【課題】ＣＣＤ固体撮像装置等に用いられるマイクロレンズを製造するにあたり、複雑なプロセスを用いることなく、所望のレンズ形状を安定して製造することのできるマイクロレンズの製造方法を提供すること。
【解決手段】マイクロレンズ１１の製造方法を、フォトレジストからなるレンズ材１１Ａをレンズ基板上１２に塗布する工程と、塗布されたレンズ材１１Ａにフォトリソグラフィを施して、レンズ形成パターン１１Ｂのサイズを変えずにパターニングされたレンズ材１１Ａの体積を減少させるようにレンズ形成パターン１１Ｂをパターニングする工程と、パターニングされたレンズ材１１Ａにリフロー処理を施してマイクロレンズ１１を形成する工程とで構成し、これによってレンズ形状を任意の形状に形成できるようにした。 （もっと読む）

【課題】 現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、レジスト線幅のばらつきが小さく、高感度であり、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、感光層がバインダー、ヘテロ縮環系化合物、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料。該ヘテロ縮環系化合物が、アクリドン化合物である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト、特にフィルムタイプのソルダーレジストにおいて保存安定性が向上し、熱処理温度で速やかな架橋反応性を有し、良好な表面硬度と耐アルカリ性を有する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及び該永久パターンの効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、分子中に少なくとも１つのヒドロキシル基を有する化合物と、エステル化触媒とを含有してなり、該エステル化触媒が、２−エチルヘキサン酸と２−フェノキシエタノールとのエステル化反応において、１５０℃では１０％反応するのに必要な時間が１００秒以下であり、かつ４０℃では１０％反応するのに必要な時間が５０時間以上である触媒活性を有するエステル化触媒から選択される少なくとも１種である感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】 保存中の着色及び感度低下が抑制され、かつ露光時の良好な発色性により露光領域の可視像化に優れ、感度安定性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に少なくとも感光層を有し、未露光の前記感光層の６００ｎｍの光に対する吸光度が、６０℃の温度条件下で７２時間処理した後の吸光度をＢ、処理する前の吸光度をＡとしたとき、Ｂ−Ａ≦０．１の関係を満たすことを特徴とするパターン形成材料、該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。前記感光層はバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び４位に置換アミノ基を有するトリアリールメタン色素で、メタンの炭素原子に対しオルト位に少なくとも１つの置換基を有する発色剤化合物を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線がなく、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、かつ該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に少なくとも重合性基を３つ以上有する化合物を含有し、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜２０ｍＪ／ｃｍ^２であるパターン形成材料である。 （もっと読む）

本発明は、ａ）１種以上の放射線感受性成分を含む第１のコーティング組成物で基板を被覆すること、ｄ）周期的なまたはランダムな放射強度パターンを有する電磁放射で被覆基板を局所的に処理して、潜像を形成すること、ｅ）得られた被覆基板を第１のコーティング膜に重合および／または架橋することによる高分子の凹凸構造の作成方法に関する。この方法は、第１のコーティング組成物の上部に第２のコーティング組成物を被着することによって改良される。前記第２のコーティング組成物は、単量体性質の有機化合物（Ｃ_ｏ）を含み、プロセス中Ｃ_ｏも重合されるか、または前記第２のコーティング組成物は溶解ポリマー（Ｃ_ｐ）を含むかのいずれかである。その結果、機能性の積層された二層で基板が被覆され、その各層が特定の、かつ互いに異なる機能を呈する、高分子の凹凸構造が得られる。 （もっと読む）

【課題】層が存在しない領域を有する層が、高いレベルの精度と安い費用で正確な重なり関係で適用される、多層体及び多層体の製造プロセスを提供する。
【解決手段】部分的に形成された第一の層（３ｍ）を有する多層体（１００、１００´）の製造プロセスであって、特定の構造エレメントの高い深さ幅比、特に０．３を超える高い深さ幅比を有する回折性の第一の凹凸構造（４）が前記多層体（１００、１００´）の複製層（３）の第一の領域（５）に形成され、第一の層（３ｍ）が、前記第一の領域（５）と、前記複製層（３）に凹凸構造が形成されていない第二の領域（４、６）の前記複製層（３）に、前記複製層（３）により規定される平面に対して均一な表面密度で適用され、前記第一の凹凸構造により確定する方法で、前記第一の層（３ｍ）が前記第一の領域（５）または前記第二の領域（４、６）で除去されるとともにそれぞれに対して前記第二の領域（４、６）または前記第一の領域が除去されないように、前記第一の層（３ｍ）が部分的に除去される。 （もっと読む）

【課題】 熱に弱い基板や下層に熱ダメージを与えることなく、感光性樹脂が十分に分解・除去される導電性組成物、パターン形成方法及び該パターン形成方法によって製造される電気光学装置を提供する。
【解決手段】 ガラスで構成された基板２上に形成された低耐熱性であるアクリル樹脂で構成されたバンク上に、銀２０Ａ、感光性樹脂２０Ｂ、鉄２０Ｃ、及び溶剤２０Ｄからなる感光性導電ペースト２０を印刷した。そして、インダクションヒータを使用して高周波電磁波を印加して同感光性導電ペースト２０を加熱することで、バンク上に補助配線層を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】処理されるフレキソ印刷要素の種類及び大きさ両方の柔軟性を増加させるための改良されたフレキソ処理装置、及び改良されたフレキソ処理装置を使用する方法を対象とする。
【解決手段】新規の熱版処理装置システムは、システムを最小限に変更するだけで平らな及び円形の感光性印刷要素の両方を処理可能である。熱版処理装置システムは、また、同一システムに露光及び後露光／粘着除去手段も含む。 （もっと読む）

部分的に形成された第１の層（３ｍ）が多層体（１００）の製造方法および、その製造方法によって製造された多層体（１００）が記載されている。
その製造方法では、回折性を示す第１の凹凸構造部（４）が前記多層体の複製層（３）の第１の領域の中に形成され、複製層（３）の中で凹凸構造部が形成されていない第１の領域および第２の領域中の複製層（３）に、第１の層（３ｍ）を付与し、感光層を第１の層（３ｍ）に付与するか、または、第１の層（３ｍ）に複製層として感光性の洗浄マスクを付与し、前記感光層または前記洗浄マスクを第１の層（３ｍ）を通して露光するので、前記感光層または前記洗浄マスクは、第１および第２の領域中の第１の凹凸構造部により異なる露光がなされ、第１の層（３ｍ）が、第２の領域中には無いが第１の領域中にはあるか、あるいは、第１の領域中には無いが第２の領域中にあるマスク層としての前記露光された感光層または洗浄マスクを使って取り除かれる。 （もっと読む）

【課題】 ベース剥離性に優れ、表面のタック性が小さく、製造適性が高く、ラミネート性及び取扱い性が良好であり、現像後に優れた耐薬品性、耐熱性などを発現でき、表面硬度と脆性とを両立できる感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を少なくとも含有してなり、前記バインダーが、少なくともエポキシアクリレート化合物の１種以上と、カルボキシル基を有する繰り返し単位及びアルケニル基を有する繰り返し単位を少なくとも含む共重合体の１種以上とを含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 塗膜性に十分優れ、且つ、ＦＰＣのカバーレイのようなフィルム状の基材上に形成される永久マスクとして要求される特性を十分満足することのできる感光性樹脂組成物を調製できる変性エポキシ樹脂、その製造方法及びその感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明の変性エポキシ樹脂は、下記一般式（１）；
【化１】


〔式中、Ｒ^１はジグリシジルエーテル型エポキシ化合物残基である二価の有機基を示し、Ｒ^２は下記一般式（２）；
【化２】


（式中、Ｒ^４はジイソシアネート化合物残基である二価の有機基を示し、Ｒ^５は二塩基酸残基である二価の有機基を示し、ｍは１以上の整数を示す。）
で表される基を示し、
Ｒ^３は水素原子或いは下記一般式（３）；
【化３】


（式中、Ｒ^６は酸無水物残基を示す。）
で表される基を示す。〕
で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

【課題】 前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を有し、該感光層がバインダーと、エチレンオキシド基及びプロピレンオキシド基を含む重合性化合物と、アクリジン誘導体を含む光重合開始剤とを含むパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ＵＶ露光により画像形成可能であり、ラミネート性及び取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、表面硬度、及び耐熱性などを有し、高精細な永久パターンの形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を少なくとも含有すると共に、該熱架橋剤が特定の構造の化合物を含み、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜２００ｍＪ／ｃｍ^２であるパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】印刷版原版を交換するたびに準備作業を行う必要がなく、連続して露光作業を繰り返すことを可能にするとともに、不活性ガスなどの特別の材料を使用する必要のない印刷版の露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】ラジカル重合する印刷版原版を記録光によって露光する印刷版の露光装置であって、印刷版原版に所定の変調された記録光を照射する露光ヘッドと、この露光ヘッドに対向して配置され、印刷版原版を挟持して回転し、印刷版原版を移送する複数個の移送ローラ対と、この複数個の移送ローラ対を内蔵し、露光ヘッドから照射される記録光を透過させる露光窓を有する気密室とを有し、この気密室を、前記移送ローラ対によって一次減圧室と二次減圧室とに分割しておく印刷版の露光装置、およびこれを用いる印刷版の露光方法。 （もっと読む）

【課題】膜強度、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、しかもパターン形成時に現像液中では剥離しないが、剥離液中では容易にレジストパターンを剥離して、高精細な永久パターンを効率的に形成することが可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、少なくとも（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含むパターン形成材料において、バインダー（Ａ）が、ｐＨ８〜１１の弱アルカリ現像液中では安定で、ｐＨ１２〜１４の強アルカリ剥離液中で分解するパターン形成材料。前記パターン形成材料における感光層に対して露光する光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 感光層の感度低下を効果的に抑制でき、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体が、第一の形態ではヘイズ値が４．０％以下であり、第二の形態ではその少なくとも片面に不活性粒子が塗布され、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、０．１〜１０（ｍＪ／ｃｍ^２）であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】平行光露光機を用いた推奨露光量程度の平行光露光で、レジスト現像残渣が残ることがない適正現像条件のもとに、所要の裾引き傾斜部を永久レジスト層の側壁部に形成すること。
【解決手段】ネガティブタイプの感光性レジストによる未硬化の永久レジスト層１３上にマスクフィルム１４を配置し、更にマスクフィルム１４上に、光透過性の光拡散シート１５を配置し、光拡散シート１５を通して平行光露光を行い、露光部分の感光性レジストを硬化させる。 （もっと読む）

【課題】 感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、０．１〜１０（ｍＪ／ｃｍ^２）であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 実際のデバイス製造工程において、回路パターンが設けられるマスク自体及び試料自体には歪み測定用のマークを設けることなく、試料上に形成された下層パターンに合わせて上層パターンの露光位置を精度良く補正することが可能な露光方法を提供する。
【解決手段】 下層パターン６１が形成されたと同じ試料４０を用いて、これを試験試料としてネガ型レジスト層６５を形成し、このネガ型レジスト層６５に上層パターンＨを露光してその未露光部分を除去することにより上層パターンＨを形成し、これら下層パターン６１及び上層パターンＨの間の位置ずれ量を測定し、この位置ずれ量に応じて、下層パターンが形成された試料４０への上層パターンＨの露光位置を補正する。 （もっと読む）