【課題】ねじりバネに支持されたステージの回転角度を正確に測定できるセンサを備えたマイクロ光スキャナを提供する。
【解決手段】ステージ１０の両側を支持する一対のねじりバネ３０と、ねじりバネ３０の中央軸に沿って形成された抵抗体Ｒ１〜Ｒ４と、抵抗体の抵抗変化を検出する電気的回路とを具備する回転型ＭＥＭＳデバイスである。また、該ねじりバネは、（１００）面を有するｎ型シリコン基板であって＜１００＞方向に形成され、ねじりバネに形成された抵抗体は、ねじりバネで＜１１０＞方向に形成されている。 （もっと読む）

本発明は、マイクロミラーアクチュエータ及び対応するアクチュエータに関する。この方法によると、アクチュエータは、中間層１０２、１０４、１０６によって互いから少なくとも部分的に電気的に絶縁される少なくとも３つの主要層１０１、１０３、１０７の層構造から製造される。層は、マイクロミラー素子及び電極を形成するように構造化され、この構造化は、少なくとも上側の主要層１０７から成る閉鎖フレーム３１０をアクチュエータの内側領域の周りに形成することによって達成され、このフレームにカバープレートを適用することによって内側領域を気密封入することを可能にする。導体経路平面１０５が、層のうちの少なくとも２つの間に生成され、中間層によって当該層から電気的に絶縁され、且つ、導体トラックを形成するように構造化され、この導体トラックによって、中間層１０２、１０４、１０６のうちの１つ又は複数に接触開口を形成した後で、電極のうちの１つ又は複数に、フレーム３１０の外側から電気的に接触することができる。上記方法によって、アクチュエータの内側領域の気密封止された封入を、ウェハレベルでさえも簡単に達成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明はスクリーンとディスプレイ装置との距離にかかわらず映像を歪みなく投射できる映像歪み除去のための映像処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】回折型光変調器を用いたディスプレイ装置の映像歪み補正方法において、（ａ）原本映像座標値に縮小ファクタを乗じて縮小映像座標値を算出する段階と、（ｂ）前記算出された縮小映像座標値を変換映像座標値と比較する段階と、（ｃ）前記変換映像座標値に対応される前記縮小映像座標値を抽出する段階と、（ｄ）前記縮小映像座標値の階調値から前記変換映像座標値の階調値を算出する段階と、（ｅ）前記算出された変換映像座標値の階調値に応じて前記回折型光変調器を動作させる段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】光変調器のパッケージング、ディスプレイ装置の製造などの次の工程に不良光変調器が伝達されることを防止して製造費用を大きく減少できる光変調器のチップ状態での正常動作の可否を検査する装置及び方法を提供する。
【解決手段】入力された制御信号を駆動信号に変換し、光変調器の各駆動信号入力パッドに接触して駆動信号を提供するプローブカードであって、光変調器は一つ以上のマイクロミラー及びマイクロミラーにそれぞれ繋がった一つ以上の駆動信号入力パッドを有し、マイクロミラーは駆動信号入力パッドを通して入力された駆動信号により上下に移動するプローブカードと、光変調器の誤動作の可否を確認するための制御信号を生成し、プローブカードに電気的に接続されて制御信号を伝送する映像制御回路とを備える光変調器検査装置及びその検査方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つのリボンを使用して一つのピクセルを形成することができる回折光を得るようにして、製品の小型化を可能にする回折型光変調器を提供する。
【解決手段】基盤部材；前記基盤部材から離隔して空間を確保する中間部分、入射光を透過させる透過性物質、及び中間部分の一部に前記基盤部材に配向され、入射光を反射させる反射面を持ち、前記基盤部材に支持される第１反射部；前記第１反射部と基盤部材との間に位置し、第１反射部から離隔しており、前記第１反射部を透過した透過光を反射させる反射表面を有する第２反射部；及び前記第１反射部の中間部分を前記第２反射部に対して動かし、前記第１反射部と前記第２反射部の反射光から形成される回折光の光強度を変化させる駆動手段を含む。 （もっと読む）

【課題】ミラーのドリフトの発生を抑制する。
【解決手段】ミラー制御装置は、回動可能に支持されたミラー２３０と、ミラー２３０から離間して配置された電極３４０ａ〜３４０ｄと、ミラー２３０の駆動電圧として平均直流成分が電極３４０ａ〜３４０ｄ毎に略零となる交流電圧をミラー２３０の所望の傾斜角に応じて生成して電極３４０ａ〜３４０ｄに印加する駆動電圧印加手段４０１とを備える。駆動電圧印加手段４０１は、駆動電圧としてミラー２３０の所望の傾斜角に応じた振幅又はデューティー比の交流電圧を生成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特にSLMアセンブリ素子の製造において、熱的にまたは化学的に収縮する接続材料を介して、ベース部に接続され、その高さが横方向の大きさより非常に小さい素子の表面形状を補正する方法に関する。
【解決手段】本方法は以下のステップを備える。素子の製造後、素子の現在の表面形状を測定して、所望の表面形状からの偏差を検出するステップと、ベース部表面に、所望の表面形状からの偏差に対してネガティブな補正用型を設けるステップと、接続材料を、ベース部表面または素子の下側に塗布するステップと、現在の表面形状および補正用型に応じて位置を合わせながら、素子とベース部を結合するステップと、素子の現在の表面形状の偏差を補って所望の表面形状を達成するように、熱的にまたは化学的に収縮する接続材料を硬化させるステップを備える。 （もっと読む）

【課題】非金属の変形自在の干渉型変調素子を製造する。
【解決手段】各変形自在素子は変形機構と光学的部分を有し、それぞれ制御された変形特性と制御された変調特性とを独立して素子に与える。変形自在の変調素子は非金属である。素子は、最終の共振器寸法と関係がある層厚を有している犠牲層と犠牲層をそれら間にてサンドウィッチする２つの層を形成し、化学薬品（例えば、水）を使い又はプラズマに基づいた処理を行い犠牲層を除去することによって形成される。各変調素子は引張応力下で保持される変形自在部分を有し、制御回路は変形された部分の変形を制御する。 （もっと読む）

【課題】２つの出射光の良好かつ均等な偏波面依存性を得られるようにし、かつＭＥＭＳで容易に構成できるようにする。
【解決手段】入力ポート（光ファイバ６１）と第１、第２の出力ポート（光ファイバ６２，６３）との光結合がアクチュエータによるミラーの駆動によって切り換えられる光スイッチにおいて、第１、第２の出力ポートを入力ポートを挟んで反対側に、互いに鋭角をなして配置し、第１のミラー面３５ａを介して入力ポートと第１の出力ポートとが光結合され、第２のミラー面３６ａを介して入力ポートと第２の出力ポートとが光結合されるようにする。入射光７１のミラー面３５ａ，３６ａへの入射角を等しくし、かつ入力ポートから第１及び第２の出力ポートにそれぞれ至る光路長を等しくする。アクチュエータは第１のミラー面３５ａの手前の位置に第２のミラー面３６ａを挿抜させる。 （もっと読む）

ディスプレイシステムは、光源と、その光源に結合され、照明経路に沿って照明ビームを供給するように構成された第１の光学系とを含む。ディスプレイシステムは、照明経路に配置された空間光変調器をさらに含む。空間光変調器は、複数の電極デバイスを含む半導体基板と、半導体基板に結合されたヒンジ構造とを含む。ヒンジ構造はシリコン材料を含む。空間光変調器には、ヒンジ構造に結合され、半導体基板から所定の距離まで延びるミラー柱と、ミラー柱に結合され、複数の電極デバイスの上にあるミラー板とがさらに含まれる。ディスプレイシステムは、空間光変調器に結合され、画像を映写面上に投写するように構成された第２の光学系をさらに含む。 （もっと読む）

完全一体化超微小電気機械（ＭＥＭＳ）１×Ｋ波長選択スイッチ（ＷＳＳ）は一体として製造されるＮ個の固体−液浸微小ミラー（ＳＩＭ）アレイ及びＫ＋１個の分散形導波路アレイを備える。一実施形態ではＷＳＳはシリコンの中に製造される。他の実施形態ではＳＩＭのＮ個のアクチュエータが絶縁体上シリコン（ＳＯＩ）ウエハのシリコン層にエッチングされる。シリカ層がシリコン層の上に付着され、Ｋ＋１個の導波路アレイ及びＮ個のＳＩＭのためのミラーが該シリカ層にエッチングされる。さらに他の実施形態ではＫ＋１個の分散形導波路アレイが、共通共焦点結合器の微小部分を除き、シリカ、ゾル−ゲル、重合体を含むグループから選択される、シリコン、サファイヤ又は他のガラス絶縁体材料を含むグループから選択される第１のウエハの上に付着される材料を使用して製造され、共通共焦点結合器の残りの部分及びＮ個のＳＩＭがシリコンウエハの中に製造され、第１のウエハ及びシリコンウエハが一体に突き合わせ結合される。
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集積空間光変調器を製造する方法。該方法は、ボンディング表面を含む第１の基板を提供するステップと、デバイス基板を処理して少なくとも１つの電極層を形成するステップであって、該電極層が複数の電極を含むステップと、該電極層上にスタンドオフ層を堆積するステップとを含んでいる。該方法はさらに、該スタンドオフ層からスタンドオフ構造を形成するステップと、該第１の基板の該ボンディング表面を該デバイス基板の該スタンドオフ構造に接合するステップとを含んでいる。具体的な実施形態では、該方法はさらに、スタンドオフ層を堆積する該ステップの後に、該スタンドオフ層の化学的機械的研磨を実行して該スタンドオフ層の上部表面を平坦化するステップを含んでいる。 （もっと読む）

本発明の一観点は、静電アクチュエータを有するマイクロミラー・デバイスの偏向のドリフトに対する安定化方法において、前記マイクロミラーと前記マイクロミラーの下の少なくとも１つの電極とである少なくとも２つの部材を含むアクチュエータであって、前記少なくとも２つの部材の少なくとも１つが半導体材料で形成されているアクチュエータを提供する行為と、前記アクチュエータの前記他の部材に面する前記少なくとも１つの半導体部材上に、１０^１７ｃｍ^３以上のキャリア密度を有する表面層を提供する行為とを含む方法を含む。 （もっと読む）

空間光変調器（２００）を使用する表示装置などの表示装置（９００）を含む様々な装置に使用する、復帰電極（４１８、５１８、６１８、７１８、８１８）を有する微小電気機械装置であって、光透過基板（２１４、３２０、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４）、半導体基板（２１２、３１８、４１２、５１２、６１２、７１２、８１２）、および基板（２１４、３２０、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４、２１２、３１８、４１２、５１２、６１２、７１２、８１２）のうちの１つによって支持され、静止位置と動作位置の間で撓むことができる部材（２１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０）を含む。可撓部材（２１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０）は、復帰電極（４１８、５１８、６１８、７１８、８１８）の動作によって非撓み位置に戻る。
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デバイスは、互いに噛み合わされた関係で半導体ウェハ上に形成され、深掘反応性イオンエッチングによって解放される。ＭＥＭＳスキャナは周囲を取り囲むフレームを有さずに形成される。取付パッドは、ねじりアームから外向きに延びる。隣接するＭＥＭＳスキャナは、その互いに噛み合わされた取付パッドを備えて形成されるので、デバイスの周りに正多角形が形成されれば必ず１以上の隣接するデバイスの一部分とも交差する。ＭＥＭＳスキャナは、金属層、小さな半導体ブリッジ、または組み合わせによって、その輪郭内に保持されてもよい。
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