【課題】印刷版原版を、実質的に酸素を含まない酸素遮断雰囲気において容易に画像記録できるとともに、画像記録後における明室安全性が優れた画像記録装置および画像記録方法を提供する。
【解決手段】画像記録装置は、酸素遮断層を有さず、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能な画像記録層が形成された印刷版原版に光ビームにより画像記録するものであり、表面に印刷版原版の支持体が載置される支持台と、支持台の表面に対向して配置され、支持台に対して密着および離間可能である透明基板とを備え、支持台と透明基板とにより平版印刷原版が収納される閉空間が形成され、印刷版原版が閉空間に画像記録層と透明基板とが所定の間隔をあけて収納される収納手段と、閉空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、閉空間内を排気する排気手段と、印刷版原版を光ビームにより露光する露光手段とを有する。 （もっと読む）

本発明は、最初に、フォトレジストの電子バンドギャップより大きいエネルギーで露光されると相変化を示す無機フォトレジストを提供するフォトニック結晶の製造方法に関する。このフォトレジストを、エネルギーがフォトレジストの電子バンドギャップ未満であるが焦点における強度がそこで非線形作用を生ずる大きさのレーザービームで露光させることにより、このフォトレジスト内で相変化が生ずる。次いで、この露光されたフォトレジストを、好ましくはこのフォトレジストの１相を溶解させるエッチング溶液に曝し、最後にこれから現像されたフォトレジストをフォトニック結晶の形で取り出す。本発明にかかる方法により製造された無機フォトニック結晶は、完全光学装置、回路及び光学通信又はコンピュータシステムに好適である。
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【課題】印刷版原版の感光層の表面の酸素を確実に遮断した状態で感光層を露光することが出来る印刷版原版露光装置を提供する。
【解決手段】印刷版原版を保持する透明基板と、この透明基板に保持された印刷版原版の支持体の側の表面全体を覆って透明基板の全周縁部と密着する前記被覆部材とで形成される閉空間の真空排気に同期させて、スクイズ手段を被覆部材の一方の側から他方の側に相対的に移動しながら、印刷版原版の感光層と透明基板との間の空気を、一方の側から他方の側に向かって徐々に押し出して、透明基板の表面に印刷版原版の感光層の全面を略完全に密着させる。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスク、レジスト、露光装置、エッチング装置などを使わず簡単な装置で短時間に基板の上に微細な電流配線を形成する方法を与えること。
【解決手段】 粒径が０．５ｎｍ〜２００ｎｍ程度の金属ナノ微粒子を含む金属分散液を、基板全面に塗布乾燥し、３００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長の光を発生するレーザビームを局所的にあて金属微粒子を結合させることによって配線パターンをえがき洗浄して不要部分の金属分散液を除去し所望の配線を基板上に形成する。熱に弱いプラスチック基板や低融点ガラス基板にも配線を作製できる。 （もっと読む）

【課題】 加工深さが異なる複数の領域を一回の露光工程によりレジスト膜上に形成することを可能とするフォトリソグラフィー方法を提供すること。
【解決手段】 基板１０１上に下層レジスト１０２ａと上層レジスト１０２ｂを順次積層させて塗布する。これらのレジストがポジ型の場合は、その露光感度は、上層レジスト１０２ｂが高く、下層レジスト１０２ａが低くなるようにする。このように、互いに感度の異なる２つのフォトレジストを、下層レジスト１０２ａとして相対的に低感度のレジストを、上層レジスト１０２ｂとして相対的に高感度のレジストを、順次積層させ、この２層レジストに露光光を照射させた後に現像を行うと、レジスト残膜率１００％の領域（ａ’）、レジスト残膜率０〜１００％の領域（ｂ’）、およびレジスト残膜率０％の領域（ｃ’）の何れの領域も、製造工程上その制御性に問題のない露光量範囲で得ることができる。 （もっと読む）

積み重ね電子装置の端面に沿って自己整合コンタクト・パッドを提供する方法は、金属コンタクト・リードから反射された光を用いて、金属コンタクト・リードの位置を形成する。感光性ポリマーの薄層を端面上に形成して、そこに入射光を指向させる。展開溶媒を適用して、反射光の通過箇所にてポリマーを溶解する。ニ通過方法では、反射光を用いてポリマー中に存在する抑制剤の有効性を消失させ、その箇所における層部分を展開液で溶解して、コンタクト・パッドの孔隙を形成する。波面相殺方法では、反射光は第一通過光と１８０°異なる位相を有し、これら光の組み合わせにより、ポリマー中の分子は架橋されない。この箇所における層部分を溶解して、コンタクト・パッドの孔隙を形成する。レーザ読取り方法では、吸収スペクトル外の第一入射光は金属コンタクト・リードを反射し、吸収スペクトル内の第二入射光は、反射光の検出位置へ指向される。次いで、この箇所におけるポリマー部分を展開液で溶解する。上述した方法は、コンタクト・パッドの孔隙を正確に形成する非機械的フォトリソグラフィー技術を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高耐熱性、高表面硬度、及び低熱膨張係数であり、基材表面の凹凸への追従性が良好でソルダーレジストの密着不良を引き起こすことがなく、ＬＤＩに十分な感度を有して好適に使用可能である永久パターン形成用感光性フィルム、その製造方法、及び該永久パターン形成用感光性フィルムを用いた永久パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】永久パターン形成用感光性フィルムが、支持体と、クッション層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなる。 （もっと読む）

【課題】 開口部１ａを適切に配置したフォトマスク１を用いることによって、マイクロレンズ２を高充填率で配置する。
【解決手段】 フォトマスク１として、形成するマイクロレンズ２の形状に対応する多角形状の開口部１ａが、マイクロレンズ２の最密配置パターンに対応するパターンで配置されたものを用いる。より具体的には、フォトマスク１として、最密配置される多角形状（例えば正六角形状）のマイクロレンズ２を所定角度（中心角３０度）だけ個々に回転させた形状で開口部１ａが並ぶものを用いる。そして、そのフォトマスク１との間にギャップを設けてガラス基板上の光硬化性樹脂に光を照射する。これにより、そのフォトマスク１を用いて光硬化性樹脂に光を照射したときに、開口部１ａの形状が所定角度（中心角−３０度）だけ回転した形状のマイクロレンズ２がガラス基板上に形成される。 （もっと読む）

【解決手段】
光重合スリーブブランク部を作る方法が提供される。本方法は、ベーススリーブを提供し、該ベーススリーブを覆ってクッション層を塗布し、前記クッション層を覆って第１の光重合層を塗布する、各工程を備える。前記第１の光重合層の外側に面した表面は、硬化源にさらされ、次に、第１の光重合層を覆って第２の未硬化の光重合層が塗布される。第１の光重合層は、好ましい床寸法を提供するため硬化源にさらされる前又は後に所定の厚さに研磨されるのが好ましい。結果として生じた光重合スリーブブランク部は、均一な「床部」を持ち、フレキソ印刷産業で使用される従来の設備によって容易に画像形成され、処理することができる。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基部スリーブ１２を提供するステップと、緩衝層１４を硬化する放射線に対して実質的に透明である基部スリーブ１２上に施すステップと、選択的な障壁層１６を緩衝層１４上に施すステップと、フォトポリマー層１８を障壁層又は緩衝層上に施すステップとを含む、フレキソ印刷にて使用されるフォトポリマースリーブブランク１０の製造方法が提供される。その後、基部スリーブの内面を硬化する放射線にて露光し、放射線がスリーブ及び緩衝層に侵入してフォトポリマー層の厚さの一部分を実質的に硬化させる。
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フォトレジスト層（１）の表面（４）にくぼみ（１５）を形成する方法が、フォトレジスト層の第１の部分（１２）を第１の照射量の放射エネルギー（７）に曝す段階（１００、１２０、１０１、１０２、１２２）を含む。また、層の第２の部分（１７）を第２の照射量の放射エネルギー（７）に曝す（１２０、１０１、１２２）。第２の照射量は第１の照射量よりも少ない。層はベークされる（１１０、１３０、１３１、１３２）。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サブトラクティブ法に於いて、ドライフィルムレジストを用いることで微細な金属パターンを形成できる金属パターンの形成方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け（ａ）てから、エッチング（ｄ）を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理（Ｔ１〜Ｔ４）を行う金属パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、例えば、ＣＲＴ（陰極線管）のカーボン及び蛍光体ストライプを形成する陰極線管の製造方法に関し、露光時間を短縮させることが課題である。
【解決手段】 ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃を主成分として軟化点温度が７５０℃以下の光学ガラスで露光用レンズ４を形成し、該露光用レンズを使用して陰極線管のカーボン若しくは蛍光体ストライプを形成するようにした陰極線管の製造方法である。 （もっと読む）