【課題】基板の変形を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、上面に基板が載置される保持部材と、保持部材の下面の一部を支持する支持部材と、一端が支持部材に接続され、保持部材の下面のうち支持部材の外側に張り出した張出領域と対向するように配置されるアーム部材と、アーム部材の他端に配置され、張出領域と接触する接触部を有し、接触部を介して張出領域に力を加える力発生機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長いシート状の感光物体に対しても効率的に露光を行う。
【解決手段】マスクＭが有するパターンの像でプレートＰを露光する露光方法であって、マスクＭをＸ方向に沿って往復移動させる工程と、マスクＭの移動とプレートＰの＋Ｘ方向へ移動とを同期して行う工程と、その往復移動中のマスクＭが＋Ｘ方向へ移動される第１期間に、マスクＭの第１パターンの像を＋Ｘ方向に関して正立像としてプレートＰに投影する工程と、その往復移動中のマスクＭが−Ｘ方向へ移動される第２期間に、マスクＭの第２パターンの像を＋Ｘ方向に関して倒立像としてプレートＰに投影する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】分割露光によってパターン形成を行う場合に、当該パターン形成に必要となるジョブファイルの生成を、効率よく、かつ、正確に行えるようにする。
【解決手段】露光工程を経て基板上に形成される回路パターンについてのレイアウトデータおよび当該回路パターンを分割露光により形成するためのレチクルについてのパターンデータを取得するデータ取得手段１１と、前記データ取得手段１１で取得した前記レイアウトデータおよび前記パターンデータを基に、前記レチクルを用いて前記回路パターンを形成する際の形成手順についての情報であるジョブファイルを生成するファイル生成手段１３ａと、前記ファイル生成手段１３ａが生成した前記ジョブファイルを前記露光工程で用いる露光装置へ出力するファイル出力手段１４と、を備えてジョブファイル生成装置１０を構成する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光方法を提供する。
【解決手段】複数の基板を順次露光する露光方法は、複数の基板のうちの第１基板の露光前の温度に関する第１温度情報を取得することと、第１基板に露光光を照射して、第１基板を露光することと、第１基板の露光後の温度に関する第２温度情報を取得することと、第１温度情報及び第２温度情報に基づいて、複数の基板のうちの第２基板に対する露光条件を調整して、第２基板を露光することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】レーザで描画した刷版パターンの面積率を高精度に測定する刷版パターンの面積率の測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザで描画した刷版パターンとして、周囲をレーザ非照射のみまたは照射のみの領域で囲んだ網点閉パターンを用い、所定の位置に移動可能な直動機構６ａ、６ｂにより、画像取り込みセンサ３にて網点閉パターンを撮像する。この時網点閉パターンは、計測範囲内側に収まる位置で画像データとして取り込まれる。刷版パターンに対する画像取り込みセンサ３の計測位置が異なっても、算出する面積率が変動しない為、高精度に測定することが可能である。また基準網点データとの比較により、レンズの歪曲収差の影響を抑え、さらに高精度に測定することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 ＤＭＤとマイクロレンズなどとの調整を容易にした描画装置を提供する。
【解決手段】 描画装置は、二次元的に配置された複数のミラーでパターンを形成するための光束に紫外光線の光束を空間変調する空間光変調素子（３４）と、空間光変調素子によって空間変調されたパターンを形成する光束を拡大する拡大光学系（３５）と、拡大光学系の第１結像位置にて拡大光学系の光軸方向と交差する面で空間変調素子の二次元的な配置と一致するように配置された複数のレンズからなる第１インテグレータ（４０）と、第１インテグレータで生じる迷光を減少させるように、空間光変調素子の複数のミラーを制御するミラー制御部（９０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光照射装置内のエアー浄化し、レンズやミラーといった光学部品の汚染を防ぐことができるエアー浄化装置つき光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線を含む光を放射する光源１と、光源１からの光を反射または透過する光学部品と、光源１および上記光学部品を内部に収納する光照射装置に、光照射装置内のエアーを浄化するエアー浄化装置２０を設け、浄化されたエアーを光照射装置内に導入する。エアー浄化装置２０は、紫外線照射部２１と、紫外線照射部２１からの紫外線を照射したエアー（ガス）を水に接触させる水槽２４を備え、紫外線を照射した後のエアーを水に接触させ、エアーの中から光学部品の汚染の原因となるジメチルスルフィド（以下ＤＭＳ）等を除去する。これにより、光照射装置内の光学部品の硫酸アンモニウム等による汚染を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体８を矢印Ａ方向に搬送しながら、フォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２を使用して行う被露光体８の第１の露光領域９に対する露光が終了すると、シャッタ５を被露光体８の搬送速度に同期して移動して光源光を遮断し、被露光体８がシャッタ５の移動中に移動した距離だけ被露光体８を矢印Ｄ方向に戻すと共に、フォトマスク１１を移動して第２のマスクパターン群１３に切り替え、フォトマスク１１のマスクパターン群の切り替えが終了すると、被露光体８の矢印Ａ方向への搬送を再開するのと同時に、シャッタ５を被露光体８の搬送速度に同期して矢印Ｂ方向に移動して光源光の遮断を解除し、第２の露光領域１０に対する露光を実行する。 （もっと読む）

【課題】マスクレス露光装置の各エンジンの投影レンズ等の投影倍率の違いにより各露光エリア８１〜８７の重なり部分の整合性が崩れる。
【解決手段】ワークに合わせた通常のデータ伸縮補正に加えて、予め各エンジンの投影倍率の違いによる投影伸縮率を測定し、各エンジンの開始ドット位置を設計上の正確なエンジン間隔に機械的に調整した後、各エンジンについて測定した前記投影伸縮率でもって各エンジンの描画データを補正することを特徴とするマスクレス露光装置の光学系補正方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表裏に互いに位置合わせされたパターンを形成するときに、これらのパターンがガラス基板の熱収縮によってずれることを防止する。
【解決手段】
まず、ガラス基板が収縮する温度よりも低温で、最終的に形成するポジパターンを反転させたネガパターンを、ガラス基板の表裏に互いに位置合わせして形成する。次に、ガラス基板が熱収縮する温度以上の高温で、ネガパターンを覆うように、ガラス基板の表裏にそれぞれポジパターンの材料を成膜する。そして、ネガパターンを剥離することにより、ガラス基板の表裏に、互いに位置合わせされたポジパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】彫刻の異常を早期に検知でき、作業効率の向上を図ることができる彫刻モニタリング方法及び装置、製版装置、並びに印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】彫刻目標となる目標立体形状データに基づいてレーザビームの出力を制御し、このレーザビームを被加工材(14)の表面に照射して当該被加工材を彫刻する。入力画像データに対応する画像領域の立体形状の彫刻作業の完了を待たずに、彫刻された部分の形状を３Ｄ形状センサ(30)で測定し、得られた形状データと目標立体形状データとの比較結果に基づき異常を検知してユーザに報知し、或いは、レーザ制御パラメータを補正する。画像領域の彫刻開始前又は画像領域の彫刻とともに、非画像部に所定のテストチャートを彫刻し、チャートを測定して得た形状データとチャートの目標立体形状データとを比較する態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】複数の光変調素子の各電極に対する配線の引き回しを容易にし、各光変調素子の配列ピッチの狭小化を可能にする。
【解決手段】電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子６を所定の配列ピッチで並べて備えたデバイスチップ５を有する空間光変調装置の配線構造であって、デバイスチップ５の一面に複数の光変調素子６の並び方向に略直交する方向に延設され、上記並び方向に平行な各光変調素子６の対向面に設けられた一対の電極７に夫々一端を電気的に接続した複数の電極パッド１と、デバイスチップ５を支持する支持基板９の一面に形成され、一端部をデバイスチップ５の複数の電極パッド１に対向させて設けた複数の中継線２と、各電極パッド１と各中継線２の一端部とを電気的にフリップチップ接続する接続部材３と、中継線２の他端部に一端部を電気的に接続させて、回路基板１１に多層形成された複数の引出線４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】基板の歪みに高精度に合わせつつパターンを描画する。
【解決手段】パターン描画装置では、基板上に既に形成されているパターンが有するマークの位置がマーク検出位置として検出され（ステップＳ１１）、基板が歪む前のマークの位置であるマーク参照位置からのマークの変位が求められる（ステップＳ１２）。そして、マークの変位を拘束条件として有限要素解析が行われ、複数のマークの間の位置である補間参照位置における変位が求められる（ステップＳ１３）。パターン描画装置では、マーク参照位置の変位および補間参照位置の変位に従ってパターンが変形されて描画が行われる（ステップＳ１４，Ｓ１５）。これにより、基板９の歪みに高精度に合わせつつパターンを描画することが実現される。 （もっと読む）

【課題】サブフィールドのサイズを大きくする。
【解決手段】荷電粒子銃10a1aから照射された荷電粒子ビーム10a1bが透過せしめられる開口10a1l'を有する第１成形アパーチャ10a1lと、第１成形アパーチャ10a1lの開口10a1l'を透過せしめられた荷電粒子ビーム10a1bが透過せしめられる開口10a1m'を有する第２成形アパーチャ10a1mと、第２成形アパーチャ10a1mの開口10a1m'を透過せしめられた荷電粒子ビーム10a1bによって描画データDに含まれる図形に対応するパターンが描画される試料Mが載置される可動ステージ10a2aとを具備する荷電粒子ビーム描画装置において、第２成形アパーチャ10a1mの開口10a1m'のうち、どの部分を透過せしめられた荷電粒子ビーム10a1bによって描画されるパターンに対応する図形であるかに基づいて、描画データDに含まれる図形の位置を描画データ上で移動させる。 （もっと読む）

【課題】スキャン露光方式において、複数の露光パターンを１台の装置で効率良く露光するための手段を提供することであり、特に、異種の２つのカラーフィルタパターンを有するカラーフィルタ基板を、異なる２つの色工程にまたがって、１台のスキャン露光装置により停滞無く引き続いて処理するための露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供すること。
【解決手段】感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第１の基板搬送手段と、第２の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなる。 （もっと読む）

【課題】複数の処理部において作成されたデータを一括して管理する。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置10に入力された描画データDに基づき、可動ステージ10a2aに載置された試料M上に荷電粒子ビーム10a1bによってパターンを描画する荷電粒子ビーム描画方法において、荷電粒子ビーム描画装置10に入力された描画データDに基づいて第１処理部(10b1a)により第１の処理を行って第１出力データを作成し、荷電粒子ビーム描画装置10に入力された描画データDに基づいて第２処理部(10b1b)により第２の処理を行って第２出力データを作成し、第１処理部(10b1a)からの第１出力データの圧縮処理または削除処理の要望、および、第２処理部(10b1b)からの第２出力データの圧縮処理または削除処理の要望に基づいて、一括管理部10b1hにより第１出力データおよび第２出力データの圧縮処理または削除処理の管理を一括して行う。 （もっと読む）

【課題】 例えば走査型の露光装置に適用して走査露光にかかるスループットの向上を達成することのできる投影光学系を提供する。
【解決手段】 第１面（Ｍ）からの光に基づいて該第１面の複数の像を形成する投影光学系（ＰＬ）は、第１面からの光が入射する正レンズ群（Ｌｐ）と、正レンズ群の焦点位置近傍に配列されて個別に姿勢変化可能な複数のミラー要素を有し、該複数のミラー要素のうちの複数の第１反射部と複数の第２反射部とを互いに異なる姿勢に制御して、正レンズ群から入射した光（Ｌ１）を第１の光（Ｌ１１）と第２の光（Ｌ１２）とに分割し且つ第１の光および第２の光を正レンズ群に向けて反射する分割反射部（１１）と、正レンズ群を含み、第１の光に基づいて第１面の第１の像を形成し、第２の光に基づいて第１面の第２の像を形成する中間結像光学系（ＧＭ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 照射領域変更などの理由でハエの目レンズを交換する場合にハエの目レンズ固有の照度むらを補正し、照度むら調整のダウンタイムを無くし、生産性を向上させる照明光学装置を提供する。
【解決手段】 光源からの光を照明光学系に入射し、該照明光学系からの照明光により被照射面を照射する照明光学装置であって、複数のハエの目レンズと、光路内において前記ハエの目レンズを他のハエの目レンズに交換するハエの目レンズ交換手段と、前記複数のハエの目レンズと同数の、照射範囲を規定するスリットと、光路内において前記スリットを他のスリットに交換するスリット交換手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを使用して近接露光する際に、隣り合う被露光領域での繋ぎムラの発生を防止することができる近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、搬送される基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射して、基板Ｗに各マスクＭのパターンを露光し、搬送方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する。該露光装置１は、直交方向で隣り合う被露光領域を露光する各マスクと基板との各ギャップの少なくとも一方をリアルタイムに変化させるギャップ変更手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 例えば走査型の露光装置に適用して走査露光にかかるスループットの向上を達成することのできる投影光学装置を提供する。
【解決手段】 本発明の態様にかかる投影光学装置は、複数の光源を形成する光源光学系（２０，２１）を有し、該光源光学系からの光を第１面（Ｍ）に照射する照明光学系（ＩＬ）と、複数の光源の位置と光学的に共役な位置に配列されて第１面からの光を反射する複数のミラー要素を有し、該複数のミラー要素からの光に基づいて第１面の像を形成する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）