【課題】空間光変調器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】基板と、基板に対して揺動する反射鏡とを備えた空間光変調器であって、反射鏡は、反射膜材料により形成された一対の反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、一対の反射膜材料層に挟まれた非反射膜材料層とを含む積層体を有し、一対の反射膜材料層の一方が反射鏡の反射面となる。反射膜材料はアルミニウムであり、非反射膜材料は窒化珪素であってもよい。また、反射膜材料層の一方は、反射面を被覆する気密且つ透明な保護層を更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動しながら、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給する。チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 （もっと読む）

【課題】構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。
【解決手段】感光膜を形成した被露光基板を上面に保持する露光ステージと、前記被露光基板の上方からパターン露光を行うため平面視矩形状のフォトマスク（原版）を前記被露光基板に対向させて前記被露光基板の上面に保持するマスクホルダとを備え、前記フォトマスクと被露光基板との間に所定の微小間隔をあけて、前記フォトマスク上方から光を照射して前記被露光基板にパターン露光を行う基板露光装置において、前記露光ステージは、前記フォトマスクと同じ撓み量を有する。 （もっと読む）

【課題】 帯状の感光性基板への走査露光にかかるスループットの向上。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を走査方向（Ｙ方向）に沿って移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１マスク（Ｍ１）を保持して第１の向き（＋Ｙ方向）に移動する第１ステージ（ＭＳ１）、及び第２マスク（Ｍ２）を保持して第２の向き（−Ｙ方向）に移動する第２ステージ（ＭＳ２）を有するステージ機構と、第１マスク上に第１照明領域（ＩＲ１）を形成する第１照明系（ＩＬ１）、及び第２マスク上に第２照明領域（ＩＲ２）を形成する第２照明系（ＩＬ２）を有する照明光学系と、第１照明領域内のパターンの倒立像を第１結像領域（ＥＲ１）に形成する第１結像系（Ｇ１，Ｇ３）、及び第２照明領域内のパターンの正立像を第２結像領域（ＥＲ２）に形成する第２結像系（Ｇ２，Ｇ３）を有する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させる。
【解決手段】マイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の予め設定されたタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造であっても、レーザ変位計の温度変化による測定値の変動を精度良く校正することが可能な露光装置、該露光装置の校正方法及び校正用部材を提供する。
【解決手段】マスクパターンを形成してあるマスク４を保持するマスク保持部と、露光対象となる基板を保持する基板保持部とを有し、光源９から照射された光により、マスクパターンを基板表面に露光する。マスク４の下面と基板の上面との間の距離を測定する一又は複数のレーザ変位計を備えており、レーザ変位計の温度校正の基準となる基準板を含む校正用部材２０を備えた校正器具３０を、光源９の照射領域とは離隔して設置する。 （もっと読む）

【目的】主副２段の偏向器を用いて行なわれるパターン描画における副偏向領域での位置ずれ量を高精度に補正可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、電子ビームを偏向して、試料上にパターンを描画する主副２段の主偏向器２０８と副偏向器２１０と、ステージ上のマーク上を電子ビームで走査して、主偏向領域内の各位置における複数の副偏向領域内の位置に生じる第１の位置誤差を測定するマークスキャン測定部５２と、電子ビームを用いて第１の位置誤差が補正された主偏向領域内の各位置における複数の副偏向領域内の位置に評価パターンを描画した評価基板から得られる副偏向領域内の位置に生じる第２の位置誤差を記憶する記憶装置１４４と、記憶装置１４４から第２の位置誤差を読み出し、第１の位置誤差に加算する加算部５５と、加算された第３の位置誤差で副偏向領域内の位置を補正する補正部６２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】局所的な部分のパターンのみに生じる異常を簡易的な手法で解消する。
【解決手段】レジストが塗布された試料Mに荷電粒子ビーム10a1bを照射し所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置10において、複数のメッシュを有するマップを作成し、各メッシュ内に位置する図形の総面積と等しい面積を有する代表図形を作成し、各メッシュ内に位置する代表図形の面積に基づいて各メッシュの荷電粒子ビームの近接効果補正照射量を算出し、近接効果補正照射量を変更する必要がある図形が存在する場合に、代表図形が作成される前に、近接効果補正照射量を変更する必要がある図形の面積を変更すると共に、算出された荷電粒子ビームの近接効果補正照射量のうち、近接効果補正照射量を変更する必要がある図形に対応するパターンを描画するための荷電粒子ビームの近接効果補正照射量を変更する。 （もっと読む）

【課題】高分解能寸法でピッチを有するパターンのフィールド全体にわたり所望のコントラストを生成する干渉リソグラフィのシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】干渉型リソグラフィシステムは、鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する。ビームスプリッタで生成された２つのビームは、基板プリズムに向けた入力プリズムの個々の表面で反射する。基板プリズムは、イメージ平面での入射角がビームスプリッタ回折角にほぼ等しくなるように、入力プリズムに対して対称となっている。代案として、ビームスプリッタで生成された２つのビームは、出力表面での入射角がビームスプリッタの回折角にほぼ等しくなるように、プリズムの出力表面に向けてプリズムの個々の表面で反射される。これらの複数の干渉計は積層することができ、その各々は積層体が可変ピッチ干渉システムを提供するように、特定のピッチに対して最適化される。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】この露光方法は、ワーク１２のアライメントマークとマスク２１のアライメントマークとをアライメントカメラ５２で検出する工程と、アライメントカメラ５２で検出された両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出する工程と、算出された位置ずれ量に基づいて、ワークとマスクとのアライメントを調整する工程と、アライメント調整工程と同時又は別々のタイミングにおいて、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６反射鏡の曲率を補正する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートＳを仮保持したまま６つの補助シートホルダＳＨ_２，ＳＨ_３が−Ｚ方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めされ、これにより、シートＳに幅方向（Ｙ軸方向）及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。すなわち、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉにＸＹ二次元方向のテンションが付与された状態で、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分が、シートホルダＳＨ_１の平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートＳの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】長尺のシートＳの長尺方向の少なくとも２箇所を拘束し、長尺方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに長尺方向に関するテンションを付与するとともに、シート材の長尺方向と交差する幅方向の両側でシート材をホルダＳＨ_２で吸着して拘束し、幅方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに幅方向に関するテンションを付与する。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シート材Ｓの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、平坦化された状態のシート材の所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、高いスループットで精度良く描画する。
【解決手段】 電子線描画装置は、電子光学鏡筒及び試料室を有する本体部、及び主制御装置２５０などを備えている。主制御装置２５０は、制御装置２５１、回転コントローラ２５２、位置コントローラ２５３、同心円演算処理装置２５４、多角形演算処理装置２５５を有している。そして、多角形演算処理装置２５５は、多角形を描画する際の基板の回転数、描画開始位置、多角形の辺の数、及び走査電極の偏向感度に基づいて、偏向周波数を演算する振幅演算調整回路、偏向周波数と同じ周波数の方形波信号から２次関数波信号を生成する第１の信号処理回路、及び２次関数波信号における基板の半径方向の外向きの偏向成分を折り返し、半径方向の内向きの偏向成分と加算して、同心円生成信号に重畳する第２の信号処理回路を有している。 （もっと読む）

【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成装置（１０）において、パターンに対応するパターン情報に基づいて、基板（ＦＢ）の表面に供給された硬化性材料（Ｒ）を押圧する押圧部（１１）と、押圧部（１１）によって押圧された硬化性材料（Ｒ）に所定のエネルギーを付与し、該硬化性材料（Ｒ）を硬化させる硬化部（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率が良くまた迷光の発生も防ぐことができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】複数個のランプ１１を複数個配列して光源部１０を構成し、各ランプ１１に対して独立して電力を供給する複数の点灯電源装置３０を設ける。また、レンズの形状（縦横比）がそれぞれのインテグレータ毎に互いに異なる複数のインテグレータ４１，４２を設け、インデレータを光路中に選択的に挿入する切換え機構４０を設ける。制御部５０は、切換え機構４０を制御して光照射領域の形状に合う縦横比のレンズを持つインテングレータ選択して光路中に挿入し、また、点灯電源装置３０を制御して、光源部１０の発光領域の縦横比が、上記選択されたインテグレータを構成する各レンズの縦横比にほぼ一致するようにランプ１１の点灯を制御する。 （もっと読む）

【課題】波長板として機能する光学部材の製造誤差の影響を実質的に受けることなく、所望の偏光状態の光で被照射面を照明する照明光学装置。
【解決手段】光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ，Ｗ）を照明する照明光学装置。照明瞳面またはその近傍に配置されて、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換するための偏光変換素子（１２）を備えている。偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を可変的に付与するための複数の可変旋光部材を有する。各可変旋光部材は、旋光性を有する光学材料により形成され且つ光軸（ＡＸ）と交差する方向に沿って相対的に移動可能な２つの偏角プリズムを有する。 （もっと読む）

【課題】製造が容易な投影光学系を有する露光装置を提供する。
【解決手段】原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置において、前記投影光学系は、ミラーアセンブリを含み、前記ミラーアセンブリは、前記投影光学系の光軸を折り曲げる第１反射面を有する第１ミラー部材と、前記光軸を折り曲げる第２反射面を有する第２ミラー部材と、前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材を支持する支持機構とを含み、前記支持機構が位置決めされることによって前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材の相互の位置関係が維持されたまま前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材が位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】モアレの発生を低減することができるパターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜を提供する。
【解決手段】感光材料に対し７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、マスクパターンを搬送方向に周期的な周期パターンとして感光材料に露光することで導電膜１０を得る。導電膜１０は、複数の導電性の金属細線にて構成された導電部１２と複数の開口部１４とを有する導電膜１０において、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側部は、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの設計幅Ｗｃを示す仮想線ｍから開口部１４に向かって張り出し、且つ、張出し量が設計幅Ｗｃの１／２５〜１／６である張出し部２６が形成された形状を有する。 （もっと読む）

【課題】光の透過性を有する基板の面位置を高精度に検出できること。
【解決手段】 基板の表面で反射された光を検出し、その検出結果に基づいて表面の面位置を検出する面位置検出装置である。その面位置検出装置は、基板の裏面を保持する保持部と、該保持部に対して凹状に形成された凹部とを有する保持装置と、基板の屈折率と同等の屈折率を有する流体を凹部に供給する流体供給装置と、凹部の上方の基板の表面に光を照射する照射装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長いシート状の感光物体に対しても効率的に露光を行う。
【解決手段】マスクＭが有するパターンの像でプレートＰを露光する露光方法であって、マスクＭをＸ方向に沿って往復移動させる工程と、マスクＭの移動とプレートＰの＋Ｘ方向へ移動とを同期して行う工程と、その往復移動中のマスクＭが＋Ｘ方向へ移動される第１期間に、マスクＭの第１パターンの像を＋Ｘ方向に関して正立像としてプレートＰに投影する工程と、その往復移動中のマスクＭが−Ｘ方向へ移動される第２期間に、マスクＭの第２パターンの像を＋Ｘ方向に関して倒立像としてプレートＰに投影する工程と、を含む。 （もっと読む）