【課題】ＬＥＤ光源において使用するＬＥＤ素子数を削減し、小型で低コストで、短時間に十分な光量を獲ることができる露光用光源を提供する。
【解決手段】
露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に照射するように構成した。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】自動的に基板上面の高さとマスク下面の高さとを測定して、基板とマスクとのギャップ分布を作業者のスキルに影響されることなく、精度よく求めることができる近接露光装置及びそのギャップ測定方法を提供する。
【解決手段】マスクステージ１側に配設されて基板上面の高さＨ_ｗを測定するマスク側変位センサ３１と、ワークステージ２側に配設されてマスク下面の高さＨ_ｍを測定する基板側変位センサ１５と、を備え、マスク側変位センサ３１、及び基板側変位センサ１５によってそれぞれ測定された基板上面の高さＨ_ｗと、マスク下面の高さＨ_ｍと、に基づいて、基板ＷとマスクＭとのギャップ分布を求める。 （もっと読む）

【課題】Ｐ偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光による露光を同時に行うことができる露光装置、露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１、コンデンサレンズ１４、及びマスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。そして、露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３が設けられている。マスク１２は、その光透過領域に、Ｐ偏光の直線偏光のみを透過させる複数個の第１の偏光変換素子１２２ａと、Ｓ偏光の直線偏光のみを透過させる複数個の第２の偏光変換素子１２２ｂとが設けられており、第１の偏光変換素子１２２ａ及び第２の偏光変換素子１２２ｂは、光透過領域に交互に配置されている。第１及び第２の偏光変換素子１２２ａ，１２２ｂは、例えば長尺の部材であり、１方向に延びる幅方向に交互に配置されている。 （もっと読む）

【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画制御部７１は、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて、光ビームが照射される領域が収縮又は拡張する様に描画データを補正して、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する。第１のメモリ７６ａは光ビームが照射される領域を収縮する位置を指定するデータを記憶し、第２のメモリ７６ｂは光ビームが照射される領域を拡張する位置を指定するデータを記憶する。変換回路７７ａは第１のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換し、変換回路７７ｂは第２のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換する。選択回路７８は、変換回路７７ａにより変換された描画データ、変換回路７７ｂにより変換された描画データ、または変換前の描画データのいずれかを選択する。 （もっと読む）

【課題】生産性に影響を与えずに露光ステージ及びフォトマスクの温度変動を抑制し、製品のトータルピッチの精度や転写精度のバラツキを低減させる露光方法及び露光装置を提供するものである。
【解決手段】被露光基板を保持するステージと、該ステージの上面にマスクを着装するマスク着装手段と、該マスク着装手段の上面に平行光を照射する露光手段と、マスクを位置合わせするアライメント手段と、アライメント手段にステージを連動させるステージ連動手段と、を具備する露光装置において、露光装置内の被露光基板の有無により、被露光基板への露光待機状態を確認する待機状態確認手段と、露光待機状態直前の露光からの経過時間を計測する経過時間測定手段と、計測に基づいて露光待機状態に露光するインターバル露光の間隔の設定をする露光間隔設定手段と、インターバル露光を実行するインターバル露光手段を具備することを特徴とする露光装置である。 （もっと読む）

【課題】反射電子ビームリソグラフィ装置のパターン生成器の画素素子の革新的なレイアウトを提供する。
【解決手段】一実施形態は、対象基板上にパターンを書き込むための装置に関する。この装置は、画素素子の複数の配列を含み、各配列は、互いにオフセットされている。加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。さらに、この装置は、対象基板上にパターン化ビームを投射するための投射器１２１４を含む。また、他の特徴、態様および実施形態も開示される。 （もっと読む）

【課題】複数個のマイクロレンズアレイを使用する露光装置において、各マイクロレンズアレイの光軸を高精度で相互に一致させることができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】複数個のマイクロレンズが２次元的に配置されて構成された複数個のマイクロレンズアレイ２が１個の支持板１に配置されている。３個の圧電素子３が支持板１の孔１ａの周辺部に設置され、マイクロレンズアレイ２は３点で圧電素子３に支持されている。これにより、圧電素子３の印加電圧を調節してこれを変形させることにより、マイクロレンズアレイ２の光軸を調整する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを基板に対して移動させる露光装置において、マイクロレンズアレイの撓みの発生を防止することができ、マイクロレンズと基板との間のギャップを一定にすることができ、高精度のパターンを露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】矩形状の面に２次元的にマイクロレンズ４ａが配列されたマイクロレンズアレイ４は、その４辺でマイクロレンズアレイプレート３により支持されている。このマイクロレンズアレイプレート３はその長手方向に直交する方向に移動することにより、基板１の露光すべき領域が露光光で走査される。このマイクロレンズアレイプレートには、その少なくとも長手方向の中央を含む部分に、下方に向けて空気を吹き出す吹出部（多孔質部分５）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】投影光学系が大型である場合でも、結像性能の変化を抑制した露光装置を提供することができる。
【解決手段】投影光学系５を収容する鏡筒１１の内部に対して給気を実施する給気手段１２と、該給気手段１２を制御することで鏡筒１１の内部温度を調整する温度制御手段１３とを備える露光装置１であって、温度制御手段１３は、露光処理に伴う内部温度の上昇に合わせて、給気温度を上昇させるように給気手段１２を制御する。 （もっと読む）

【課題】オペレータの負担を軽減する。
【解決手段】可動ステージ１０ａ２ａ上に載置された上面にレジストが塗布された試料Ｍに対し、主偏向器１０ａ１ｅおよび副偏向器１０ａ１ｆによって偏向された荷電粒子銃１０ａ１ａからの荷電粒子ビーム１０ａ１ｂを照射することにより、複数のパターンを試料Ｍの描画領域ＤＡに描画する荷電粒子ビーム描画装置１０において、スループット重視が選択された場合に、描画パラメータ準備部１０ｂ１ｂによって１通りのストライプ多重描画の多重回数Ｎおよびサブフィールド多重描画の多重回数ｎの組み合わせを決定し、描画精度重視が選択された場合に、描画パラメータ準備部１０ｂ１ｂによって１通りのストライプ多重描画の多重回数Ｎおよびサブフィールド多重描画の多重回数ｎの組み合わせを決定する。 （もっと読む）

【課題】精度良くレジストに所望のパターンを形成することが可能な荷電ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】荷電ビーム描画装置１０は、基板１１ｂ上に塗布したレジスト１１ａにビームを照射する照射部１２と、照射部を制御する制御部１４とを具備し、制御部は、ビームの照射量とビームの照射により引き起こされるパターンの位置偏移量との関係を取得し、レジストにパターンを形成するために必要なビームの基準照射量Ｄ１を取得し、パターンに対して許容される許容位置偏移量ｄＰを取得し、関係に基づいて許容位置偏移量に対応するビームの限界照射量Ｄｌｉｍｉｔを取得し、関係に基づいて基準照射量に対応する基準位置偏移量Ｐ１から許容位置偏移量を減じた飽和位置偏移量Ｐｓａｔに対応する飽和照射量Ｄｓａｔを取得し、照射部に対して１回の照射量が限界照射量を越えないように、飽和照射量に到達するまでビームをレジストに照射させる。 （もっと読む）

【目的】高精度パターンの寸法精度を向上させながらより高速な描画を可能とし得る方法を提供することを目的とする。
【構成】描画データの作成方法は、電子ビームを用いて描画される描画精度の異なる複数のパターンが定義された描画データを記憶する記憶装置から各パターンのデータを読み出し、描画精度が低精度側のパターンのうち、描画精度が高精度側のパターンの領域端から近接効果の影響範囲内に位置する部分パターンを切り出す工程（Ｓ１０６）と、切り出された低精度側の部分パターンと当該高精度側のパターンとをマージ処理する工程（Ｓ１１０）と、マージ処理されたパターンのデータと切り出されずに残った低精度側の残部分パターンのデータとを出力する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の光変調素子のそれぞれと光検出器からの出力とを高精度に対応づけ、複数の光変調素子からの出力光量を高精度に補正する。
【解決手段】画像記録装置は、素子配列方向に配列された複数の光変調素子を有する空間光変調器、および、空間光変調器からの光を受光するフォトセンサを備える。画像記録装置では、空間光変調器の複数の光変調素子において複数の目印素子１２３を決定し、目印素子１２３以外の補正対象素子１２５に補正前の光量指示信号を送るとともに、目印素子１２３に補正対象素子１２５からの出力光量と区別可能な光量を出力させる目印指示信号を送る。そして、複数の目印素子１２３からの光を目印とすることにより、複数の補正対象素子１２５とフォトセンサからの出力とを高精度に対応づけ、複数の光変調素子のそれぞれに送られる光量指示信号に対する補正量を高精度に決定することができる。 （もっと読む）

【課題】高い耐パワー性能と短波長光での光損傷性能が高く、かつ高速な変調が可能な光変調デバイスおよび当該光変調デバイスを用いた露光装置を提供する。
【解決手段】両端面１１ａ、１１ｂを露出させたまま電気光学結晶層１１の周囲が結晶部１４（電気光学結晶層１２、１３）で取り囲まれて四角柱形状の外観を有する電気光学結晶基板１５が形成されている。また、電気光学結晶基板１５の上面および下面に電極１６ａ、１６ｂがそれぞれ形成される。電極１６ａ、１６ｂは電位付与部１７と電気的に接続されており、電位付与部１７から電極１６ａ、１６ｂに正電位および負電位を与えると、電気光学結晶層１１および結晶部１４の屈折率がそれぞれ増加および減少して入射光Ｌinを電気光学結晶層１１に封じ込めて伝搬する。逆電位を付与すると、入射光Ｌinが結晶部１４に吸い込まれるように広がる。 （もっと読む）

【課題】マスクホルダを空気圧で支持しながら、マスクホルダをＺ方向へ移動及びチルトして、マスクと基板とのギャップ制御を行う際、ギャップ合わせ後にマスクホルダが下降するのを防止して、マスクと基板とのギャップ制御を短時間で行う。
【解決手段】空気圧回路から空気圧支持装置２３へ圧縮空気を供給し、マスクホルダ２０を空気圧支持装置２３により空気圧で支える。空気圧支持装置２３を空気圧回路から遮断して、空気圧支持装置２３内の空気を密封しながら、複数のＺ−チルト機構３０によりマスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトして、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。ギャップ合わせ後に、空気圧支持装置２３から空気が流出せず、マスクホルダ２０が下降しない。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジのぎざぎざを目立たなくし、またモアレの発生を抑制して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）は、複数のミラーを直交する二方向に配列して構成されている。描画制御部７１は、露光領域の同じ位置の描画データを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ複数回供給し、複数回供給する描画データの一部を、露光領域の隣接する位置の描画データとして、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの一部が露光領域の隣接する位置へずれ、描画されるパターンのエッジがぼやけて、エッジのぎざぎざが目立たなくなる。また、パターンの繰り返し模様の規則性が乱れ、モアレの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】走査速度の低下、露光ピッチの長さ拡張等することなく、高解像度パターンを形成しながらスループットを向上させる。
【解決手段】ラスタデータ変換部は、実際の露光エリアよりもデータサイズの大きい４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤをブロックとして生成し、時間間隔ＴＭに従って第１、第２バッファメモリへ交互に格納する。一方、アドレス制御回路は、露光ピッチに応じた露光タイミングに合わせて、第１、第２バッファメモリから露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１を交互に読み出す。このとき、露光エリアＥＡの相対移動に合わせながらブロック毎の露光用ラスタデータ抽出を３回繰り返し、露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１、ＥＬＡ２〜ＥＬＤ２、ＥＬＡ３〜ＥＬＤ３を、４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤから順に抽出する。 （もっと読む）