描画方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画方法は、第１と第２の成形アパーチャを通過することで第１の形状に成形された第１の荷電粒子ビームを試料に照射する第１の照射工程と、第１の形状を構成する各辺を成形する成形アパーチャを反対にして、第１と第２の成形アパーチャを通過することで第２の形状に成形された第２の荷電粒子ビームを、第１の荷電粒子ビームを照射した位置に重ねて照射する第２の照射工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】遮光部、透光部及び半透光部（グレートーン部）を有するフォトマスク（グレートーンマスク）において、半透光部をなす半透光膜の膜厚に傾斜等の不均一が生じている場合であっても、半透光部における露光光の透過量がフォトマスク上の位置に依って上記不均一に影響されることなく、このグレートーンマスクを用いて形成されるレジストパターンにおけるレジスト膜厚を良好に制御することができるフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板１上に遮光膜６及び半透光膜５が形成され遮光膜６及び半透光膜５にそれぞれパターニングが施されることによって遮光部２、透光部３及び露光光を一部透過する半透光部４が形成され、半透光膜５は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、露光条件下で、複数の半透光部４の実効透過率が略均一となるように、パターニングが施されている。 （もっと読む）

【課題】データ処理回路の構成を大型化、複雑化させることなく、データ処理速度向上によって描画処理時間を短縮する。
【解決手段】露光エリアＥＡを３つに等分割することによって、露光エリアＥＡ１〜ＥＡ３を規定し、それに従いＤＭＤで規定される第１〜第３の分割変調領域に応じたラスタデータを格納するため、３つのバッファメモリ３８Ａ〜３８Ｃを設ける。そして、第１の分割露光領域ＥＡ１に応じたベクタデータのみを順次描画装置に転送し、ラスタ変換によってラスタデータをバッファメモリ３８Ａに格納する。露光エリアＥＡが各分割露光領域のサイズに応じた露光ピッチ分だけ相対移動する度に、バッファメモリ３８Ａには新たに生成されたラスタデータを格納し、バッファメモリ３８Ｂ、３８Ｃには、それぞれバッファメモリ３８Ａ、３８Ｂに格納されていたラスタデータを格納する。 （もっと読む）

【課題】 光量の損失や波面の劣化を抑え、単純な構造で露光ビームの自動調節を行う。
【解決手段】 光源で発生させた露光ビームＬ１を、光軸調節装置に入射させ、光軸調節した後の露光ビームＬ５を露光面へと導く。光軸調節装置内では、反射面Ｍ１を有する鏡１０と、反射面Ｍ２を有する鏡２０と、を本体部１００に取り付け、鏡２０を反射した光ビームＬ３を、出力部２００内の鏡３０，４０で反射させて光ビームＬ５として射出する。鏡３０の透過光Ｌ３０のモニタ結果に基づき、鏡１０の角度αおよび鏡２０の角度βを調節する角度制御を行う。鏡４０の透過光Ｌ４０のモニタ結果に基づき、本体部１００全体をＸＹ平面に沿って平行移動させる位置制御を行う。各制御手段３１０，３３０によって、各記憶手段３２０，３４０に記憶された位置および角度の設定値に向けてのフィードバック制御を行い、射出光Ｌ５の光軸を安定化させる。 （もっと読む）

【課題】 光量の損失を必要最小限に抑えつつ、単純な構造で、露光ビームの光軸自動調節を行う。
【解決手段】 光源で発生させた露光ビームＬ１を、可動鏡１０，ジンバル機構を用いた可動鏡２０，固定鏡３０の順に導き、光軸調節した後の露光ビームＬ４を露光面へと導く。可動鏡２０の反射面Ｍ２上の基準点Ｐは、ジンバル機構の固定点である。検出器２２により、反射光Ｌ２の実際の入射位置が検出され、制御手段２４により、当該入射位置が基準点Ｐに一致するように、可動鏡１０の調節機構１１に対する制御が行われる。検出器３２により、反射光Ｌ３の実際の入射位置が検出され、制御手段３４により、当該入射位置が基準点Ｑに一致するように、可動鏡２０の調節機構２１に対する制御が行われる。入射した光ビームＬ１は、必ず２つの固定点Ｐ，Ｑを通るように制御され、固定鏡３０から射出される露光ビームＬ４は、予め設定された基準光路ＬＬを通る。 （もっと読む）

【課題】マスクの重力によるたわみを効果的に抑制する。
【解決手段】チャック１０は、基板１の下面を真空吸着して、基板１を水平に保持する。マスクホルダは、マスク２の周辺部を保持する複数の独立したホルダ部２４ａ，２４ｂを有し、マスク２をチャック１０に保持された基板１へ向き合わせて保持する。マスク２の周辺部を保持するホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させて、マスク２に重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与える。この湾曲によって、マスク２の重力によるたわみが打ち消され、マスク２のたわみが効果的に抑制される。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度の高い分割露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクマーク２０の位置と基板マーク３０の位置が露光の際にオーバラップし、且つマスクマーク２０は基板マーク３０より大きく、露光光を遮光する。円形のマスクマーク２０の直径φＭと、円形の基板マーク３０の直径φＢは、φＭ＞φＢとなっている。またマスクマーク２０には、遮光膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】寸法誤差が変化する反射型マスクの許容仕様を緩和しつつ、ウエハに転写したパターンの品質を確保できる反射型露光方法を提供する。
【解決手段】反射型露光方法は、反射型マスクに設けられるトレンチマスクまたはホールマスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、当該パターンについてのマスク寸法を計測するステップとを含む。さらに、計測されたマスク寸法のばらつきから求まるマスク寸法誤差のウエハ寸法の影響が所定の値になるように照明光学系の開口数を求めるステップと、求めた照明光学系の開口数にあうように照明光学系のコヒーレンシーを変更するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】パターンを書き込む際に生じるあらゆる物理的変形に無関係に、オブジェクトの表面にパターンを書き込むための方法及びパターン生成装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、露光装置での使用を対象とするオブジェクトの表面にパターンを書き込むための方法であって、表面を備えた厚さＴのオブジェクトをパターン生成装置のステージの上に配置するステップと、表面を多数の測定ポイントに分割するステップであって、隣接する２つの測定ポイントが所定の最大距離を越えない距離Ｐで間を隔てられているステップと、各測定ポイントにおける表面の勾配を決定するステップと、各測定ポイントのｘ−ｙ平面における二次元局部オフセットｄを勾配及びオブジェクトの厚さＴの関数として計算するステップと、前記表面に書き込むパターンを、二次元局部オフセットｄを使用して修正するステップとを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】精度よく電子線のブランキングを行うことを可能とする。
【解決手段】ブランキング装置２０において、第１同軸伝送路２４Ａと第２同軸伝送路２４Ｂとによって、ブランキング電極１４ａ,１４ｂに対して、駆動回路２１、及び終端器２５を電気的に接続する。そして、駆動回路２１の出力インピーダンス、同軸ケーブル２２、第１同軸伝送路２４Ａ、第２同軸伝送路２４Ｂ、ブランキング電極１４ａ,１４ｂ、及び終端器２５の各特性インピーダンスを、例えば５０Ωに整合する。これにより、駆動回路２１から出力される駆動信号の反射が回避されるため、ブランキング電極１４ａ,１４ｂへの印加電圧にオーバーシュートやリンキングが発生することがなくなり、精度よく電子線のブランキングを行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供すること。
【解決手段】データ入力部３２は、露光パターンデータとＣＡＤデータを入力する。比較検査部３４は、露光パターンデータとＣＡＤデータとを比較することによって露光パターンデータの検査を行う。検査結果出力部３８は、比較検査部３４による検査結果を出力する。データ入力部３２によって入力されるＣＡＤデータには、ＣＡＤデータが示すパターンの各部分の属性を示す属性情報が含まれており、比較検査部３４は、ＣＡＤデータに含まれる属性情報に基づいて、露光パターンデータが示すパターンの各部分を、その部分の属性に応じた検査基準に従って検査する。 （もっと読む）

【課題】大面積のイメージエリアの露光ができる、分割露光方式を用いた露光方法を提供する。
【解決手段】チップ領域を複数の一括露光領域に分割して露光する露光方法が、基板を準備する工程と、基板上にフォトレジストを形成する工程と、アライメントマークを有するフォトマスクを用いて複数の一括露光領域を露光しチップ領域内のフォトレジストにアライメントマークを転写する転写工程と、フォトレジストに転写されたアライメントマークのうち不要なアライメントマークに重ねてフォトレジストを部分的に露光する２重露光工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の照射部における各光源の照度を同一に制御することができ、高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその照度制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、パターンを形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部１１と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部１４と、複数の照射部１４内にそれぞれ配置され、照射部１４内での露光用光ＥＬの照度を検出する複数の第１照度センサ４１と、複数の照射部１４からの各露光用光ＥＬが照射される各位置に移動可能で、各露光用光ＥＬの照度を検出する第２照度センサ４２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レンズ歪み等に起因する複数の結像位置のそれぞれの理想結像位置（理論上結像されるべき位置）からのずれを所定の許容範囲内におさめることができる技術を提供する。
【解決手段】基板上に結像されたサンプルパターンＳ（１），Ｓ（２），…Ｓ（ｍ）の結像位置を測定し、各パターンについて、理想的な結像位置とのずれ量Ｐｘ（１），Ｐｘ（２）、…Ｐｘ（ｍ）を算出する。このずれ量Ｐｘ（１），Ｐｘ（２）、…Ｐｘ（ｍ）に基づいて、アパーチャ位置のオフセット補正量を決定する。そして、アパーチャＡＰの位置をオフセット補正量だけ移動することによって、複数の規則的パターンの結像位置を所定方向に一律にシフトさせる。これによって、最大ずれ量が低減される。 （もっと読む）

【目的】ビームのサイズ或いは描画位置の誤差を低減させる描画装置及び方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子銃２０１と、描画データを記憶する磁気ディスク装置１０９と、電子ビーム２００を偏向させるための初期デジタル偏向量を計算する初期偏向量計算部１２２と、初期デジタル偏向量を第１から第ｎ回目の描画用に少なくとも１つが他とは１違いの値となるように所定の単位でそれぞれ整数化する整数化処理部１２４と、整数化された第１から第ｎのデジタル偏向量を第１から第ｎのアナログ偏向量に変換するＤＡＣ１２６と、第１から第ｎ回目の描画時にそれぞれの描画用に対応するアナログ偏向量に基づいて電子ビーム２００を偏向する成形偏向器２０５と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、所定の単位で丸められた誤差を低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】 高性能、高スループットと低コストを両立した露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、物体面Ｏから像面Ｉに至る光路において、第一凹反射面Ｍ１、凸反射面Ｍ２、第二凹反射面Ｍ３が順に配列された投影光学系を備えた露光装置に関する。投影光学系は、物体面Ｏと第一凹反射面Ｍ１との間、第一凹反射面Ｍ１と凸反射面Ｍ２との間、凸反射面Ｍ２と第二凹反射面Ｍ３との間、及び、第二凹反射面Ｍ３と像面Ｉとの間のそれぞれにパワーを有する屈折光学部材Ｌ１〜４を含み、かつ、軸外に有限範囲の輪帯状良像域を有する。投影光学系に含まれる反射光学部材Ｍ１〜３のパワーの総和をφ１とし、屈折光学部材Ｌ１〜４のパワーの総和をφ２としたとき、φ１及びφ２が、０．００１≦｜φ２／φ１｜≦０．１を満たす。 （もっと読む）

【課題】 チップパターンの一つの描画データに含まれる特定のパターンのショット条件を変えながら、チップパターンを描画可能な荷電粒子ビーム描画システムを提供する。
【解決手段】 特定のフラグを付された部分パターンを含むチップパターンの描画データを格納する描画データ格納部25、特定のフラグを付された部分パターンの複数のリサイズ量を格納する描画条件格納部26、及び複数のリサイズ量のそれぞれに従って、特定のフラグを付された部分パターンのサイズをショット毎に変えながら、描画データで定義されたチップパターンを描画する荷電粒子ビーム照射機構230を備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置の小型化を図るとともに、ウエハステージ近傍へのアクセスが容易となる。
【解決手段】 ウエハ側シールユニット４０Ｗの気体静圧軸受部材４２の上端が、チャンバ５２の露光ビームの射出側の端部に、ベローズ７２を介して気密状態で接続され、下端面が、ウエハＷ及びウエハホルダＷＨとの間に所定のクリアランスを形成した状態とされている。これにより、チャンバ５２の内部が外部に対して隔離される。従って、ウエハＷやウエハホルダＷＨ、並びにウエハステージＷＳＴを収容する真空チャンバを設けずに、露光ビームの光路周辺を真空環境に維持することが可能となり、露光装置全体の小型化を図ることができるとともに、ウエハステージＷＳＴ近傍へのアクセスが容易となる。 （もっと読む）

【課題】ランプハウスと、反射ミラーと、カメラユニットと、結像レンズと、露光基板とを備えた分割露光装置において、露光基板内に効率よく面付けができ、かつアライメント精度に優れた分割露光装置及び分割露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともランプハウス１０と、反射ミラー２０と、カメラユニット３０と、結像レンズ４０と、露光基板６１ａとを備えた分割露光装置であって、
結像レンズ４０と露光基板６１ａとの間に複数枚の遮光シャッター５０を設けたことを特徴とする分割露光装置である。 （もっと読む）

【課題】上下方向の変動による基準マークの位置検出誤差を、スループットを低下させずに補正する。
【解決手段】アライメントユニット２４のカメラ２５に、基板上面の合焦位置からの変動量Δを計測するＺ方向センサ２６を設ける。基準マークの撮影画像を補正する歪み補正部５８として、上記合焦位置からの変動量Δに対応する歪み補正データを、複数の変動量Δについて記憶した補正データ記憶部５９と、Ｚ方向センサ２６の計測値に応じて適した歪み補正データを選択もしくは算出して決定する補正データ決定部６０と、補正データ決定部６０によって決定された歪み補正データを用い、撮影画像の歪みを補正する画像補正処理部６１とを設ける。これにより、上下方向の変動による基準マークの位置検出誤差を、基板を上下動させずに補正することができる。 （もっと読む）