【課題】 従来技術で作製する導波路の傾斜面よりも非常に滑らかな導波路の傾斜面を作ることで、スポットサイズ変換器の部分で大きな導波路損失が生じないようにする。
【解決手段】 下部クラッド層の表面に犠牲層を作製することで、犠牲層に平面視がテーパー角度の小さいＶ字型で側壁が表面に垂直でアスペクト比の大きな溝を形成する工程と、方向性のある堆積法で、等方性のある堆積が起こり得る堆積方法（ＥＣＲ−ＣＶＤ法）により溝にコア層を堆積することにより、溝の底面に自己形成的に形成される、Ｖ字の先端から幅が広がるつれ表面に垂直方向の厚みが増加する３次元的なテーパー形状のコア層を形成する工程と、犠牲層を取り除くことによりコア層をスポットサイズ変換器のコアに形成する工程を含む。これにより、スポットサイズ変換器のコアに鋭角で非常に滑らかな３次元的なテーパー面が作製されるので、光ファイバとの接続損が大幅に減少する。 （もっと読む）

本発明に係る光導波路デバイスの製造方法には、下部クラッド層（１１４）を堆積させる工程と；下部クラッド層上にフォトレジスト層（１１８）を直接コーティングする工程と；フォトレジスト層をパターニングしてチャネル（１１７）を形成する工程と；コア層（１１６）を堆積させる工程と、ここで、コア層の第１の部分はチャネルの内部に堆積され、第２の部分はパターニングされたフォトレジスト層上に重畳される；パターニングされたフォトレジスト層と、パターニングされたフォトレジスト層上に重畳されたコア層の第２の部分と、を除去する工程と；上部クラッド層（１２０）を堆積させる工程と；が含まれる。
（もっと読む）

感光性材料のサンプル内に導波路および格子を同時に画定する方法であって、特定の波長の光に感光する感光領域を有する材料24のサンプルを提供するステップと、特定波長で、高い強度および低い強度の縞の周期的強度パターンおよびチャネルの幅に関連する幅を有する光のスポット22を生成するステップと、感光領域内にスポットを位置付けるステップと、光スポットに感光領域の部分を露光することによって変更された屈折率のチャネルを画定する導波路/格子の所望の経路に沿って、サンプルと光スポットとの間に相対移動を引き起こすステップとを含む。連続する露光が結果として均一な導波路を生じる間に、複数の露光を生成するために光スポットの変調が、格子を作る。これらの構造は、直線または丸い曲線に書き込まれることができ、正確に重ね書きされることができ、複雑な光学デバイスが、単一の製造ステップで製造されることができる。
（もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＰｂＯ、ＳｎＯ_２およびＴｅＯ_２の群からなるガラス構成酸化物のうち少なくともいずれか１つの酸化物をコアに含むガラス光導波路において、コアの断面形状が矩形のときに発生する光の大きな伝搬損失を低減する。
【解決手段】上記ガラス構成酸化物のうち少なくともいずれか１つを合計３５％以上含有し、コアの断面形状が台形であって、かつ台形の平行な２辺のうち長辺が基板側にあることを特徴とするガラス光導波路とする。 （もっと読む）

光学接続装置は、基板に支持され、ミラー及び光通路とともに上部クラッド層、コア重合体層及び下部クラッド層を備える導波路を有する。コア重合体層は、粒子サイズが光学接続装置の最小関心波長の１０分の１より小さいナノ粒子充填材を含む重合体材料を有する。光学接続装置は、個別的、複数あるいは広範囲に平行なチャネルを単一層又は複数層ネットワークの中に備える。 （もっと読む）

光導波路アセンブリ（２０）が、一体型整列機構（２２）を有する。導波路アセンブリは、整列機構を形成する前、導波路を基板（２６）上に作製し、導波路の一部を除去して、基板を露わにし、整列機構を基板に形成することによって、形成する。一体型整列機構（２２）を有する平面導波路アセンブリ（２０）は、基板（２６）をエッチストップ層（２８）でコーティングすることによって製造する。整列機構パターン（３０）を、エッチストップ層（２８）に形成する。整列機構パターン（３０）は、フォトリソグラフィおよびエッチプロセスを用いて作製する。整列機構パターン（３０）をエッチストップ層（２８）に作製した後、導波路（３２）を、基板（２６）、および整列機構パターン（３０）を有するエッチストップ層（２８）の上に成長させる。次に、導波路（３２）を、整列機構パターン（３０）が先に作製された領域でエッチングして、パターン（３０）を露出させる。先に作製された整列機構パターン（３０）を使用して、別のエッチを行って、精密な整列機構（２２）を作る。整列機構（２２）は、Ｖ溝、Ｕ字形溝、台形溝、または矩形溝である。
（もっと読む）

本発明は、（ａ）基板、（ｂ）基板上に重なる第１のポリマー層、（ｃ）第１のポリマー層上に重なる第２のポリマー層、（ｄ）第２のポリマー層上に重なる金属ハードマスク層、及び（ｅ）金属ハードマスク層上に重なる感光性層を備える前駆体物品は、フォトリソグラフィのイメージング、現像、及びプラズマエッチング工程が施され、基板及びフォトリソグラフィのイメージングに使用されるフォトマスクのパターンに対応するパターンに配置されている第１のポリマー層の一部を含む物品を形成する、光導波路等の物品を準備するための微細加工プロセスに関する。 （もっと読む）

ＳＯＩ基板上にポリシリコン・リブのようなシリコン・リブを形成し、シリコン・リブの角を丸くするアモルファス又はポリシリコン・スペーサのようなシリコン・スペーサを形成することにより光学デバイスを作成することができ、ＳＯＩ基板上の一部は露出していることを特徴とする。
（もっと読む）

（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）ＲＥＯ、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
（もっと読む）

【課題】
【解決手段】 本発明はデバイス及びそれを作成する方法に関するものである。前記デバイスは光信号用の経路を支持するのに適した基板を含み、光信号を伝搬するのに適する前記基板上に分離経路が配置され、前記経路は入力及び出力光経路を含み、さらに前記入力及び出力経路に作動的に接触する反射面を含む。前記デバイスを作成する方法は、単一基板に２つの分離光経路（１つは入力経路であり、別のものは出力経路）を提供する工程と、前記経路に動作的に接触する反射面を提供する工程であって、入力光信号が前記光経路を通過し、前記反射面によって前記出力経路へ反射され、前記出力経路を通り抜け、それにより前記デバイスが同一若しくは同様の従来技術デバイスによって要求されるスペースの少なくとも１／５であるスペースで、約１．０ｄＢ若しくはそれ以下の損失のチタン拡散経路を持つニオブ酸リチウム基板上に作成することができる。 （もっと読む）

本発明は、「Ｙ分岐型デジタル光スイッチ」および可変光減衰器として従来技術に公知の１×２熱光学デジタル光スイッチに関する。
（もっと読む）

本発明は第１の基板の表面と第２の基板の表面とを近接または部分的に接触させる工程と、前記第１の基板の表面と前記第２の基板の表面との間に揮発性の液体を供する工程と、前記揮発性の液体を気化させ基板を貼り合わせる工程とからなることを特徴とする基板貼り合わせ方法に係るものである。 （もっと読む）

（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）Ｙ₂Ｏ₃、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
（もっと読む）

第１の光導波路（２４；５２；８０；９４；１２０；１４０）と、第２の光導波路（２６；４２；５４；８２；９６；１２２；１４２）とを含む可変光減衰器（ＶＯＡ）デバイス（２０；４０；５０；９０）が述べられる。前述の第１及び第２の光導波路の少なくとも一方に対して制御可能な配向を有するマイクロ電気機械式システム（ＭＥＭＳ）ベースの部品のような可動反射素子（２８；８４；１０６；１２４；１４４）が与えられる。第１及び第２の導波路は、中空コア光導波路として形成される。
（もっと読む）

光増幅器の入力ステージ及び出力ステージのための光回路が述べられる。入力ステージの回路（４２）は、増幅されるべき信号ビームを搬送する第１の光導波路（４６）と、ポンプ・ビームを搬送する第２の光導波路（６２）と、該第１及び第２の光導波路（４６、６２）に光学的に結合されて、合成された信号／ポンプ・ビームを生成するビーム合成手段（５８）と、該合成された信号／ポンプ・ビームを増幅光ファイバ（６３）に光学的に結合するための手段とを含む。出力ステージの回路（４４）は、第１の出力光導波路（６４）と、増幅光ファイバ（６３）を受け取るように配置された光ファイバ取り付け手段と、出力光ファイバ（７６）を受け取るように配置された光ファイバ取り付け手段とを含み、該増幅光ファイバ（６３）からの光は、該第１の出力光導波路（６４）を介して、出力光ファイバ（７６）に光学的に結合される。第１及び第２の光導波路（４６、６２）並びに第１の出力光導波路（６４）は、基板においてチャネルとして形成された中空コア光導波路である。このような光回路を含むファイバ増幅器、特にエルビウム添加ファイバ増幅器もまた述べられている。
（もっと読む）

光導波路モジュールの製造方法、及び光導波路モジュールにおいて、簡単な構成により導波路の光軸と光ファイバの光軸の容易かつ精度良い接合を実現する。コア用凸部（２１）と案内溝用凸部（２２）を備えた型（２）を、クラッド用樹脂液（４ａ）が塗布されたシリコン基板（３）に重ねて、凹凸形状を転写して、コア溝と光ファイバ案内溝を備えたクラッド基板を形成し、そのコア溝にコア材を充填・硬化して光導波路を形成したクラッド基板を分断して導波路ブロックと光ファイバ固定ブロックを形成する。光ファイバ固定ブロックに光ファイバを固定した後、両ブロックを再接合する。コア用溝と光ファイバ案内溝が一体的に形成され、各ブロックに共通の底面を持たすことができ、各々の底面を基準にできて光軸高さ位置調整が容易となる。また、各ブロックに共通の分断面を後工程における基準面として用いて平面的な位置合わせが容易となる。 （もっと読む）