【課題】安全性が高い上に感度が高く、化学的安定性に優れていて微細なレジストパターンを形成することが可能な、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）多官能エポキシ樹脂と、特定の構造を有するアニオン部を有するオニウム塩を含有する（ｂ）カチオン重合開始剤、及び（ｄ）増感剤を含有してなる感光性樹脂組成物によれば、安全性が高い上に感度が高く、化学的安定性に優れていて微細なレジストパターンを形成することが可能な、感光性樹脂組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】より安価で耐熱性の良好な塩基増殖剤、及び、その塩基増殖剤を含有した樹脂組成物、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される構造を少なくとも１つ有し、アミノ化合物と共存下で１５０℃以上の加熱により分解し、アミノ化合物を生成することを特徴とする塩基増殖剤。


（式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メルカプト基、ニトロ基、シリル基、シラノール基、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良く、それらが互いに結合を介して環状構造を形成していても良い。Ｒ^６は置換又は無置換の脂肪族炭化水素基、或いは置換又は無置換の芳香族炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】塗布均一性を向上させることにより、パターン寸法のばらつきが生じることなく、高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、さらには前記レジストパターンを部品として組み込んだＭＥＭＳ用デバイスを提供する。
【解決手段】多官能エポキシ樹脂及びカチオン重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物中に、シリコーン系の界面活性剤を添加することにより、塗布均一性が向上し、パターン寸法のばらつきが生じることなく、高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、さらには前記レジストパターンを部品として組み込んだＭＥＭＳ用デバイスを提供できる。 （もっと読む）

【課題】装置構成を複雑化することなく、要求される造形精度に応じた造形を行うことができる光造形装置を提供する。
【解決手段】ＤＭＤ（デジタルミラーデバイス）によって変調された光が露光位置において結像する像の歪み分布を基に、ある露光解像度で露光する際に変調対象とするミラーの範囲である露光使用領域を設定する。各断面について所定サイズの部分領域を単位に露光解像度を設定する。各断面での露光対象領域を、同一の露光解像度が設定された部分領域群ごとに仮想的に分割する。露光は、同じ露光解像度が設定されてなる部分領域群ごとに、該部分領域群に対応付けられてなる露光使用領域を使用して行う。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト層からの添加剤の析出、特に高温高湿雰囲気下での添加剤の析出を抑制することのでき、かつソルダーレジスト層の硬化性が向上する配線回路基板の製法を提供する。
【解決手段】基材１上に所定の導体回路２パターンを形成した後、この導体回路２パターン形成面に感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂組成物層を形成する。ついで、上記感光性樹脂組成物層面に対して所定パターンのフォトマスクを介して活性光線を照射して露光した後、現像液を用いて所定パターンのソルダーレジスト層３ａを形成する。つぎに、上記形成されたソルダーレジスト層３ａに対して低圧水銀ランプを用いて紫外線光を照射する。 （もっと読む）

【課題】簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】電子装置の製造方法は、凹凸の形状が設けられた版の凸部に遮光膜を形成する工程と、前記版と基板を、光硬化型インクを介して貼り合わせる工程と、前記版の上方から光を照射して、前記遮光膜により遮光されていない領域における前記光硬化型インクを硬化させてインク層を形成する工程と、前記版を剥離し、前記基板の上に残存した前記光硬化型インクの未硬化部分を溶媒により除去する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】パターン画像を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供する。
【解決手段】撥インク剤を添加し、撥インク剤の添加後と添加前の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物を調製する工程と、前記感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布し、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程とを有する感光性樹脂膜の形成方法とする。 （もっと読む）

【課題】表示装置を構成するカラーフィルタ用として用いたとき、光照射した後に得られる画像形状が良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物と架橋性のバインダーと下記一般式（Ｉ）で表される光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、前記光重合開始剤を前記モノマーに対して４質量％以上１２質量％以下含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】感光性レジストを用い、レジストからなるパターンを形成する半導体装置の製造方法において、インキジェット塗布方式と、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィとを組み合わせた製造方法を提供し、工程の削減、レジスト消費量の削減、すること。
【解決手段】レジスト塗布基板にパターン形成の露光処理と、レジスト膜を現像の現像処理からなるフォトグラフィ法により機能パターン形成する際に用いる、所望の、機能が異なる複数の機能パターン用レジスト溶液を所定の区画毎に塗り分けて、機能が異なる複数のレジスト膜を塗布形成した機能パターン用多種レジスト塗布基板と、機能パターン用多種レジスト塗布基板に用いた機能パターン基板の製造方法であって、前記露光工程は、パターンを形成する露光装置を用いて、所望の、機能パターン用の各々のマスクパターンを備えたフォトマスクを介して、機能パターン基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱衝撃性及び耐電食性の点で十分に高いレベルを達成する永久レジストを形成することが可能であり、且つ、ドライフィルムの状態で十分に優れた貯蔵安定性を示す感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：


［式中、Ｚは−ＯＨ、−ＮＨ−Ｒ^５又は−Ｏ−Ｒ^６を示し、Ｒ^５及びＲ^６はエチレン性不飽和結合を有する基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基である。］で表される構造を含むポリマーと、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光学的性能が良く、両面のレンズ面の光軸ずれが小さい有機ＥＬラインヘッド等に用いるマイクロレンズアレイの製造方法。
【解決手段】マイクロレンズアレイの一方のレンズ面に対応する型面９２を持つ第１の金型８２に光硬化性樹脂７６＋７６’を注入し、マイクロレンズアレイの他方のレンズ面に対応する型面９３を持つ第２の金型８３に光硬化性樹脂７６＋７６’を注入し、型面それぞれに光硬化性樹脂を注入した第１の金型８２と第２の金型８３で型面を相互に向かい合わせ、かつ、相互に位置決めして、間に長方形の透明基板７１を挟み、透明基板７１の長手方向側面７１１、７１２に光硬化性樹脂を硬化させる光７８を照射して光硬化性樹脂７６＋７６’を硬化させることにより、透明基板７１の両面上にそれそれレンズアレイを成形する。 （もっと読む）

【課題】指向性のある光源をアレイ状に並べてなる光源とマスクを相対的に回転させてマスク背後に配置したレジストを露光することでマイクロレンズ等の曲面を製造する方法の提供。
【解決手段】透明開口２を設けたマスク１の背後に配置されたフォトレジスト層３に透明開口２を通して照明光を照射し、フォトレジスト層３の露光された部分を硬化させるか分解することで、フォトレジスト層３に曲面構造を作製する曲面製造方法であり、照明光の光源５として光が照射される角度範囲が制限される指向性のある光源をアレイ状に配置してなる光源アレイ６を用い、マスク１とその背後に配置されたフォトレジスト層３とからなる被加工基板４と光源アレイ６とを対向配置し、被加工基板４を光源アレイ６に対して基板面に垂直な軸の周りで相対的に回転させながら、マスク１の透明開口２を通してレジスト３を露光する曲面製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターンの剥離なく光硬化型パターンを作製可能なネガ露光用フォトマスク、及びこれを用い作製した光硬化型パターンを提供する。
【解決手段】目的とするパターン２４とダミーパターン２５とを含むネガ露光用フォトマスク２１であって、目的とするパターン２４が開口部２２と遮光部２３からなり、該目的とするパターン２４の少なくとも１つの辺に接するようにダミーパターン２５を配置したネガ露光用フォトマスク２１である。 （もっと読む）

【課題】正確に像様に露光処理を行い、長期間、安定に露光処理を行える連続露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも透明円筒基材に画像パターンが描画された原稿円筒体１と該原稿円筒体の内部に配置された光源２と、該光源から発せられる光を規制する遮光部材３で構成されている連続露光装置であって、該原稿円筒体の外周に透明な帯電防止層７０を有して、原稿円筒体の外周面と前駆体との間に塵・異物の混入がないようにし、外周面が摩耗しにくい原稿円筒体を用いる。 （もっと読む）

【課題】（１）０℃以下の低温下に曝露した場合にもサーマルショックに因るクラックを発生しないこと、（２）５μｍ以上の厚膜の形成が可能であること、（３）高感度であること、（４）一般的な溶剤で容易に剥離可能であること、という条件を満たす化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物。
【解決手段】（Ａ）光酸発生剤、（Ｂ）ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、およびアクリル樹脂の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂成分、（Ｃ）アクリル樹脂およびポリビニル樹脂の中から選ばれる少なくとも一種の可塑剤、（Ｄ）架橋剤、（Ｅ）有機溶剤を含むことを特徴とする低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＰＤＰ用電磁波防止フィルタに用いられる大きなサイズの線画パターン描画を迅速、かつ効率よく行うことのできる露光方法、及び装置を得ることである。
【解決手段】連続搬送される感光性材料上に線画露光を行う露光装置であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光性材料を挟んで左右に配置され、該感光性材料を横断するように往復させて線画露光を行うことを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】基板上への微細パターン形成時に、感光性樹脂が反応する部位をより微小に制御するとともに、感光性樹脂層の厚み管理をより簡易化することを可能とするパターン形成方法の実現を目的とする。
【解決手段】特に極短パルスレーザを、その焦点が基板と感光性樹脂層との界面に位置するように集光して、感光性樹脂層を反応させて微細パターンを形成する。その際に、極短パルスレーザは基板側から照射される。 （もっと読む）

【課題】より簡易に、有機ＥＬなどの製造に用いられる印刷用凸版の製造する方法であり、印刷パターンずれが少なく、耐久性のある凸版を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】 感光性樹脂層２０２ａ上に光拡散性の微粒子を含む光拡散層を形成することで、露光時に露光光が光拡散層を通して感光性樹脂層に達するよう構成し、これを現像する凸版製造方法。これにより、順テーパー形状の凸部２０２ｂを形成する。さらに光拡散層中の微粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であり、かつ露光工程においてプロキシミティ露光方式を用いることにより有機ＥＬ素子の形成に適した印刷用凸版を製造できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、所定の数の個別の画素（ピクセル）を備えるイメージングユニットを用いたエネルギー入力により、電磁放射作用の下で固化可能な材料を固化することによって３次元物体を生成するための方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、ビットマップマスクを使用する露光で固化を実施することを含む。ビットマップマスクは、生成される３次元物体の少なくとも一部の３次元モデルを完全にまたは部分的に囲む３次元ボリュームの重複分析によって提供されるビットマップデータのスタック又は重複情報を備える２次元データセットから形成され得る。固化は、「進行中に」生成されたビットマップマスクを使用する露光を用いて実施され得る。本発明は、本発明を実施しまたは実行するのに有用な装置、ならびにコンピュータおよびデータキャリアをも対象とする。 （もっと読む）

【課題】インプリント法を用いた印刷回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）所望の配線パターンに対応するエンボスパターンが形成されたモールドを準備する工程と、（ｂ）前記モールドのエンボスパターン形成面に重合用酸化剤を付着する工程と、（ｃ）前記モールドを樹脂層に押圧する工程と、（ｄ）前記樹脂層から前記モールドを分離して、前記樹脂層に前記重合用酸化剤が付着したパターンを形成する工程と、（ｅ）前記樹脂層に形成されたパターンの内部に、選択的に導電性高分子のモノマーを充填して重合させることにより、導電性高分子の配線を形成する工程と、を含む印刷回路基板の製造方法。 （もっと読む）