本発明は、誘電体基板からナノファイバーの集合体を放出する方法とともに、この方法の適用に関する。有機ナノファイバーは基板上に成長し、まず極性液体を基板の表面に供給した後にナノファイバーと液体の複合系にエネルギーを供給することによって、放出させることができる。放出の後、好ましくは放出されたナノファイバーは、ナノファイバーの整列および／または構造化を含むナノファイバーの応用のために、他の基板へ移送される。応用としては、発光、導光、および感光の応用例がある。 （もっと読む）

【課題】共振信号の面外への放射を改善する。
【解決手段】
光学構造（１３０２）が、光共振システム（１３１０）の表面（１３０４）上に形成され、放射される共振信号の特性を変更する。光学構造は、共振信号の一部に位相シフトを与えるよう構成されることができる。共振信号が、軸対称の放射パターンを有する単一共振モードから成るので、位相シフトを用いることにより、放射される共振信号の出力特性を、例えば平行にし、分散し、方向を変更し、形づくることができる。光学構造を用いて、光共振システムの品質ファクタを調整することもできる。 （もっと読む）

【課題】光機能性を有するプリント回路板を形成する方法を提供する。
【解決手段】この方法は、（ａ）第１のプリント回路板基体を提供する工程、（ｂ）プリント回路板基体とは別の第２の基体上にクラッドおよびコア構造を含む光導波路構造を形成する工程であって、光導波路構造がケイ素含有物質を含む工程、（ｃ）第２の基体から光導波路構造を分離する工程、および（ｄ）プリント回路板基体に光導波路構造を固定させる工程を含む。本発明は、ハイブリッドプリント回路板の形成のためのエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス産業において格別の利用可能性を有する。 （もっと読む）

【解決手段】テーパ導波路光学モード変換器（２０）は、平面基板構造（１６）上に形成されたテーパコアを含む。コア（２１）に垂直方向のテーパを付けるために、コアの上面にステップ（２２）がエッチングされる。段は、テーパ導波路の光学軸に沿って、所望の光ファイバの光学モード特性を所望の平面導波路の光学モード特性に変換するように選択された深さと長さとを有する。コアは、二次元テーパ導波路を形成するために水平方向にテーパを付けられることができる。テーパ導波路は、光ファイバとＰＬＣ導波路との間で光結合損失を減少させる平面光波回路（ＰＬＣ）に一体的に含まれることができる。 （もっと読む）

【課題】 光路変換部の形成位置等の設計自由度が高く、且つ漏光及び散乱損失の発生が抑制された光導波路デバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本光導波路デバイスの製造方法は、基部３と、基部３上に配置された下部クラッド部２１と、下部クラッド部２１上に積層され且つ光を伝搬するコア部１と、コア部１上に配置された上部クラッド部２２と、基部３上に形成されており且つコア部を伝搬した光の光路を変換する光路変換部４１、４２と、を備える光導波路デバイス１００を製造する方法であり、上記基部３と、基部３上に形成された上記下部クラッド部２１及び上記光路変換部４１、４２と、を備える積層体上に、コア部形成用未硬化フィルムを配設するコア部形成用未硬化フィルム配設工程と、上記コア部１を形成するコア部形成工程と、上記上部クラッド部２２を形成する上部クラッド部形成工程と、を備える。 （もっと読む）

分子中に酸無水基及び／又は酸基がブロック化されてなる酸性基とラジカル重合性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（ａ）と、それ以外のラジカル重合性化合物（ｂ）との共重合体（Ａ）、重合性不飽和化合物（Ｂ）、及び重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする光導波路用硬化性樹脂組成物；この組成物からなる光導波路用硬化性ドライフィルム；及び、これらを用いて、下部クラッド層１３、コア部分１５及び上部クラッド層１７の少なくとも一つが形成されて成る光導波路が開示される。 （もっと読む）

フォトニック結晶を製造する方法は、（ａ）実質的に無機の光反応性組成物を提供する工程と、（ｂ）少なくとも３本のビームを含むマルチビーム干渉技術を用いて、光反応性組成物の少なくとも一部に、適切な波長、空間分布および強度の放射線を露光して、光反応性組成物の反応済みおよび未反応部分の二次元または三次元周期パターンを形成する工程と、（ｃ）光反応性組成物の未反応部分または反応済み部分を除去して間隙ボイドスペースを形成する工程とを含む。 （もっと読む）

本発明は、反射や散乱による伝送の損失がほとんどなく、耐熱性・耐湿性にも優れた、屈折率分布を任意に制御した積層フィルムを提供することを目的とする。すなわち本発明は、樹脂層が少なくとも５以上積層されてなる積層フィルムであって、各樹脂層の厚みが１ｎｍ〜１００ｎｍであり、かつ同一組成Ａの樹脂層の厚みが、積層フィルムの表面側から反対面側に向かうにつれて、増加し又は減少する層構成を含む積層フィルムである。 （もっと読む）