【課題】高感度で表面のタック性が少なく、現像性、保存安定性に優れ、フィルム化した際の剥離性に優れ、現像後は優れた耐熱性、耐薬品性、表面硬度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物、及び感光性フィルム、並びに、半導体分野における高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】含窒素へテロ環構造を少なくとも有するエポキシアクリレート化合物を少なくとも含む感光性組成物である。また、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物が積層されてなる感光層とを少なくとも有してなる感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】表示パネルの構造物をフォトリソグラフィ法によって形成する製造方法における従来の問題点を解決する。
【解決手段】フォトリソグラフィ法によって基板上に所要の形状の構造物を成形する表示パネルの製造方法において、露光マスクＭ１が感光性誘電体フィルム層Ｌに対向する所定の位置に位置された後に一回目の露光が行われ、この一回目の露光の終了後、露光マスクＭ１が一回目の露光位置から感光性材料層Ｌと平行にＸおよびＹ方向にシフトされた位置で、かつ、露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａが一回目の露光時の露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａの位置と予め設定された領域Ｅにおいて重なる位置に位置されて、この後に二回目の露光が行われる。 （もっと読む）

【課題】 マイクロ流体デバイスの製造において使用される鋳型を簡単かつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 マイクロ流体デバイスにおけるマイクロチャネル及び入出力ポートなどを有する層を形成するために使用される鋳型の製造方法であって、 （ａ）常用の光リソグラフィー法により前記マイクロチャネル及び入出力ポートに対応する凸状微細構造を有する原型レジスト一次鋳型１３を製造するステップと、 （ｂ）前記原型レジスト一次鋳型の凸状微細構造を転写した凹状微細構造を有するレプリカ鋳型１９を製造するステップと、 （ｃ）前記レプリカ鋳型１９の、原型レジスト一次鋳型１３から転写された凹状微細構造内に硬化性材料を充填して、前記原型レジスト一次鋳型１３の有する凸状微細構造と同一の凸状微細構造を有する二次鋳型を製造するステップとからなることを特徴とする二次鋳型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の温度や湿度の環境状態を変えることなく、露光、現像処理後に形成される着色画素の線幅のバラツキを更に小さくする露光装置、カラーフィルタ製造方法をて提供する。
【解決手段】露光装置本体を収容した密閉チャンバーＡと、ドライエアーを給気する給気管部Ｂと、ドライエアーを排気する排気管部Ｃを備え、給気管部の前段に、クリーンルームエアーを高圧エアーに変換する高圧コンプレッサ１と、ドライヤ２と、減圧用バルブ３とを配設し、クリーンルーム内の圧力よりやや高い圧力に調整したドライエアーを循環供給する。ドライエアーの絶対湿度が１．０ｇ／ｍ³ 〜１０．０ｇ／ｍ³ の範囲にて制御されている。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ工程時に入射光の進行方向及び透過度を調節する方法で、多様な傾斜及び形状を有するポリマー又はレジストパターン及びこれを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド並びにこれらの形成方法に関する。
本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法は、基板上に所定の形状にポリマー又はレジストパターンを形成する方法において、（ａ）前記基板上に感光性ポリマー又はレジストを塗布して、ポリマー又はレジスト膜を形成するステップと、（ｂ）前記ポリマー又はレジスト膜上にフォトマスクを位置させて、露光部分を決定するステップと、（ｃ）露光される光の経路上に光調節膜を位置させるステップと、（ｄ）前記光調節膜を調節して、前記ポリマー又はレジスト膜に照射される光の進行方向及び透過度を調節するステップと、を含むことを特徴とする。本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法によれば、多様な傾斜及び形状の３次元構造のポリマー又はレジストパターン、金属薄膜パターン、金属パターン構造、ポリマーモールドを簡便に形成できる。
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【課題】高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリドン化合物とオキシム誘導体とを含む感光性組成物である。支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体である。前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置である。前記感光性積層体における前記感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】現像性、硬化膜のテント性、密着性に優れ、かつエッチング時の剥離性、解像性にも優れ、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、前記バインダーが、ウレタン基を含有するバインダーと、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーと、を含有することを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法である。前記スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５である態様、ウレタン基を含有するバインダーの含有量が、バインダーの総量に対して５〜３５質量％である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高感度で、現像性に優れ、高解像度なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光層を有し、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、該感光層を、線幅１０〜４０μｍでライン／スペース（Ｌ／Ｓ）＝１／１及びＬ／Ｓ＝１／１００で露光し現像して得られたパターンの、前記Ｌ／Ｓ＝１／１の露光により形成されるラインパターンと、Ｌ／Ｓ＝１／１００の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が５μｍ以下であることを特徴とするパターン形成材料。前記バインダーのＩ／Ｏ値が、０．５〜０．８である態様、重合性化合物のＩ／Ｏ値が、０．５〜１．５である態様などが好ましい。また、前記パターン形成材料を使用するパターン形成装置及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 青紫外光レーザに対し高感度であるとともに、黄色安全灯下での光安定性及び熱安定性に優れ、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリジン誘導体と中性ラジカル発生剤とを含む感光性組成物、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料、前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体、前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置、などである。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、テント膜強度が強く、高精細で高アスペクト比のパターンを形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む感光性組成物であって、該感光性組成物からなる感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２である感光性組成物である。該感光性組成物からなる感光層を有するパターン形成材料、及び感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えるパターン形成装置、前記感光層に対し、露光を行うことを含むパターン形成方法である。
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【課題】 青紫外光レーザに対し高感度であるとともに、黄色安全灯下での光安定性及び熱安定性に優れ、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、熱架橋剤、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリジン誘導体と、オニウム化合物を含む感光性組成物、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料、前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体、前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置、などである。 （もっと読む）

【課題】 転写の前後の取扱いが容易であるうえ、広い面積であっても膜の均一性にすぐれる、といった利点のあるパターン形成方法等を提供する。
【解決手段】 感光性ドライフィルムに対して、モールドの押し付けと光照射とを含む光ナノインプリントを行う。感光性ドライフィルムにモールドを押し付け、同フィルムよりモールドを引き離す前、またはモールドを引き離した直後に同フィルムに光照射を行うとよい。 （もっと読む）

【課題】 機上現像型平版印刷版原版の適正な露光調整を行うことを可能にする露光条件設定方法を提供することである。
【解決手段】 支持体上に画像記録層を有し、印刷インキおよび／または湿し水を供給することにより機上現像可能な平版印刷版原版の露光条件設定方法であって、該平版印刷版原版を露光し、機上現像し、印刷して得られる印刷物画像を評価することにより露光条件を設定することを特徴とする露光条件設定方法。細線および／または網点の画像再現性を評価することが好ましく、また、露光後、少なくとも１０分以上経過した後に機上現像することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 機上現像型平版印刷版原版の適正な露光調整を行うことを可能にする露光条件設定方法を提供することである。
【解決手段】 支持体上に画像記録層を有し、印刷インキおよび／または湿し水を供給することにより機上現像可能な平版印刷版原版の露光条件設定方法であって、該平版印刷版原版を露光し、機上現像して得られる平版印刷版上の画像を評価することにより露光条件を設定することを特徴とする露光条件設定方法。細線および／または網点の画像再現性を評価することが好ましく、また、露光後、少なくとも１０分以上経過した後に機上現像することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスクを用いることなく、レーザー露光時の問題点であるレーザー露光波長のふれに対して分光感度の変化が極めて少なく、記録ムラがなく、線幅ばらつきが小さく、高精細に形成可能な感光性組成物、並びにカラーフィルタ及び該カラーフィルタの製造方法の提供。
【解決手段】 光重合開始剤と、エチレン性反応性基を有する光重合性化合物と、光照射による硬化反応に寄与しない非光硬化性成分と、を含有する感光性組成物であって、前記感光性組成物からなる感光層は、レーザー露光波長が中心値から±１０ｎｍ変化したときの分光感度の変化率が−８％〜＋８％の範囲であり、前記感光性組成物からなる感光層に対し、画像データに基づいて、２つ以上のレーザーヘッドを有する露光装置により光を変調しながら相対走査する露光に用いられる感光性組成物、及び該感光性組成物を用いたカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 優れた保存安定性と高感度とを両立し、前記感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、保護膜、絶縁膜などの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成材料並びにパターン形成方法及びパターンの提供。
【解決手段】 バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、潜在性触媒と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、該感光層に対し、露光し現像する場合に、前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜８０ｍＪ／ｃｍ^２であり、かつ、感光層を作製直後の時点における現像時間をＴ１（秒）とし、２５℃にて４５日間保存後の現像時間をＴ２（秒）とすると、Ｔ１が５〜１２０、Ｔ２が２４０未満であり、次式、Ｔ２／Ｔ１≦４．０を満たすパターン形成材料である （もっと読む）

【課題】 前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うセル内構造の製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、セル内構造を高精細に、かつ効率よく形成可能なセル内構造の製造方法を提供する。
【解決手段】 前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して行われることを特徴とするセル内構造の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】感光層と支持体又は保護フィルムとの剥離力が適正化され、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、ＬＤＩに好適に使用可能である感光性フィルム、及び該感光性フィルムを用いた高精細な永久パターンの形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に、バインダー、熱架橋剤、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層と、該感光層上に保護フィルムとを有する感光性フィルムであって、前記感光性フィルムから幅４．５ｃｍ×長さ８ｃｍに切り出したサンプルを、前記保護フィルムが表面側となるように台座上に固定し、該サンプルから保護フィルムを引っ張り速度１６０ｃｍ／ｍｉｎで引き剥がした際における前記感光層と前記保護フィルムとの剥離力が１００ｇ／４．５ｃｍ以下である感光性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、露光感度に優れ、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、増感剤として酸性核を有する色素と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】 熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気特性に優れた高性能な硬化膜を得ることができ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられるアルカリ可溶性、光架橋性のエラストマー、及び該エラストマーを含む感光性組成物等の提供。
【解決手段】 （Ａ）ジイソシアネート化合物と、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を含有するジオール化合物と、（Ｃ）分子内に少なくとも１つの不飽和基を含有するジオール化合物と、（Ｄ）重量平均分子量が８００以上の高分子量ジオール化合物とを含み、全ジオール化合物の合計モル量に対し１．０〜２倍のモル量の前記（Ａ）ジイソシアネート化合物を反応させて得られ、前記（Ｄ）成分の高分子量ジオール化合物の含有率が、３〜２０モル％であるエラストマー、及び該エラストマーを含む感光性組成物である。 （もっと読む）