【課題】スループットの低下を抑制しつつドリフト補正の精度を向上させて、高い精度で描画することのできる電子ビーム描画方法および電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】入力部２０に入力された描画データの情報に基づいて、制御計算機１９で、電子ビーム５４により描画する所定領域を少なくとも１つのフレーム単位で区分けし、各区分けされた領域に描画される予定のパターンの面積密度が評価される。次に、ドリフト補正時間間隔決定部３２において、各区分けされた領域の中で隣接する領域間における面積密度の変化量が求められ、所定領域が、変化量が所定値以下である部分と変化量が所定値より大きい部分とにグループ分けされる。次いで、グループ分けされた部分毎に、電子ビーム５４のドリフトを補正する時間プロファイルが決定される。 （もっと読む）

【課題】ステージ可変速描画におけるステージ速度の算出単位であるブロックのサイズを、スループットの観点から最適化することが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】暫定的なブロックサイズＬの各ブロックの描画速度を平均化した平均描画速度Ｍと、平均描画速度Ｍからの各ブロックの描画速度のバラツキσとを算出する（Ｓ１２）。ブロックサイズＬのブロックでステージを加減速させることによって到達する最大速度Ｖｍａｘを算出する（Ｓ１３）。“Ｖｍａｘ−Ｍ≧σ”の関係が成立しないと判別された場合、暫定的なブロックサイズＬを増加させる（Ｓ１５）。“Ｖｍａｘ−Ｍ≧σ”の関係が成立すると判別された場合、ブロックサイズＬを最適値とする（Ｓ１６）。 （もっと読む）

【課題】マスクをマスクホルダから取り外す前と、マスクをマスクホルダに新たに装着した後とで、マスクのたわみ量を一定にして、焼付け誤差を低減する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２のたわみ量を検出する検出手段１１を設ける。マスク２をマスクホルダ２０から取り外す前に、検出手段１１によりマスク２のたわみ量を検出する。マスク２をマスクホルダ２０に装着した後に、検出手段１１によりマスク２のたわみ量を検出する。主制御装置６０は、検出結果に基づき、圧力調節手段２６により負圧室２２の圧力を調節して、マスクホルダ２０に新たに装着されたマスク２のたわみ量を、マスクホルダ２０から取り外す前のマスク２のたわみ量と同じにする。 （もっと読む）

【課題】ウエハに対してマスクを高精度に位置合せした上で、一度の露光でウエハの両面にパターンを同時露光すること。
【解決手段】互いに対向して配置されると共に、パターンＰが予め描画されたマスクＭ１、Ｍ２がそれぞれ装着される第１マスク装着部３及び第２マスク装着部２と、両マスクの間に挟まれるように配置されたウエハＳに対して両マスクを通して光を照射して、ウエハの両面にパターンを露光させる露光手段１４と、を備え、両マスク装着部は、それぞれに装着されたマスクが互いに平行に配置される構成とされた装置であって、両マスク装着部のうち少なくとも一方のマスク装着部には、前記一方のマスク装着部に装着された一方のマスク上の所定位置に配置されたウエハを、前記一方のマスクに形成された貫通孔Ｍ１ａを通して吸着しうる吸着手段３４が備えられているウエハ露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターンの断面の逆台形状を解消し、上下面の幅の差異は無くし、パターンの物性を均一にするパターン形成方法、カラーフィルタのブラックマトリックス２、フォトスペーサー５、配向制御用突起 などを剥がれ難いものとし、導電性、弾性などを均一にするパターン形成方法。
【解決手段】パターン露光として、塗布膜１５の上面側にパターン露光を与え、塗布膜の透明基板１片面と接する下面側に上面側のパターン露光と同一パターンのパターン露光を与えること。塗布膜の上面側に与える露光量と、下面側に与える露光量が等量であること。パターンが、カラーフィルタを構成するパターンである。 （もっと読む）

【課題】感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】より詳細には、この発明は、化学線に対する露光の間、調整された酸素濃度を有する環境内において凸版フォームを作製するための方法および装置を説明する。この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの位置ずれ量が基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの位置を検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの位置に応じて、描画データを作成する。基板１をチャック１０で支持し、チャック１０をＸステージ５により移動し、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】本発明は形状補正荷電粒子ビームパターン描画装置に関し、台形、三角形の斜辺部分の走査丸めの影響を除去できるようにすること。
【解決手段】分割された図形面積から実際の描画面積を求め、この描画面積と指定した走査ステップサイズから分割図形内の計算上の荷電粒子ビーム照射数を計算する手段と、分割された図形から実際の描画形状を求め、この形状と指定した走査ステップサイズから分割図形の走査丸めを含んだ実際の荷電粒子ビーム照射数を計算する手段と、分割図形内の実際の荷電粒子照射数に対する、計算上の照射数の比を計算する手段と、分割された図形に対し、通常指定のドーズ補正量と合わせて最終ドーズ補正量を決定する手段と、荷電粒子ビームの当該図形内の走査速度を、最終ドーズ補正量に従って変調し、走査丸め誤差による図形形状の変化をドーズ量で補正する手段と、から構成される。 （もっと読む）

【課題】シームレスに印刷・転写可能な円筒状金型または円盤状金型にサブミクロンサイズのパターンを原画に忠実に描画することが出来るレーザー描画装置を提供すること。
【解決手段】フォトレジスト層を表面に有する回転する記録媒体と、光学台と、記録レーザーと、記録レンズを光学台上に備え、記録媒体が一回転する間に光学台が一定距離移動することにより記録媒体表面をレーザー光が連続的に走査して露光し、記録媒体表面に２次元的パターンをシームレスに描画するレーザー描画装置であって、レーザービームが記録すべき2次元パターンに基づくデジタル信号により変調されており、記録媒体が一回転する間に光学台が回転方向に直交する方向に移動する距離は、記録レーザーにより記録媒体上に形成されるマークの光学台移動方向の長さより小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルを基板の無駄を少なく生産する。
【解決手段】 液晶基板を自在に回転させる回転駆動手段とマスクを自在にマスキングする遮光板を設けることで、該載置手段を回転させ、マスクに配置された液晶パネルの全部または一部を露光することにより、液晶パネルを形成する。 （もっと読む）

【課題】試料に形成された多数のパターンの座標を短時間で計測することが可能な座標計測装置を提供する。
【解決手段】偏向器１３により電子線１２を偏向走査することで、試料Ｍに形成された複数のパターンのＳＥＭ画像が画像取得手段３５により取得される。取得したＳＥＭ画像に含まれる複数のパターンのうちの一のパターンの座標がステージ位置に対応させられ、この一のパターンの座標に対する他のパターンの相対的な座標が座標計測手段３８により計測される。ステージ２２を移動させて又は移動させながら、ＳＥＭ画像を取得し、座標を計測させる制御を繰り返し実行する。 （もっと読む）

【課題】板状部材を厚み方向に沿った線を中心として回動させる場合にもタクトを短縮できる板状部材の搬送装置および板状部材の搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置１０は、上方に向かって複数の噴射口から気体を噴射することによりガラス基板１１を浮上させる浮上部材２１を有する浮上手段２０と、浮上手段２０によりガラス基板１１が浮上部材２１から浮上した状態でガラス基板１１を保持するとともに搬送方向に沿って下流側に向かってガラス基板１１を搬送する搬送手段３０とを備える。搬送手段３０は、搬送方向に沿って移動可能であるとともにガラス基板１１の厚み方向に沿った線を中心として軸回転可能な吸着パッド３４を有する。パッド３４は、ガラス基板１１の平面中央部に吸着する。 （もっと読む）

【課題】光学系の影響による歪みを補正しつつ高速かつ高精度に画像を描画する。
【解決手段】描画装置のヘッド部では、一列に１０２４個並ぶ光変調素子により空間変調された光ビームが生成される。光ビームは６つの反射面を有するポリゴンミラーにて偏向され、対象物上の光の照射位置が走査されて描画が行われる。描画装置では矩形のテストパターンを実際に描画して反射面等の歪みの影響を受けたテストパターン画像９１ａ〜９１ｆが取得され、反射面に依存しない共通領域９１１内に対象描画領域９２が設定される。そして、対象描画領域９２を形成する対象画素を光変調素子に入力されるデータを示す論理画素に変換する補正テーブルが生成される。描画時には補正テーブルを参照して入力された描画データが変換され、対象描画領域９２の描画が行われる。これにより、光学系の影響による歪みが補正されつつ高速かつ高精度に画像が描画される。 （もっと読む）

【課題】ライトクロックの出力周波数を上げることなく、位相サーボパターンを描画する電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】フォーマッタ１が備えるＤＤＳ１１が、ライトクロックＷＣＬＫ＿Ｒを出力し、ＤＤＳ１２が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり＋９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿＋９０を出力し、ＤＤＳ１３が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり−９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿−９０を出力する。そして、データジェネレータ１５、１６、１７が、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒ、ＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０に基づいてブランキング信号を出力し、ＯＲ回路２０がそれぞれのブランキング信号の論理和をとって、ブランカに対して入力する。 （もっと読む）

【課題】露光対象基板を載せるステージのヨーイングに起因する露光パターンの位置ズレを発生しない、低コストかつ高精度の直接露光方法および直接露光装置を実現する。
【解決手段】直接露光装置１の露光ヘッド５１に対して相対移動するステージ５２上に載せられた露光対象基板を、露光ヘッド５１により直接露光する直接露光方法は、直接露光装置１に入力されたベクターデータ形式の設計データを、直接露光装置１内の演算処理部１１が、予め作成された補正テーブルを参照して補正し、補正後の設計データを作成する補正ステップと、演算処理部１１が、補正後の設計データを、ラスターデータ形式の装置用データに変換する変換ステップと、露光ヘッド５１が、相対移動するステージ５２上に載せられた露光対象基板を装置用データに基づいて直接露光する露光ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＭＥＭＳ、半導体等の製造に用いるマスクレス露光装置およびマスクレス露光方法に関し、投影パターンの大きさに応じて投影倍率を可変にした場合であっても精度よく投影パターンを形成することを目的とする。
【解決手段】 基板を支持するステージと、前記基板に投影する所望の投影パターンを外部信号の入力により生成する空間光変調部と、対物レンズを備え前記投影パターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記対物レンズを介して前記基板に形成された位置合わせマークを検出する観察光学系とを有するマスクレス露光装置であって、前記投影光学系は、投影倍率を変更可能に前記対物レンズが構成されてなるとともに、前記投影倍率を変更する毎に、前記位置合わせマークを予め設定した指標又は予め特定した前記投影パターンの中心位置に対して位置合わせする機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置を用い、複数の光ビームにより基板の走査を行う際に、光ビーム照射装置のヘッド部の位置ずれによる描画品質の低下を防止する。
【解決手段】チャック１０の位置を検出し、チャック１０の位置の検出結果に基づき、ステージ５，７の移動を制御して、チャック１０を位置決めし、チャック１０に設けられた受光手段５１により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光する。受光した光ビームから、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａの位置ずれを検出する。各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａの位置ずれの検出結果に基づき、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光によって基板上に投影像を形成する投影光学系と、基板の位置検出を行う検出装置と、検出装置の検出結果に基づいて投影像と基板との相対的な位置合わせを行う位置合わせ装置と、投影像の位置と位置検出における検出基準位置との少なくとも一方と露光光の照射量との関係に関する相関情報を記憶した記憶装置と、露光光の照射量を計測する計測装置と、計測装置の計測結果と相関情報とに基づいて、投影光学系、検出装置、及び位置合わせ装置の少なくとも１つの装置較正を行う較正装置とを備えている。 （もっと読む）

発光ダイオードが光源として使用される、立体リソグラフィ装置、および立体リソグラフィ装置用の露光システム。本発明は、発光ダイオードからの光を整合すること、および発光ダイオードを交換および制御することに関する。
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【課題】視野角及び応答速度が向上した液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示素子の製造方法であって、互いに異なる第１方向及び第２方向に配列された２つの周期的パターンが形成されたマスクを装填することと、部分照明系の瞳面ＩＰＰにおける露光光の光量分布を、その部分照明系の瞳面上で、２つの周期的パターンと所定の位置関係及び角度関係にある４つの領域（第１領域〜第２領域）で光量が大きくなる分布にして、そのマスクのパターンを部分投影光学系を介して基板に転写することと、を含む。 （もっと読む）