【課題】作製歩留まりが高く、良好な特性を有する光集積回路を提供すること。
【解決手段】半導体基板上に、幅方向における第１の比屈折率差と第１のコア幅とを有する第１の光導波路素子と、幅方向における第２の比屈折率差と第２のコア幅とを有する第２の光導波路素子が形成されており、前記第１の光導波路素子と前記第２の光導波路素子とが光学的に結合する接合部分を少なくとも１箇所以上有する光集積回路において、前記第２の比屈折率差は前記第１の比屈折率差よりも大きく、前記接合部分において第２のコア幅は前記第１のコア幅よりも広い。 （もっと読む）

【課題】高歩留まりな波長可変レーザ、変調器集積波長可変レーザを提供する。
【解決手段】本発明による波長可変レーザは、平面光導波路によって光カプラが形成された基板と、基板上に取り付けられ光カプラにそれぞれ光信号を供給する複数のＤＦＢレーザ素子を有するＤＦＢアレイ部と、基板上に取り付けられ、光カプラが出力する光信号を増幅するＳＯＡ素子を有するＳＯＡ部とを備える。ＤＦＢアレイ部とＳＯＡ部とは同一の積層構造を有するチップ内に形成されている。 （もっと読む）

【課題】
透過率を高速に変更可能な光フィルタを実現する。
【解決手段】
光導波路（１８）は、サブバンド間遷移によりＴＭ波を吸収しＴＥ波に相互位相変調を起こす量子井戸サブバンド間遷移光導波路構造からなる。光導波路（１８）の入射側と出射側に反射膜（２０，２２）を設け、ファブリペロー共振器を構成する。偏光合波器（２４）は、ＴＥ波の信号光（２８）とＴＭ波の制御光（３０）を合波し、合波光を反射手段（２０）を介して光導波路（１８）に入射する。出射側の偏光ビームスプリッタ（２６）は、光導波路（１８）の出射光から、信号光（３２）と制御光（３４）を分離する。 （もっと読む）

【課題】波面整合法を用いた設計によって発生する微細な構造を抑制した光回路を提供する。
【解決手段】入射光のフィールドまたは出射光のフィールドを所定の距離だけ伝搬させながら屈折率を計算することであって、順伝搬フィールドまたは逆伝搬フィールドのうち伝搬方向に対して横方向に大きな波数をもった成分を取り除いて屈折率を計算し、光回路の屈折率分布を決定する。 （もっと読む）

【課題】暗電流を低減でき、かつ、高速応答が可能な光検出器を提供する。
【解決手段】ｎ^＋型ｃ−Ｇｅ層２、ｉ型ｃ−Ｇｅ層３およびｐ^＋型ｃ−Ｇｅ層４が光導波路３０に近接してシリコン基板１上に積層される。光導波路３０は、クラッド２０に接してクラッド２０上に形成されている。ｎ^＋型ｃ−Ｇｅ層２の膜厚（０．６μｍ）がクラッド２０の厚み（１．４μｍ）よりも薄く、かつ、ｎ^＋型ｃ−Ｇｅ層２の膜厚とｉ型ｃ−Ｇｅ層３の膜厚との合計（２．０μｍ）がクラッド２０の厚みと光導波路３０の厚みとの合計（１．７μｍ）よりも大きい。その結果、光導波路３０中を伝搬する光は、光検出器１０のｉ型ｃ−Ｇｅ層３へ入射され、ｎ^＋型ｃ−Ｇｅ層２およびｐ^＋型ｃ−Ｇｅ層４へ入射されない。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶共振器の共振波長を効率的に調整し、偏光モード分裂が解消されたフォトニック結晶デバイスを提供する。
【解決手段】少なくとも一つの点欠陥が形成された２次元フォトニック結晶から構成されるフォトニック結晶共振器２７の一主面に膜１４を形成する膜形成工程と、フォトニック結晶共振器２７における共振波長を測定する波長測定工程と、波長測定工程で測定した共振波長に基づいて、膜１４を局所的に加工することにより、フォトニック結晶共振器２７における特定の共振器モードの波長を調整する波長調整工程と、から構成されるフォトニック結晶共振器の共振波長を調整する方法により、偏光モード分裂が解消されたフォトニック結晶デバイス３１を得る。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細加工をしなくても容易に作製することが可能な半導体光集積素子を提供すること。
【解決手段】本発明に係る半導体光集積素子は、半導体基板上に下部クラッド層３、下部コア層４、中間クラッド層５、上部コア層６、及び上部クラッド層７がこの順に積層されており、第一領域、第二領域、及び第三領域に亘って、下部クラッド層３、下部コア層４、中間クラッド層５、上部コア層６、及び上部クラッド層７がそれぞれ形成されており、第一領域及び第三領域における中間クラッド層５の厚みＤ１が、第二領域における中間クラッド層５の厚みＤ２と異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高出力の第二高調波発生素子とその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも1つのシングルモード導波路１２ａと、シングルモード導波路１２ａと光学的に結合された、少なくとも1つのマルチモード干渉導波路１２ｂと、を有する周期構造光導波路１２を備える。シングルモード導波路１２ａとマルチモード干渉導波路１２ｂとが、周期Λでｎ（ｎは自然数）周期繰り返す。周期Λは、コヒーレンス長の偶数倍と等しい。 （もっと読む）

【課題】 光インターコネクション実装回路等に用いられる光モジュールにおいて、部品数及び作製工程数を低減し低価格化を実現できると共に、高密度実装された光インターコネクション実装回路を提供することにある。
【解決手段】 一部にテーパ面を有する光導波路を複数備えた基板と、前記テーパ面と対となる光素子アレイとを備え、前記テーパ面と前記光素子アレイとが対向して固定されている光インターコネクション実装回路において、前記光素子アレイを構成する光素子は、千鳥配置されている。 （もっと読む）

光チップ（平面光波回路）からなる光デバイスが開示され、この光デバイスは、光学的に対称か、もしくは一致する設計および特性、ならびに光デバイス内に非対称性を作り出す光学素子を有する。このデバイスは、コヒーレント光通信システムおよび非コヒーレント光通信システムにおける検出に用途を見出す。 （もっと読む）

【目的】光減衰を行うことなく，すべての波長成分の信号光の出力を均一化する。
【構成】ＡＷＧによって分波された信号光（分波光）のそれぞれが，半導体光増幅器アレイ14に入射する。半導体光増幅器アレイ14の後方端面において反射されずに出射する波長成分ごとの参照光の受光光量に応じた電流がフォトダイオードアレイ15から出力され，制御回路２に入力する。制御回路２によって，すべての波長成分ごとの分波光が所定出力に達することになるように，半導体光増幅器アレイ14における分波光（波長成分）ごとの利得が，それぞれ独立に制御される。 （もっと読む）

【課題】スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光装置を提供する。
【解決手段】第１クラッド層１０４と、第１クラッド層１０４の上方に形成された活性層１０６と、活性層１０６の上方に形成された第２クラッド層１０８と、を含み、利得領域１４０は、活性層１０６の第１側面１０５に設けられた第１端面から第２端面までの間に、利得領域１４０に生じる光を反射させる第１反射面および第２反射面を有し、第１側面１０５の垂線に対して傾いた方向に向かって延びている第１部分１４２と、第１側面１０５の垂線に対して傾いた方向に向かって延びている第２部分１４４と、第１反射面の垂線に対して傾いた方向に向かって延びている第３部分１４６と、で構成され、第１反射面の側方および第２反射面の側方の少なくとも一方には、分布ブラッグ反射型ミラー１７０が設けられ、利得領域１４０に生じる光は、第１端面および第２端面から出射される。 （もっと読む）

【課題】散乱損失が低く、製造工程が簡単な垂直方向テーパ構造を持つ光結合器を提供する。
【解決手段】基板上に誘電体層と半導体結晶層を有し、この半導体結晶層の少なくとも一部に光の伝搬方向に沿って基板平面に垂直方向の厚さが徐々に変化する垂直方向テーパ構造を有し、この垂直方向テーパ構造部の上面のラフネスが前記半導体結晶層を構成する原子１層分程度である、光結合器。 （もっと読む）

【課題】製造工程で光導波路に歪みが生じることがなく、寸法安定化が図れる光電気複合部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光電気複合部材の製造方法は、下部支持体上に光導波路を形成する工程、該光導波路上に上部支持体を積層する工程、及び前記下部支持体を剥離する工程を有する光電気複合部材の製造方法であり、前記光導波路から下部支持体を剥離した後、剥離面に電気配線板を積層することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】製造工程が少なく生産性に優れ、光電気複合部材の製造工程中のミラー面の汚染を低減できるミラー付き光導波路の製造方法及びそれにより得られるミラー付き光導波路を提供する。
【解決手段】支持体上に形成されたクラッド層形成用樹脂を硬化して下部クラッド層を形成する工程、該下部クラッド層上にコア層形成用樹脂を積層してコアパターンを有するコア層を形成する工程、該コア層上にクラッド層形成用樹脂を積層して上部クラッド層を形成する工程、該上部クラッド層及びコア層に斜辺を有する切り欠き部を設けて光路変換ミラーを形成する工程、該上部クラッド層上に基板を設ける工程を有するミラー付き光導波路の製造方法、並びに、この方法により製造されてなるミラー付き光導波路。 （もっと読む）

【課題】ポリイミド系樹脂からなるコア層を反応性イオンエッチング法によりエッチングする際に、光導波路コアの下端部にクラックが入らず、光導波路コアの側面部が粗面化しないので、また、低温で焼成されたポリイミド系樹脂からなるコア層であっても、コア層上に形成されたマスク層をパターニングする工程で、コア層にクラックが生じないので、導波損失が非常に小さい光導波路を製造する方法を提供すること。
【解決手段】基板上に各々ポリイミド系樹脂からなる下部クラッド層、光導波路コアおよび上部クラッド層が形成された光導波路を製造するにあたり、パターニングしたマスク層として無機材料からなるドライマスクを用い、かつ、エッチングガスとしてハロゲン系ガスを用いて、ポリイミド系樹脂からなるコア層を反応性イオンエッチング法によりエッチングして光導波路コアを形成する。 （もっと読む）

【課題】応力が加わった場合においても破損等のおそれがなく、溝の側面の形状が高精度で制御された光素子用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光素子用基板の製造方法は、ＬＮ基板１１の表面１１ａにマスク１４を形成し、次いで、サンドブラスト法により、マスク１４を用いてＬＮ基板１１の表面１１ａに、底面１２ａと側面１２ｂとの角部が０．５μｍ以上の曲率半径の凹面１３となった溝を形成し、次いで、フッ硝酸等を用いてマスク１４を除去する。 （もっと読む）

【課題】 プロセス誤差による特性変動の少ない同方向性光結合器型の波長可変フィルタ、および波長可変レーザを提供する。
【解決手段】 第１導電型の半導体層で構成された半導体基板上に、半導体基板の第１辺から対向する第２辺に向って並行して伸びる第１の光導波路と第２の光導波路とを備え、第１光導波路は周期的な凹凸のある平面レイアウトを備えた第１コア層と前記第１コア層を上下に挟み込む一対の電極を備え、第２光導波路は第１コア層よりも低屈折率の第２コア層を備え、第１光導波路を構成する第１コア層の下に第２コア層と同じ組成、同じ膜厚の層を備えさせる。 （もっと読む）

【課題】曲げ導波路における高次モードの励振そのものを防止できるようにする。
【解決手段】光半導体装置を、第１の幅を有する第１光導波路１と、第１光導波路１に接続され、曲げ部２Ａを有すると共に第１の幅よりも狭い第２の幅を有する第２光導波路２と、第２光導波路２に接続され、第２の幅よりも広い第３の幅を有する第３光導波路３とを備えるものとする。 （もっと読む）

【課題】優れた面性状を有する光導波路部分を備えた光モジュールを光導波路部分と光素子との位置決め工程の工数を減らして製造する。
【解決手段】発光素子４を備えた基板２を準備する工程と、光を透過し、基板２上に形成される光導波路部分の形状を有する凹部１２を有し、凹部１２以外の部分が遮光された型１０を準備する工程と、基板２および型１０の間に、クラッド形成用光硬化樹脂層６Ａおよびコア形成用光硬化樹脂層８Ａを形成する工程と、基板２および型１０を、凹部１２にコア形成用光硬化樹脂８Ａが進入するように押し付ける工程と、型１０側から露光し、凹部１２部分におけるコア形成用光硬化樹脂８Ａおよびクラッド形成用光硬化樹脂６Ａを硬化して光導波路部分を形成する工程と、型１０を基板２側から剥離する工程と、未硬化のまま基板２上に残留するコアおよびクラッド形成用光硬化樹脂８Ａ，６Ａを除去する工程と、を有する光モジュールの製造方法。 （もっと読む）