パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

【課題】感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、０．１〜１０（ｍＪ／ｃｍ^２）であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜１０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
感光層が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通した光で、露光される請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
感光層が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通した光で、露光される請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項４】
重合禁止剤が、芳香環、複素環、イミノ基及びフェノール性水酸基から選択される少なくとも１種を有する請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
重合禁止剤が、フェノール性水酸基を少なくとも２個有する化合物、イミノ基で置換された芳香環を有する化合物、イミノ基で置換された複素環を有する化合物、及びヒンダードアミン化合物から選択される少なくとも１種である請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
重合禁止剤が、カテコール、フェノチアジン、フェノキサジン、ヒンダードアミン及びこれらの誘導体から選択される少なくとも１種である請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
重合禁止剤の含有量が、重合性化合物に対して０．００５〜０．５質量％である請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項８】
露光に用いる光の最小エネルギー量を求める場合の露光波長が、４０５ｎｍである請求項１から７のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項９】
感光層が、増感剤を含む請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１０】
増感剤の極大吸収波長が、３８０〜４５０ｎｍである請求項９に記載のパターン形成材料。
【請求項１１】
増感剤が、縮環系化合物である請求項８から１０のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１２】
増感剤が、アクリドン類、アクリジン類、及びクマリン類から選択される少なくとも１種である請求項８から１１のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１５】
露光が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行われる請求項１４に記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項１３から１５のいずれかに記載のパターン形成方法。

【図１】