【課題】大面積で均一なパターン印刷を行うことが可能なμＣＰ用スタンプを、簡易な方法で製造することが可能なμＣＰ用スタンプ作製用マスター版の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基板を用い、上記基板上にパターン状の遮光部を形成する遮光部形成工程と、上記遮光部を覆うように上記基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、上記基板側から光を照射することにより、上記感光性樹脂膜にパターン露光する露光工程と、上記パターン露光された感光性樹脂膜を現像することにより、上記感光性樹脂膜をパターニングする現像工程とを有することを特徴とする、マイクロコンタクトプリンティング用スタンプ作製用マスター版の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】密着性を有する細線パターンを、短い露光時間で形成することができる感光性材料のパターン形成方法の提供。
【解決手段】本発明の感光性材料のパターン形成方法は、基体上に形成された感光性材料からなる感光層に対し、該感光層の前記基体と反対側の表面を基準として、該感光層の厚みの１倍〜３倍長さだけ前記基体側に露光光の焦点が位置するようにして露光光を照射することにより、前記基体上にパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、感光膜の硬化を十分に得られる光源ユニット及びこの光源ユニットを具備した製版露光装置を提供することにある。
【解決手段】
第１の発明に係る製版露光装置は、複数の固体発光素子を備える光源ユニットと、該光源ユニットからの紫外線を照射される被照射物が載置される載置台と、を有する製版用露光装置において、該光源ユニット又は該載置台には、該光源ユニットと該載置台とを相対的に移動させる駆動手段が設けられ、該複数の固体発光素子は、紫外線を出射する第１の固体発光素子と、該第１の固体発光素子が出射する紫外線より短い波長の紫外線を出射する第２の固体発光素子との少なくとも２つの紫外線を出射する固体発光素子からなり、該光源ユニットが該載置台に対して相対的に移動される方向のならびで、第１の固体発光素子の後に第２の固体発光素子が配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】より詳細には、この発明は、化学線に対する露光の間、調整された酸素濃度を有する環境内において凸版フォームを作製するための方法および装置を説明する。この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 （もっと読む）

熱処理中のフレキソ印刷要素の表面粗さを制御する方法。印刷ブランクは、支持層上に少なくとも１つの光硬化性層を含み、該少なくとも１つの光硬化性層が（１）スチレン−ブタジエン−スチレンを含むバインダー、（２）少なくとも１つの速硬化モノマー、（３）少なくとも１つの遅硬化モノマー、及び（４）光重合開始剤を含む。印刷要素ブランクは、印刷要素ブランクの最上部から印刷版ブランクを化学線により選択的に像様露光することで、前記少なくとも１つの光硬化性層の一部を選択的に架橋及び硬化し、そして熱処理して前記少なくとも１つの光硬化性層の未硬化部分を取り除くことで、前記少なくとも１つの光硬化性層にレリーフ像が現れる。熱現像後の前記レリーフ像印要素の表面粗さが約１，０００ｎｍ未満に制御される。 （もっと読む）

【課題】エネルギービームと超微粒子を含むコロイド材料を用いたパターン形成において、導電パターン間の短絡の無い高精細なパターンを自由度高く形成することが出来るパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】超微粒子を含むコロイド材料を接触させた基板４の上にエネルギービームを照射してパターン形成を行うパターン形成方法であって、エネルギービームを基板上に走査する方向と平行にエネルギービームを遮蔽するスリット１０を設け、スリット１０は少なくとも基板上に完全なパターンを形成するためのエネルギー値より小さいエネルギービームを遮蔽することを特徴とする。 （もっと読む）

ａ）フレキソ印刷サポート（１）を提供する過程と、ｂ）該フレキソ印刷サポート（１）上にインクジェット印刷手段（３２）により放射線硬化性液体の次の層を画像状に付着させる過程であって、付着済みの１つ以上の層が、トップハットプロフアイルを有するレリーフが得られるよう、１つ以上の次の層が付着される前に、硬化手段（３９）を使って固定される、該付着させる過程と、そしてｃ）トップハットセグメント（２３）の高さＤＴが減じられるよう該レリーフを研削する過程と、を具備するフレキソ印刷マスターを製作する方法。上記方法を行う画像形成装置も開示される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを介して露光を繰り返し行うことに基づいて連続的にパターンを形成する際に、前後の露光領域の境界部に信頼性よくパターンを形成することができるネガレジスト用のフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板４２と、その中央主要部Ｍに配置され、垂直軸から相互に逆方向に傾いて配置された複数の第１ラインパターン６２と第２ラインパターン６４とが交差して構成されるメッシュ状パターン６０と、透明基板４２上の右端部Ｐ１に第１ラインパターン６２が延在して形成された第１延出ラインパターン６２ａと、透明基板４２上の左端部Ｐ２に第２ラインパターン６４が延在して形成された第２延出ラインパターン６４ａとを含む。レジストの露光領域Ｅ１の右端部Ｐ１にフォトマスク４０の左端部Ｐ２が重なるように順次露光される。フォトマスクはシールド材の導電パターン層の形成に好適に使用される。 （もっと読む）

【課題】コーティング層の下地パターンとなる層を形成する際にプロセスを複雑化させること無くコーティング層の剥離耐性の改善するパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも一種類の無機物からなる超微粒子を含むコロイド材料を基板に接触して配置し、前記コロイド材料と前記基板の接触面近傍にエネルギービームを照射することで前記基板上に前記無機物を含む層を固定化してパターンを形成するパターン形成方法であって、前記コロイド材料によってパターン形成する際のエネルギーより大きい前記エネルギービームを前記コロイド材料に照射することで、前記パターン表面にパターン上方にさらに形成されるコーティング層と機械的な結合を得るためのアンカーポイントをパターンと同時に形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光重合可能な要素から印刷用雄型を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光重合可能な要素から印刷用雄型を製造する方法を提供する。光重合可能な要素は、ポリスチレンとポリブタジエンブロックに１５重量％未満の１，２−結合ボンドセグメントを有するポリブタジエンとのエラストマーブロックコポリマーと、エチレン化不飽和化合物と、光開始剤とを含有する光重合可能な組成物層を含む。方法は、光重合可能な要素を、大気酸素の存在下、化学線に像様露光し、層の一部を液化させるのに十分な温度まで要素を加熱し、光重合可能な要素の外側表面を現像媒体と接触させて、液化層の少なくとも一部を現像媒体により除去することを含む。 （もっと読む）

【課題】版厚を確実に制御しながら感光性樹脂凸版の連続製版を行う。
【解決手段】第１のフィルム層（カバーフィルム）２４、感光性樹脂層２５、及び第２のフィルム層（ベースフィルム）２６を含む積層体を、下部硬質板１４と上部硬質板１５とにより挟んだ状態で、感光性樹脂層の露光を行うものであり、下記（ａ）工程〜（ｄ）工程を有している感光性樹脂凸版の製造方法を提供する。
（ａ）上部硬質板及び／又は下部硬質板の温度、又は下部硬質板に積層される第１のフィルム層を介した下部硬質板の温度を、直接又は間接に計測する工程。
（ｂ）前記下部硬質板に積層した前記第１のフィルム層の上に、液状感光性樹脂を塗布する工程。
（ｃ）前記液状感光性樹脂の塗布厚みを調節する工程。
（ｄ）下部硬質板と上部硬質板との間隔を調節する工程。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成方法において、凸部パターンと凸部パターン上の複数の微小窪みを同時に形成する方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも、
１．基材の表面に紫外線吸収層を形成する工程と、
２．フォトマスクと該紫外線吸収層との間に、ネガ型感光性レジスト層を形成する工程と、
３．フォトマスクを介して、平行光の紫外線で露光する工程と、
４．フォトマスクと該ネガ型感光性レジストとを引き剥がし、現像する工程と、
を経て、凸型レリーフパターンと、該凸型レリーフ頂面上に少なくとも一つ以上の微小窪みを同時に形成することを特徴とするネガ型感光性レジストのパターン形成方法であって、
該紫外線吸収層の厚みが１．０μｍ以上１００．０μｍ以下であり、
該ネガ型感光性レジスト層の厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下であり、
該フォトマスクが、
少なくとも１つ以上の凸型レリーフ形成用遮光部と、
少なくとも１つ以上の４μｍ^２以上１６００μｍ^２以下の面積を有する窪み形成用微細遮光部と、
該凸型レリーフ形成用遮光部と窪み形成用微細遮光部以外の光透過部と、から構成されることを特徴とするネガ型感光性レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 樹脂タイプのブラックマトリックスを高い精度で備えたブラックマトリックス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板上に形成したブラックマトリックス用のネガ型の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を、透光部と遮光部とを所定のパターンで備え、かつ、透光部の交差箇所にＩ字形状または回廊形状であって上記遮光部に連続した遮光部を備えたフォトマスクを介して露光し、その後、現像することによりブラックマトリックスパターンを形成してブラックマトリックス基板を得る。 （もっと読む）

【課題】硬化後の着色層の線幅を一定にして直線性を良好にすることが可能な露光方法を提供する。
【解決手段】透明基板１１上に、レッド用レジスト層１５ａ、ブルー用レジスト層１６ａ、グリーン用レジスト層１７ａのいずれかを設ける。次に透明基板１１を定盤２１上に配置するとともに単一波長のレーザー光Ｌを着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａ上に照射する。着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａの前記波長のレーザー光Ｌに対する透過率は２％乃至１４％となっている。これにより、着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａを透過して透明基板１１に至るレーザー光Ｌの光量を制限したので、硬化後に着色層１５、１６、１７の線幅が一定となる。 （もっと読む）

【課題】高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層を、フォトリソグラフィー法により同一の材料を用いて、かつ同時に製造することができる高低パターン層形成体の製造方法を提供する。
【解決手段】光硬化型樹脂組成物を上記基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程と、光の透過を遮る遮光層と、上記高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有し、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するフィルターが、上記開口部の一部に配置されているマスクを用い、上記マスクを介して、上記感光層を露光する露光工程と、上記露光された感光層を現像することにより、上記マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）エッチング処理により前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】自由度を損なうことなく高解像度を実現する微細構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】まず、図１（ｂ）のように、ネガ型レジスト１０２を基板１０１に塗布する。次に、図１（ｃ）のように、ネガ型レジスト１０２に、電子ビーム（エネルギービームに対応）１０３を第１のパターンで照射する（第１の露光ステップ）。ついで、図１（ｄ）のように、ネガ型レジスト１０２を現像して、ブロック状（第１の構造に対応）のレジスト１０２Ａを形成する（第１の現像ステップ）。そして、図１（ｅ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａに、電子ビーム１０３を第１のパターンとは異なる第２のパターンで照射する（第２の露光ステップ）。最後に、図１（ｆ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａを現像して、３本の直交ナノワイヤ状（第２の構造に対応）のレジスト１０２Ｂを形成する（第２の現像ステップ）。 （もっと読む）

【課題】隣接するパターン間の開口部を、投影露光機の解像度よりも微細化することが可能であって、かつパターン間の寸法精度ずれが生じにくいパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、被エッチング膜を成膜する工程と、複数のパターンとして残したい領域に対応して被エッチング膜の上層に複数のマスクパターンを形成する工程と、複数のマスクパターンをマスクとして、エッチング処理を行うことにより被エッチング膜のパターンを形成する工程とを備える。この複数のマスクパターンは、其々が、第1の被覆パターンと、この第1の被覆パターンの一部の領域において積層領域を有する第２の被覆パターンとにより形成されている。積層領域の短手方向の幅は、異なる複数のマスクパターンにおける隣接するマスクパターン間で同一になるようにする。 （もっと読む）

【課題】簡易な手段によりネガレジストを用いて、斜面を有する高低差の大きな三次元微細形状を得ることのできるレジスト露光方法を提供することにある。
【解決手段】第１回目の露光工程においては、フォトマスク３８を透過した光を露光用マスク２９に垂直に照射して通常の露光を行う。第２回目の露光工程においては、回折格子３５を備えた露光用マスク２９を用い、回折格子３５の１次回折光で斜め方向からネガレジスト３２に露光し、現像することによって斜面を形成する。 （もっと読む）

【課題】屈折率、可視領域での透明性、及び耐熱性に優れるマイクロレンズ及びマイクロレンズ用感光性組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物を用いて形成されるマイクロレンズ。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ_1-12の炭化水素基、又はＣ_7-12のアラルキル基を示す。］ （もっと読む）