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Fターム[2H147AC02]の内容

光集積回路 (45,729) | 使用状態下の素子に対する制御因子 (786) | 電流、キャリア濃度 (90)

Fターム[2H147AC02]に分類される特許

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【課題】光半導体装置とその製造方法において、光半導体装置の信頼性を高めること。
【解決手段】半導体基板1を途中の深さまでエッチングすることにより、断面形状が凸状のコア4aを半導体基板1に形成する工程と、コア4aの一方の側面4xと他方の側面4yの各々に酸化防止膜22を形成する工程と、酸化防止膜22が形成された状態で、コア4aの両脇の半導体基板1の表面を熱酸化する工程と、コア4aの一方の側面4xの横の半導体基板1に第1の不純物領域を形成する工程と、コア4aの他方の側面4yの横の半導体基板1に第2の不純物領域を形成する工程とを有する光半導体装置の製造方法による。 (もっと読む)


【課題】偏向方位分解能の向上、偏向角の拡大、搭載自由度の向上、および構造の簡略化を実現する
【解決手段】光偏向素子1は、内部を光が導波する光ガイド層13と、光ガイド層13の上面および下面に形成されたDBR14およびDBR12とを備え(以下、光ガイド層13とDBR12,14とをまとめて「導波路」という)、さらに、DBR14の両面のうち導波路と非接触となる側の面に形成された光入射口26と、光入射口26から入射して導波路内を導波する光を出射させるための光出射口27とを備える。そして、光入射口26から導波路内に光が入射すると、導波路内の光は、光ガイド層13の上面および下面に設けられたDBR12,14で反射しながら光導波層内を導波し(矢印D1を参照)、その後、光出射口27から出射する(矢印D2を参照)。 (もっと読む)


【課題】データ処理装置などの機器間又は機器内において、チップ間やボード間で送受信される高速光信号を伝送する際に、安価な作製手段で伝送速度高速化、小型・集積化、および部品実装性に優れるSi集積の光モジュールおよび光電気混載ボードを提供する。
【解決手段】Si同一基板100上に、レーザ光源素子101と、Si基板100に直接設けられたSi導波路102とを具備し、Si導波路102が基板水平方向に形成され、Si導波路光出射端からの光軸延長線上に、基板平行に対して傾斜角を有する第1のテーパ面106と、それと対向する位置に基板平行に対して傾斜角を有する第2のテーパ面107がそれぞれ表面に露呈した光路変換部106を設け、基板外部との間でやりとりされる光信号が、光路変換部104およびSi基板100内部を介して基板垂直方向に光学的に接続される光モジュールとする。 (もっと読む)


【課題】光位相変調器においてビット遷移時に発生する周波数チャープを抑制する。
【解決手段】入射された光信号を2つに分岐する分岐部(120)と、第1の位相シフタ(132)を有する第1の変調器アーム(130)と、第2の位相シフタ(142)を有する第2の変調器アーム(140)と、第1の変調器アームを伝搬した第1の光信号と第2の変調器アームを伝搬した第2の光信号とを合波して出射する結合部(150)とを備えた光位相変調器(100)において、損失調整部(A)を設け、第1の位相シフタ(132)による第1の光信号の位相のシフトに依存しない第1の変調器アーム(130)の伝搬損失と、第2の位相シフタ(142)による第2の光信号の位相のシフトに依存しない第2の変調器アーム(140)の伝搬損失とを互いに異ならせた。 (もっと読む)


【課題】可変光バッファ回路の回路全体のサイズを小さくし、簡単な製造工程と製造設備を使用でき、経路間の損失のばらつきも解消する。
【解決手段】可変光バッファ回路は、半導体基板上に形成した光スイッチ回路と合波回路とを接続して構成され、光導波路で形成された遅延線を含め一体形成される。合波回路は光導波路で形成された遅延線と光結合器で構成される。同一遅延線を用いる場合、光結合器と、その一方の入力端に接続された遅延線とからなる組が、遅延線および光結合器が交互に縦続してN個の経路を構成するよう接続される。光結合器の各々の結合率は、各経路の各々に対し、光結合器の結合率に基づいた損失を除いた損失を最小としたときの最小損失値の測定値に基づき設定される。 (もっと読む)


【課題】熱分布の発生を抑制して、ビーム品質を高めることができるようにする。
【解決手段】入射面2aから励起光6を導入して、その励起光6を伝搬させる平板状の励起光導入部2と、励起光導入部2より高い屈折率を有しており、その励起光導入部2により伝搬された励起光6を導入する入射面が、その励起光導入部2の下面2cに接合され、その入射面から導入した励起光6を吸収して利得を発生する平板状のレーザ媒質1とを備え、その励起光導入部2における励起光6の入射方向の長さがレーザ媒質1より長く、その励起光導入部2の入射面2a付近にはレーザ媒質1が接合されていないように構成する。 (もっと読む)


【課題】メサ部上の樹脂領域の開口が狭い場合であっても、AuZn膜を含む金属膜をメサ部上に容易に形成することが可能な半導体光変調素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メサ部32を保護膜22によって覆う第1の絶縁膜形成工程と、メサ部32を樹脂領域20によって埋め込むとともに、メサ部32上の該樹脂領域20の部分に開口20cを形成する工程と、開口20cにおいて露出した保護膜22、及び樹脂領域20を保護膜24によって覆う第2の絶縁膜形成工程と、メサ部32上の保護膜22,24の部分に開口を形成する工程と、Ti膜を含む金属膜26aを、該Ti膜と保護膜24とが互いに接触するように開口20c内を除く樹脂領域20上に形成する工程と、Au膜を含む金属膜26bを、該Au膜とメサ部32とが互いに接触するようにメサ部32上から金属膜26a上に亘って形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】小型で低光損失な光導波路の折り返し回路を提供し、素子の小型化・低損失化を実現すると共に、機械的信頼性を高めた光変調器を提供する。
【解決手段】ニオブ酸リチウム材料からなるLN変調器と、ガラス材料からなり、前記LN変調器への光信号の入出力のために前記LN変調器と突き合わせ接続された第1及び第2のPLCとを含む光変調器であって、前記第1のPLCの光導波回路は、一方の端面にファイバブロックを介して接続された少なくとも2本のファイバと、他方の端面に突き合わせ接続された前記LN変調器の光導波路とを接続し、前記第2のPLCの光導波回路は、一方の端面に突き合わせ接続された前記LN変調器の光導波路どうしを接続する折り返し光導波路であり、該折り返し光導波路は、前記第2のPLC上に実装された半導体光導波回路に形成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体光素子の消費電力または素子長を小さくする。
【解決手段】第1クラッド層4と、第2クラッド層6と、第1クラッド層4と第2クラッド層6に挟まれた光導波層8とを有し、光導波層8は、第1半導体層10と、第1半導体層10上に設けられ一方向に延在する第2半導体層12とを有し、第1半導体層10は、第2半導体層12の片側に設けられたn型領域14と、第2半導体層の反対側に設けられたp型領域16と、n型領域14とp型領域16の間に設けられたi型領域18とを有し、第2半導体層12は、第1半導体層10より狭いバンドギャップを有する。 (もっと読む)


【課題】Inを含まないIII−V族化合物半導体からなる半導体層と基板のSi面とを接合させる構造において、Inを含まないIII−V族化合物半導体からなる半導体層と基板とに剥がれが生じることを抑制すること。
【解決手段】本発明は、GaAs基板32の主面上に形成された光を発振する活性層38を含む積層半導体層46のうちの最表面の層である、Inを含まないIII−V族化合物半導体であるGaAsからなるコンタクト層44の表面に、InAsの複数の量子ドットからなる接合層22を形成する工程と、コンタクト層44の表面を、接合層22を介して、基板10に含まれるSi薄膜層16のSi面に接合させる工程と、を有する半導体装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】絶縁層上の導波路型光デバイスのコアに蓄積されるキャリア濃度を高くして、その変調効率を高くする。
【解決手段】絶縁性の第1のクラッド層4と、前記第1のクラッド層4の一面に設けられた半導体の光導波層6と、前記光導波層6を覆う絶縁性の第2のクラッド層8とを有し、前記光導波層6は、一方向に延在するコア14と、前記コア14の一方の側面に接し前記コア14より薄い第1のスラブ部18と、前記コア14の他方の側面に接し前記コア14より薄い第2のスラブ部22とを有し、前記第1のスラブ部18は、前記コア14に沿うn型領域16を有し、前記第2のスラブ部22は、前記コア14に沿うp型領域20を有し、前記n型領域16と前記p型領域20の間の領域には、バンドギャップが前記n型領域16及び前記p型領域20より狭くなるように、n型不純物及びp型不純物がドーピングされている。 (もっと読む)


【課題】波長特性が広帯域で可変である波長可変光フィルタ、および広帯域でレーザ光の波長が可変である波長可変レーザを提供すること。
【解決手段】コア部を有するマルチモード干渉型導波路部と、前記マルチモード干渉型導波路部の長さ方向の一端に設けられた第1光入出力部と、前記マルチモード干渉型導波路部の他の一端に設けられた第2光入出力部とを有し、前記マルチモード干渉型導波路部は前記第1光入出力部から入力し第2光入出力部から出力する光に対して損失波長特性を有する光フィルタ部と、前記マルチモード干渉型導波路部のコア部の側部に設けられた、該コア部よりも屈折率または等価屈折率が低い側部クラッド部と、前記側部クラッド部の屈折率または等価屈折率を変化させる屈折率調整機構と、を備える。 (もっと読む)


【課題】3次元フォトニック結晶からの射出光に高い対称性を有する電磁エネルギー分布を持たせる。
【解決手段】フォトニック結晶の導波路領域は第1の基本構造と第1の欠陥部を、モード変換領域は第2、第3の基本構造と第2の欠陥部を有する。フォトニック結晶の単位構造は、第2の軸に平行な直線に関して鏡映対称ではなく第3の軸に平行な直線に関して鏡映対称である。光が伝搬する第1の方向に直交する方向を第2、第3の方向としたとき、第1、第2の基本構造の第1〜第3の方向は単位構造の第1〜第3の軸の方向と一致する。第1の断面にて第2の基本構造は第3の方向の片側に配置されて第3の基本構造に接続されている。第1の断面にて第3の基本構造は、第2の基本構造と鏡映対称である。モード変換領域は、第1の断面にて第2、第3の方向に延びる直線に関して鏡映対称である。 (もっと読む)


【課題】省サイズ化と低コスト化を実現できる多値光位相変調器を提供すること。
【解決手段】入力された光を分岐する光分岐器と、前記光分岐器に接続し、位相変調部を有する2つのアーム部を備え、前記分岐された光を強度変調して光信号として出力する2つ以上のマッハツェンダ型強度変調器と、前記各マッハツェンダ型強度変調器に接続し、該マッハツェンダ型強度変調器から出力した各光信号を合成して多値光信号として出力する光合成器と、前記光分岐器と、前記マッハツェンダ型強度変調器の少なくともいずれか1つの各位相変調部との間に設けられ、利得媒質を有し、該利得媒質の利得飽和特性を利用して、入力された光の強度を所定強度に調整して出力する少なくとも1つの光強度調整器と、を備える。 (もっと読む)


【課題】複数の段差を有する導波路構造において、簡易かつ精度よく、コア層と上部クラッド層におけるメサ中心のずれを小さくする。
【解決手段】下部クラッド層103とコア層102と上部クラッド層101とを積層し、上部クラッド層101上に、互いに並行に配置される第一及び第二のストライプ状マスク105a、105bと、第一のストライプ状マスク105aと第二のストライプ状マスク105bとの間に配置される第三のストライプ状マスク106とからなる3本のストライプ状マスク107を形成し、第一、第二のストライプ状マスク105a、105b及び第三のストライプ状マスク106をマスクとして第一メサを形成し、第一及び第二のストライプ状マスク105a、105bをそれぞれ除去し、第一及び第二のストライプ状マスク105a、105bを除去した後に、第三のストライプ状マスク106をマスクとして、第一メサの上部に位置し、第一メサよりも幅の狭い第二メサを形成する。 (もっと読む)


【課題】 従来の導波路型光フィルターと比較して、小型化及び低コスト化を図ることができる導波路型光フィルターを提供するものである。
【解決手段】 導波路型光フィルターは、1×3型マルチモード干渉導波路4aと、3×1型マルチモード干渉導波路5aの入力ポートに一端が接続される1本の入射光導波路1aからなる第1の光導波路群1と、1×3型マルチモード干渉導波路4aの出力ポートに一端が接続される3本の光導波路(直線導波路2a、第1の曲線導波路2b、第2の曲線導波路2c)からなる第2の光導波路群2と、を備え、第2の光導波路群2のうち、一の光導波路の長さが、他の光導波路の長さと異なる。 (もっと読む)


【課題】コアを光の導波方向に分割してそれぞれ独立に屈折率を調整しようとした場合に、分割されたコア間に発生する光の導波方向のリーク電流を低減することが可能な光学素子を提供する。
【解決手段】半導体のコア1をブロッキング領域13,14,17,18によって複数の領域に分離する。光の導波方向において対向配置された導電性コア11,12をそれぞれP型、N型とし、それとブロッキング領域を挟んで対向する導電性コア15,16をそれぞれP型、N型とする。導電性コア11と導電性コア15との間に配置するブロッキング領域13をN型とし、導電性コア12と導電性コア16との間に配置するブロッキング領域14をP型とする。 (もっと読む)


【解決手段】 ウェハ貼り合わせ技術を用いる光変調器を提供する。ある実施形態に係る方法は、シリコン・オン・インシュレータ(SOI)ウェハにエッチングを実施して、SOIウェハの第1の表面にシリコン導波路構造の第1の部分を形成する段階と、結晶質シリコン層を含む第2のウェハであって、結晶質シリコンの第1の表面を持つ第2のウェハを用意する段階とを備える。当該方法はさらに、ウェハ貼り合わせ技術を用いて、薄い酸化物を介して、第2のウェハの第1の表面を、SOIウェハの第1の表面に、貼り合わせる段階を備える。尚、シリコン導波路構造の第2の部分は、結晶質シリコン層にエッチングで形成される。 (もっと読む)


【課題】近接場光の伝達効率の減少を可及的に防止することを可能にする。
【解決手段】金属と無機酸化物とが3次元的に共に連続的な構造の複合体からなる近接場光導波部4と、近接場光導波部の一端に近接場光を導入する近接場光励起部6と、近接場光導波部の他端から近接場光を出力する近接場光出力部8と、を備えている。近接場光導波部4は、金属/無機酸化物の複合体からなっており、良好な導波効率を得るためには、酸化物の割合a(vol%)、金属の割合をb(vol%)とした場合に、70≦a≦95,5≦b≦30の高密度な構造体であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 導波路型光ゲートスイッチ及び多段導波路型光ゲートスイッチに関し、作製上の誤差の影響を受けない、超小型の導波路型光ゲートスイッチを実現する。
【解決手段】 光導波路の一部分の複素屈折率を変化させることによって光の透過量を変化させる導波路型光ゲートスイッチであって、光導波路は、光軸方向において互いに対向する一対のコア層と、一対のコア層の間に配置された相変化材料部と、一対のコア層及び相変化材料部を覆うクラッド層とを有するとともに、相変化材料部に、相変化材料部の相を変化させる相変化手段を設ける。 (もっと読む)


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