【課題】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイをより使いやすくするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイを較正するために使用される装置及び方法。較正ユニットは、変調された放射ビームを基板に投影する投影系に変調放射ビームが入射する第１状態と、変調された放射ビームの一部が較正ユニットにより検査される第２状態とを切り替えることができる。較正ユニットは、変調された放射ビームの検査結果に基づいて較正データを生成または更新する。アレイコントローラは、個別制御可能素子アレイの素子に制御信号を供給するために較正データを使用する。これらの素子はその制御信号に応答するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】高精度な投影パターンを形成するパターン形成基板。
【解決手段】一方の面と他方の面とを有する基体部と、一方の面に形成されたパターンと、一方の面と他方の面との間に設けられ、一方の面内の異なる領域に対して互いに異なる力を加え、一方の面の形状を変形させる駆動部とを備える。駆動部は、異なる領域に対応した複数の圧電素子を有し、圧電素子への印加電圧を独立に制御することにより、一方の面の形状を変形させてもよい。また、駆動部は、異なる領域に対応した複数の発熱素子を有し、発熱素子への通電を独立に制御することにより、一方の面の形状を変形させてもよい。 （もっと読む）

【課題】試料に照射される電子線の照射位置を補正することにより、精度よく試料にパターンを描画する。
【解決手段】基板Ｗの表面にパターンが形成されている間に、信号調整回路７２ｃによって、偏差情報の成分のうちの２次電子信号と相関の低い周波数成分が除去された偏差情報に基づいて生成された補正信号によって走査電極１６を制御する。すなわち、偏差情報の成分のうちの２次電子信号と相関の低い周波数成分が除去された偏差情報に基づいて電子線を偏向することにより、基板Ｗ上の電子線の照射位置の補正を行う。これにより、電子線描画装置１００の構成要素である回転機構３２、移動ステージ３４及びスライドユニット３３などを含む機器からの振動に起因する電子線の照射位置の変動分等が効率的に補正される。 （もっと読む）

【課題】ピンホールのない高精度の薄膜印刷性が要求される液晶配向膜用印刷版において、フレキソ印刷版などの感光性樹脂製印刷版を、大きな製版サイズにおいても高版厚精度で且つ安定した製版を可能とする製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】上下２枚の支持基板が対向して感光性樹脂を配置する間隙を構成し、該支持基板の双方もしくは一方が活性光線を透過する透明基板であり、該支持基板のいずれか一方の内面が粗面化されており、該粗面に液状感光性樹脂を接触させ、前記透明基板を介して活性光線を照射することにより前記液状感光性樹脂を硬化させる感光性樹脂版シートの製造装置であって、前記上下２枚の支持基板の双方もしくは一方を上下させて前記間隙を調整する間隙調整機構を有することを特徴とする感光性樹脂版シートの製造装置および製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体装置及びその製造方法並びにプログラムに関し、露光スループットを向上可能とすることを目的とする。
【解決手段】マルチプロジェクトチップ方式の半導体装置において、ウェーハ上に形成された複数の半導体デバイスは、前記複数の半導体デバイスのパターンの露光順序に合わせて、製造条件とショット数を示す情報とに応じた配置を有し、同じ製造条件の半導体デバイスは近接して、ショット数が多い順又は少ない順に配置されているように構成する。 （もっと読む）

【課題】露光領域の変化に応じて照明光学系を最適に制御し、光源となるランプの寿命に起因するランニングコストを低減することができ、且つ省エネルギーな露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】照明光学系７０は、複数の光源部７３と、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータ７４Ａ，７４Ｂと、を備え、複数の光源部７３は、選択されるインテグレータ７４Ａ，７４Ｂに応じて、各ランプの点灯と消灯を切り替える。 （もっと読む）

【課題】基板表面を不活性ガスでパージして生産効率を向上させることができる露光方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク４と露光される基板１００をプロキシミティギャップを設けて設置し、互いに相対移動させながらパターン露光を行う近接露光装置及び方法において、露光位置を含むとともに、基板１００全体よりも狭い限定された範囲に向けて不活性ガスを噴出するノズル及びその工程を備え、ガスパージに要する時間を短縮することで精算効率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】各個別に制御可能なエレメントが、アレイに使用される場合、さらに良好なポジティブおよびネガティブ強度特性を有し、テレセントリックエラーを効率的かつ有効に補正することができるようにする。
【解決手段】放射ビームを供給する照明システムと、ビームにパターンを形成する個別に制御可能なエレメントのアレイと、投影システムとを有するシステムである。個別に制御可能なエレメントのアレイは、対向するエッジに第1のステップと第2のステップを有するミラーを備える。投影システムは、パターン化されたビームをオブジェクト上のターゲット部分に投影する。様々な実施例において、オブジェクトは、ディスプレイ、半導体基板またはウェハ、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板等であってよい。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの内外周描画で半径位置に応じた制御を簡易に高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を塗りつぶすように描画する際に、回転ステージ41の回転速度を描画位置の半径に反比例して内周トラック描画で速く外周トラック描画で遅くなるように回転制御する一方、電子ビームの描画制御信号を回転ステージ41の回転に連係して生起する描画クロック信号に基づいて作成するもので、該描画クロック信号は回転ステージの１回転におけるクロック数を描画位置の半径によらず各トラックで一定値とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの電子ビームによる走査描画における照射線量調整の自由度をさらに高めて、微細パターンの複雑な形状の描画を高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13を描画する際に、電子ビームEBを周方向と直交する方向Ｙへ高速に往復振動させると同時に、半径方向と直交する方向Ｘに、回転ステージ41の回転速度より速い速度で偏向させて、エレメントの形状を塗りつぶすように走査制御し、順次エレメントを描画する。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作でマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、光源１２と、ミラーＭ１，Ｍ２を繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより被露光物上で異なる２方向に走査することで第１走査光及び第２走査光を得て２次元的に走査して被露光物上に照射する際に、第１走査光及び前記第２走査光の周期及び位相の少なくとも一方を制御することで被露光物上に所定のパターンを露光する。 （もっと読む）

本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系に関し、照明系（２００，７００）は、投影露光装置の作動において投影露光装置の投影対物系（４０）の物体平面（ＯＰ）を照明し、かつ照明系（２００，７００）は、照明系の作動において生成されて物体平面（ＯＰ）内でのみ重ね合わされる互いに点対称な関係にある光成分（１０，２０）が互いに直交する偏光状態を有するように適応される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置におけるテレセントリック性を測定および補正するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】放射ビームは複数のビームに分割され、その各々は個別制御可能素子アレイを用いて変調され、投影系により基板の一部に投影される。一組のアライメントビームは複数の放射ビームと類似の光路を同時に伝送される。対応する一組のセンサは、それぞれ一組のアライメントビームの角度および位置を投影系の入射口の近傍で測定する。テレセントリック制御ミラー（ＴＣＭ）の組立体は、検出された生じたテレセントリック性を補正するために測定結果に応じて、複数の放射ビームのうち適切なものを調整する。 （もっと読む）

【課題】 スキャン時間及びスキャン距離を短縮することで生産費用の節減及び露光の正確性向上をもたらし、多様な大きさの露光領域を有する基板に対して迅速に露光を行える露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】 互いに異なる位置の露光領域にパターン光を照射し、相互間の離隔距離が調節される複数の光学モジュール集合アセンブリーを含んで露光装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 有機材料からなるプリント配線基板に特有な不均一でかつ比較的大きな変形を持つ基板に対しても、最適な位置合せが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
全体変倍ユニット２はｘｙ方向同一の倍率でフォトマスク７のパターンを倍率Ｓｗで拡大縮小し、片変倍ユニット１は全体変倍ユニット２とは独立に任意の一方向ωで所定の倍率Ｓｏでフォトマスクパターンを伸縮させ、アライメントスコープ４は、マスクマーク７０と基板マーク８０の位置ズレαｉ、βｉを検出する。位置ズレ信号αｉ、βｉは、演算制御装置３に送られ、アライメントに必要なパラメータである片変倍倍率Ｓｏ、片変倍方向ωが計算され、更に全体変倍倍率Ｓｗ、基板の回転量θ、基板トランスレーションＯｘ、Ｏｙ計算され、これに基づいて片変倍ユニット１、全体変倍ユニット２、露光ステージ６が制御され、アライメントが行われる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。基板１０が露光及び位置合わせユニット１５の真下で走査を受けるとき、基板のそれぞれの部分が最初に検出器ユニット１６の下方を通過し、次いで露光ユニット１７の下方を通過する。したがって、基板１０のそれぞれの部分に関して検査器ユニット１６によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット１７に伝達可能であり、基板が露光ユニット１７の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】放射ビームのパルス幅を大きくしてもそれに応じた強度損失が生じないようにする装置及び方法を提供する。
【解決手段】この装置及び方法は、リソグラフィ装置における電磁放射パルス幅を制御するのに使用される。分割素子が電磁放射パルスを第１部分と第２部分とに分割する。プリズムが電磁放射パルスの第１部分を受けて屈折させて発する。方向変更素子が電磁放射パルスの第１部分及び第２部分を共通の光軸に平行な方向に向ける。第１部分は第２部分に組み合わされて結合放射ビームパルスを形成する。結合放射ビームパルスは、分割された電磁放射パルスよりも長いパルス幅を有するが、それに応じた強度損失は生じない。 （もっと読む）

【目的】タイムアウトエラーの誤判定や異常動作に対する対応措置の遅れを抑制する描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、描画データ１２を処理単位毎に分けて、各処理単位のデータ処理を実行させる親制御計算機１１０と、実行命令を受信してデータ処理を実行する子制御計算機１３０と、電子ビーム２００を用いて、正常にデータ処理が終了した所定の処理単位の描画データに基づくパターンを試料１０１に描画する描画部１５０と、を備え、親制御計算機１１０或いは子制御計算機１３０は、描画データの処理単位毎に、各処理単位のデータ処理にかかる予想処理時間を演算し、子制御計算機１３０は、データ処理が予想処理時間内に終了しない場合にエラーとしてデータ処理を終了することを特徴とする。本発明によれば、データ規模に見合った予想処理時間でタイムアウトエラーを判定することができる。 （もっと読む）

【課題】高さの異なる3次元パターンを、低コストで自在に形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光硬化型感光性組成物塗布膜にスポット状に集光した活性光線を走査させ照射した後に現像することにより３次元パターンを形成する方法であって、スポットの円相当径が最も小さくなる位置の高さを変化させながら活性光線を走査させ照射することによって、位置によって高さの異なる３次元パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ビーム部材を移動させて処理を行う処理装置の組み立て作業の負担を軽減する。
【解決手段】基板処理装置１のビーム部材４０に処理ツール４１を取り付けるとともに、ビーム部材４０のＹ軸方向の両端部に第１支持ブロック３２と第２支持ブロック３３とをそれぞれ固設する。また、基板処理装置１のステージ３にガイド部材３１を固設する。第１支持ブロック３２をガイド部材３１に迎合させることによりビーム部材４０の移動方向がＸ軸方向となるように規制するとともに、第２支持ブロック３３をいわゆる静圧軸受けで構成することにより、ビーム部材４０の（−Ｙ）方向の端部側を非接触式で垂直方向に支持する。 （もっと読む）