【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】偏向部を容易に取り替えることが可能な波長選択スイッチ及び波長選択スイッチ用光学ユニットを提供する。
【解決手段】本発明に係る波長選択スイッチ用光学ユニット１２５は、少なくとも一つの入力ポート１０９と、該入力ポート１０９から入力された入力光を波長分散させる分散部１１３と、該分散部１１３により分散される光を集光する集光素子１１５と、少なくとも一つの出力ポート１１０と、入力ポート１０９、分散部１１３、集光素子１１５及び出力ポート１１０を密閉する筐体１０１とを備え、筐体１０１は、集光素子１１５により集光された光が入射する位置に光学的に透明な透明部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率を向上する。
【解決手段】レーザ装置は、一方の主面側に入射した第１レーザ光の一部を第１反射光として反射するとともに残りの一部を第１透過光として透過し、且つ、他方の主面に入射した第２レーザ光の一部を第２透過光として透過するとともに残りの一部を第２反射光として反射するミラーと、前記第１透過光と前記第２反射光との光軸、もしくは、前記第１反射光と前記第２透過光との光軸が略一致するように、前記ミラーへ前記第１および第２レーザ光を入射させる光学系と、前記第１透過光または前記第１反射光のビームパラメータを計測する第１計測部と、前記第２反射光または前記第２透過光のビームパラメータを計測する第２計測部と、前記第１計測部の計測結果に基づいて前記第１レーザ光を調整する第１調整部と、前記第２計測部の計測結果に基づいて前記第２レーザ光を調整する第２調整部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】長期安定性に優れた液体光学素子アレイを提供する。
【解決手段】対向配置された平面基板２１，２２と、平面基板２１の面２１Ｓに立設され、平面基板２１上の領域を複数のセル領域に分割する隔壁２４と、隔壁２４の壁面に、互いに対向して配置された第１および第２の電極２６Ａ，２６Ｂと、平面基板２２の面２２Ｓに設けられた第３の電極２６Ｃと、セル領域において平面基板２１に立設する突起部２５と、平面基板２１と第３の電極２６Ｃとの間に封入され、互いに異なる屈折率を有すると共に分離された状態を保つ極性液体２８および無極性液体２９とを備える。液体光学素子アレイの姿勢に関わらず、極性液体２８および無極性液体２９は突起部２５により安定して保持される。 （もっと読む）

【課題】 光学膜としての金属膜の特性が、酸化や硫化等によって劣化するのを防止すること。
【解決手段】 光フィルターは、第１基板２０と、第１基板２０に対向する第２基板３０と、第１基板２０に設けられた第１光学膜４０と、第２基板３０に設けられ、第１光学膜４０と対向する第２光学膜５０と、を含み、第１光学膜４０および第２光学膜５０の少なくとも一方は、所望波長帯域の光に対する反射特性および透過特性を有する金属膜４０Ｍを有し、金属膜４０Ｍの表面およびエッジ部は、バリア膜９０としての誘電体膜によって覆われている。金属膜４０Ｍのエッジ部に、傾斜面を設けることもできる。また、金属膜４０Ｍと、その下に形成される他の光学膜としての誘電体膜４０Ｅとの間に階段状の段差を形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】 光フィルターの特性設計を容易化すること。
【解決手段】 エタロンフィルター３００は、第１基板２０と、第１基板に対向する第２基板３０と、第１基板に設けられた第１光学膜４０と、第２基板に設けられ、第１光学膜と対向する第２光学膜５０と、を含み、第１光学膜４０の、反射帯域における各波長の光の反射率によって定まる反射特性Ｌ１と、第２光学膜５０の、反射帯域における各波長の光の反射率によって定まる反射特性Ｌ２とが異なる。第１光学膜４０は、第１波長λ１を中心波長とする反射特性を有し、第２光学膜５０は、第１波長とは異なる第２波長λ２を中心波長とする反射光特性を有することができる。エタロンフィルター３００の分光帯域での中心波長をλ３としたとき、λ１＜λ３＜λ２となるように、各光学膜４０，５０を設計する。 （もっと読む）

【課題】 基板の貼り合わせによって構成される光フィルターにおいて、基板の傾きを抑制して、各基板に設けられる光学膜間の平行度を確保すること。
【解決手段】 光フィルターは、支持部２２を有する第１基板２０と、支持部２２によって支持される第２基板３０と、第１基板２０に設けられた第１光学膜４０と、第２基板３０に設けられた、第１光学膜４０と対向する第２光学膜５０と、を含み、支持部２２の、第２基板３０を支持する支持面Ｑ１の全領域上に設けられた第１接合膜１０５と、第２基板３０の被支持面Ｑ２のうちの少なくとも、支持面Ｑ１の全領域に対向する領域（対向面）Ｑ２ａ上に設けられた第２接合膜１０７との接合によって、第１基板２０と第２基板３０とが固着されている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー工程とエッチング工程の回数を減らし、製造時間の短縮化と低コスト化を図る。
【解決手段】基板と膜の支持構造と光学積層膜と移動可能な反射層と空隙とを含む光干渉変調方式による表示装置の製造方法であって、基板上に支持構造と光学積層膜とを設けた構造に対してフォトレジスト膜を形成する工程と、透過率の異なる複数の領域を具備する多階調フォトマスクを用いて露光及び現像を行う工程と、前記現像後のフォトレジスト膜の上部に反射層を形成する工程と、前記反射層を残してレジスト膜を除去する工程と、を有する表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】一対の基板の対向する面に設けられた電極の配線を確実に基板の外部に引き出し、接続信頼性を向上させることが可能な光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器を提供すること。
【解決手段】エタロン５は、平面正方形状の板状の光学部材であり、第１基板５１および第２基板５２を備えている。第１基板５１は、第２基板５２に対向しない第１突出部５１３を有しており、この第１突出部５１３に第１電極パッド５４１Ｂが形成されている。また、第２基板５２は、第１基板５１に対向しない第２突出部５２４を有しており、この第２突出部５２４に第２電極パッド５４２Ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のランプに代え、固体光源をその光源として採用するのに適した投写型表示装置の構造を提供する。
【解決手段】白色光を射出する光源ユニットと、当該光源ユニットからの白色光をＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３原色光に分離する光分離光学系と、分離されたＲ，Ｇ，Ｂの各偏光光を、それぞれ、映像信号に応じて光変調してＲ，Ｇ，Ｂの各光学像を形成するＲ，Ｇ，Ｂの光変調手段と、当該Ｒ，Ｇ，Ｂの光変調手段により形成された各光学像を光合成する光合成手段と、当該合成された光学像を拡大して投射する投射手段とを備えた投写型表示装置において、前記光源ユニットは、固体発光素子からの励起光を含んだ点光源から出射した白色光を、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの光変調手段に射出する。 （もっと読む）

【課題】表示画像の画質の劣化を抑制しながら、スペックルノイズの低減率を向上させることができないという問題を解決する投射型画像表示装置を提供する。
【解決手段】光源１１は、映像信号に応じて変調された光ビームを出射する。投射部１２は、光源１１から出射された光ビームを投射する。光路長調整部１３は、光ビームの光路長を調整する。制御部１４は、光源１１から出射された光ビームから波面形状がそれぞれ異なる複数の調整ビームが生成され、かつ、各調整ビームが映像信号に応じた表示画像の各画素位置に対して時分割されて投射されるように、映像信号に基づいて、光路長調整部１３を制御して、光源１１から出射された光ビームの光路長を変更する。 （もっと読む）

【課題】異物が挟まって可動体が動作しなくなりさらには電気的短絡が生じるといった不具合が発生しない微小可動デバイスを提供する。
【解決手段】単結晶シリコン基板６１上に、絶縁層６２を介して単結晶シリコン層６３からなる構造体（固定櫛歯電極５１，５２等）が固定され、基板板面と平行に変位する単結晶シリコン層からなる可動体（可動ロッド４６等）が構造体に保持されてなる微小可動デバイスにおいて、単結晶シリコン基板上面の構造体が存在しない全領域に凹部６４が形成され、可動体が絶縁層を具えずに凹部上に位置し、異物が挟まらない十分な空隙が確保され、かつ構造体が凹部上に張り出すオーバーハング部を持ち、このオーバーハング部の下側にあって構造体を単結晶シリコン基板に固定している絶縁層の周縁が凹部上に懸からない位置に在り、これによって単結晶シリコン基板と単結晶シリコン層との間に微小な空隙が形成されて電気的短絡が防止される。
【選択図】図１１
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【課題】光信号の損失を抑えつつ、帯域および分散補償特性の向上を図ること。
【解決手段】分散補償装置１００は、反射型のエタロン１２１〜１２３を用いて光信号の分散補償を行う。エタロン１２１〜１２３はそれぞれ光信号を反射させる。エタロン１２３は、エタロン１２１，１２２よりも群遅延特性の波長周期およびフィネスが大きい。電源１３１〜１３３および温度制御部１４１〜１４３は、エタロン１２１〜１２３の群遅延特性を波長シフトさせる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、吸引開始時にも大きな力を発生させることができる静電アクチュエータ、マイクロスイッチ、電子機器、および静電アクチュエータの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に設けられた吸引電極に電圧を印加することで膜体を静電的に吸引する静電アクチュエータであって、前記膜体には、前記吸引電極の主面との距離が漸次増加するような傾斜面が設けられていること、を特徴とする静電アクチュエータが提供される。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバー波長選択スイッチ、特に、等化適用及びブロック適用においてチャネルルーティング用の光ファイバー波長選択スイッチを提供すること。
【解決手段】 入力信号は予め定義された偏光を有する光ビームに変換される。次いで、ビームは横方向に拡大され、ビーム拡大面で空間的に分散される。異なる波長成分は偏光回転装置を通して方向付けされ、各ピクセルは別個の波長で動作するように波長分散方向に沿ってピクセル化される。次いで、各ビームは望ましい出力ポートに各波長を方向付けるためにピクセル化ビーム操縦アレイに通される。ビーム操縦装置はＭＥＭＳベース、又はＬＣＯＳアレイにすることができる。適切な制御電圧がピクセル及びその関連ビーム操縦要素に印加されるとき、そのピクセルを通過する光信号の偏光が回転され、そのビームは選択出力ポートに接続するために操縦される。 （もっと読む）