エラストマー、並びに感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターン形成方法

【課題】熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気特性に優れた高性能な硬化膜を得ることができ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられるアルカリ可溶性、光架橋性のエラストマー、及び該エラストマーを含む感光性組成物等の提供。
【解決手段】（Ａ）ジイソシアネート化合物と、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を含有するジオール化合物と、（Ｃ）分子内に少なくとも１つの不飽和基を含有するジオール化合物と、（Ｄ）重量平均分子量が８００以上の高分子量ジオール化合物とを含み、全ジオール化合物の合計モル量に対し１．０〜２倍のモル量の前記（Ａ）ジイソシアネート化合物を反応させて得られ、前記（Ｄ）成分の高分子量ジオール化合物の含有率が、３〜２０モル％であるエラストマー、及び該エラストマーを含む感光性組成物である。

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ジイソシアネート化合物と、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を含有するジオール化合物と、（Ｃ）分子内に少なくとも１つの不飽和基を含有するジオール化合物と、（Ｄ）重量平均分子量が８００以上の高分子量ジオール化合物とを含み、全ジオール化合物の合計モル量に対し１．０〜２倍のモル量の前記（Ａ）ジイソシアネート化合物を反応させて得られ、
前記（Ｄ）成分の高分子量ジオール化合物の含有率が、３〜２０モル％であることを特徴とするエラストマー。
【請求項２】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるジイソシアネート化合物と、
（Ｂ）下記一般式（ＩＩ−１）から（ＩＩ−３）のいずれかで表される少なくとも１種のカルボン酸基含有ジオール化合物、（Ｃ）下記一般式（ＩＩＩ−１）から（ＩＩＩ−２）のいずれかで表される少なくとも１種のエポキシアクリレート化合物、及び（Ｄ）下記一般式（ＩＶ−１）から（ＩＶ−５）のいずれかで表される少なくとも１種のジオール化合物、とを反応させて得られる反応物である請求項１に記載のエラストマー。
【化１】

ただし、前記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有していてもよい二価の脂肪族炭化水素基及び置換基を有していてもよい二価の芳香族炭化水素基のいずれかを表す。
【化２】

【化３】

【化４】

ただし、前記一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、及び（ＩＩ−３）中、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、及びアリーロキシ基のいずれかを表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、単結合、アルキレン基、及びアリーレン基のいずれかを表し、これらは置換基により更に置換されていてもよく、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５のうちの２又は３個で環を形成してもよい。Ａｒは、置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を表す。
【化５】

【化６】

ただし、前記一般式（ＩＩＩ−１）及び（ＩＩＩ−２）中、Ｒ^８は、水素原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｒ^９〜Ｒ^１６は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｒ^１７〜Ｒ^３２は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。
【化７】

【化８】

【化９】

【化１０】

【化１１】

ただし、前記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−５）中、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６及びＲ^３７は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれアルキレン基、及びアリーレン基のいずれかを表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。Ｒ^３８は、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基のいずれかを表し、これらは、置換基により更に置換されていてもよい。Ｒ^３９は、シアノ基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。ｍは、２〜４の整数を示す。ｎ_１、ｎ_２，ｎ_３、ｎ_４及びｎ_５は、それぞれ２以上の整数を表す。ｎ_６は、０又は２以上の整数を表す。
【請求項３】
（Ａ）成分：（Ｂ）成分：（Ｃ）成分：（Ｄ）成分が、それぞれ３３〜５０モル％：１６〜３３モル％：７〜４０モル％：３〜２０モル％の割合で共重合され、かつ前記（Ａ）成分の総モル数と、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分、及び前記（Ｄ）成分の合計総モル数との比が１．０〜２．０である請求項１から２のいずれかに記載のエラストマー。
【請求項４】
酸価が２０〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ臭素価が２〜５０ｇＢｒ_２／１００ｇである請求項１から３のいずれかに記載のエラストマー。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のエラストマーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、着色剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。
【請求項６】
熱架橋剤が、エポキシ化合物及び多官能オキセタン化合物のいずれかである請求項５に記載の感光性組成物。
【請求項７】
無機充填剤を含む請求項５から６のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項８】
支持体と、該支持体上に、請求項５から７のいずれかに記載の感光性組成物が積層されてなる感光層と、を有することを特徴とする感光性フィルム。
【請求項９】
請求項８に記載の感光性フィルムにおける、感光層を、基体の表面に転写した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項１０】
請求項５から７のいずれかに記載の感光性組成物を、基体の表面に塗布し、乾燥して感光層を積層して積層体を形成した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項１１】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項９から１０のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１２】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項９から１０のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
非球面が、トーリック面である請求項１１から１２のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１４】
現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う請求項９から１３のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１５】
硬化処理が、全面露光処理及び１２０〜２００℃で行われる全面加熱処理の少なくともいずれかである請求項１４に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１６】
保護膜、層間絶縁膜及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項９から１５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。

【図１】