【課題】 光機能を実現するシリコン基板上に集積化された光デバイスを提供すること。
【解決手段】 導波路を通る光を調整する光調整構造を有する光デバイスは、結晶基板と、これとは異なる材質の結晶体とが一体化されていて、その一方に光導波路が設けられ、他方に光導波路に光学的に一体化した光調整構造が設けられてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学部材を位置合わせするときに光学部材同士の接触による破損を回避でき、且つ光信号の伝播損失を抑制できる光学モジュール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学モジュールは、光導波路基板（第１の光学部材）３２と光学素子ユニット（第２の光学部材）４０とにより構成される。光導波路基板３２には光学素子ユニット４０を挿入する溝３０ａが設けられており、上面の溝３０ａの縁部には柔軟性を有する材料からなる保護部材３４が設けられている。実装装置により光学素子ユニット４０を溝３０ａ内に挿入するときに、光学素子ユニット４０と光導波路基板３０とが接触しても、保護部材３４により衝撃が緩和される。これにより、光導波路基板３０及び光学素子ユニット４０の破損が回避される。また、溝３０ａの壁面と光学素子ユニット４０との間の隙間を狭くできるので、光信号の伝播損失が抑制される。 （もっと読む）

【課題】光導波路素子について、コアの寸法を大きくし、かつ曲率半径を小さくする。さらに、光導波路の形成の際に、基板に形成されている電子回路に与えるダメージを減らす。
【解決手段】基板２０上に形成された金属膜４０と、金属膜上に順次に積層されたクラッド層６０及びコア層７０からなる光導波路５０とを備えて構成される。光導波路はリッジ状に形成され、コア層の屈折率は、クラッド層の屈折率よりも高く、また、光導波路の周囲は、コア層及びクラッド層よりも屈折率が低い材料で満たされている。 （もっと読む）

【課題】ダイシングソーによる外形加工の最終工程における歩留まりを向上させる、高い生産性の導波路製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、紫外線遮蔽層１１、及びクラッド基材層１２が積層された高分子フィルム１０を準備する工程と、紫外線剥離型接着層２２を表面に有するダイシングテープ２０（基材）を準備する工程と、紫外線遮蔽層１１と紫外線剥離型接着層２２とが対面するように、高分子フィルム１０をダイシングテープ２０に固定する工程と、クラッド基材層１２上に、光が伝播する導波路コア１３Ａを形成する工程と、クラッド基材層１２上に光導波路コアが１２形成された高分子フィルム１０に対し、ダイシングテープ２０上に固定した状態で外形加工を施す工程と、ダイシングテープ２０側から紫外線剥離型接着層へ紫外線を照射し、外形加工を施した積層体を基材から剥離する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 （もっと読む）

本発明の様々な実施の形態は、微小共振装置および微小共振装置の製造方法に関する。一実施の形態においては、微小共振装置（２００）は、上面層（２０４）を有する基板（２０６）、および基板内に埋込まれ、基板の上面層に隣接して配置される少なくとも１個の導波路（２１４、２１６）を備える。微小共振装置はまた、上層（２１８）、中間層（２２２）、下層（２２０）、周辺領域、および周囲被膜（２２４）を有する微小共振器（２０２、４０２）を含む。微小共振器の下層（２２０）は基板の上面層（２０４）に接続され、上面層と電気通信を行う。微小共振器が配置されることによって、周辺領域の少なくとも一部は少なくとも１個の導波路（２１４、２１６）上方に配置される。周囲被膜（２２４）は周囲面の少なくとも一部を覆い、微小共振器の上層、中間層、および下層に比べて比較的低い屈折率を有する。
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【課題】 従来の光電子混在基板では個別部品の温度センサを実装してしたため被測定物の温度を精度よく測定することが困難であった。
【解決手段】 基板11上に、光部品および電子部品の搭載部と、光部品が接続される光導波路13と、光導波路13の一部に近接配置された、光導波路13の温度を検出するための金属または半導体から成る温度検出素子12とが形成されている光電子混在基板である。被測定物である光導波路23の温度に近い温度を精度よく測定することができるとともに、部品点数を削減し作業工程を少なくして生産性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】傾斜面におけるコア端面の視認性が向上すると共に、光路変換による良好な光結合が行われる光導波路、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】例えば、少なくとも一方の長手方向端部に傾斜面１３を有し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コア１２と、導波路コア１２の配列方向に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に延在して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとを有する金属層１６と、導波路コア１２及び金属層１６の周囲を取り囲むクラッド１４と、を備えることを特徴とする光導波路、及びその製造方法である。 （もっと読む）

フォトニックガイド装置及びその製造方法、並びに使用を開示する。フォトニックガイド装置は、回路基板（２４０）上で電子回路を相互接続するように構成されている大コア中空導波路（１５０）を備えている。反射コーティング（１０８）が、反射コーティングの表面からの光の反射を可能にする高い反射率を提供するように、中空導波路の内側をカバーしている。コリメータ（２２０）は、中空導波路内に方向付けられるマルチモードのコヒーレント光をコリメートするように構成されている。
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【要約書】
光信号をルーティングするためのシステムおよび方法が開示される。システムは、導波路の内部を覆う反射コーティング（２１３）を有し、実質的に平行なマルチモードコヒーレント光ビーム（２０８）を誘導するように構成された第１の大きなコアの中空導波路（２０５）を含む。内部反射コーティングを有する第２の大きなコアの中空導波路（２０８）が、結合デバイス（２１０）によって第１導波路に結合される。結合デバイスは、結合デバイスを通るコヒーレント光のビームウォークオフが第１の大きなコアの中空導波路の幅の半分より小さくなるように十分に短い距離の光路を介して、少なくとも一部のコヒーレント光ビームの方向を第１の導波路から第２の導波路に変えるように構成される。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３とを有する光導波路９０と、該光導波路９０の両面に設けられた導体層とを有する。コア部９４は、第１のノルボルネン系材料を主材料として構成され、クラッド部９５は、第１のノルボルネン系材料より低い屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成されている。第１のノルボルネン系材料と第２のノルボルネン系材料とは、いずれも、同一のノルボルネン系ポリマーを含有し、かつ、ノルボルネン系ポリマーと異なる屈折率を有するノルボルネン系モノマーの反応物の含有量が異なることにより、それらの屈折率が異なっていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 可視光領域にて動作可能で、かつ、高速に光制御が可能で、かつ動作が容易な光変調素子を得ること。
【解決手段】 フォトニック結晶の欠陥により形成された導波路と、該導波路へキャリアを伝導するキャリア伝導領域と、該キャリア伝導領域にキャリアを注入する電極と、前記導波路へ伝導されるキャリア量を制御するための電流制御手段とを有し、前記フォトニック結晶および前記電極を構成する材料の主組成はTiO₂であって、前記電流制御手段は、前記導波路へ伝導されるキャリア量に応じて前記導波路を形成する媒質の屈折率を変化させることにより前記導波路を導波する光を変調することを特徴とする光変調素子。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩチップ上のような限られたスペースでも、波長多重光伝送を実現可能とする受光素子および光配線ＬＳＩを提供する。
【解決手段】導電性薄膜３の表面に設けられ入射光を表面プラズモンに変換するための同心円型結合周期構造５ａ、５ｂと、同心円型結合周期構造５ａ、５ｂの中心に配置され導電性薄膜３を貫通する開口４ａ、４ｂと、開口４ａ、４ｂにおける同心円型結合周期構造５ａ、５ｂが設けられた面とは反対側の面の開口端に配置された受光部との組合せが同一基板上に複数組設けられ、複数の同心円型結合周期構造５ａ、５ｂは、それぞれ周期が異なり、且つ互いに重ね合わされ、複数の開口４ａ、４ｂは複数の同心円型結合周期構造５ａ、５ｂが重ね合わされた領域内に配置され、複数の受光部は電気的に分離されている。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板上に基板上構造体がブリッジ状に浮いていて、かつ、高い強度を備えた構造を有する、シリコン構造体を提供する。このようなシリコン構造体を製造する上で、エッチングによってシリコン基板の基板上構造体の直下部分が除去される際に、基板上構造体が受ける衝撃が少ない、シリコン構造体製造方法を提供する。
【解決手段】曲線状の基板上構造体の下部のシリコン基板に異方性エッチングを施す。この時、曲線状の基板上構造体の各部位において、結晶方位の各面に対する方向によって、異方性エッチングの進行速度は大きく異なる。エッチング時間を調節してエッチング速度が遅い部分を残し、シリコン基板の上にブリッジ状に浮いた基板上構造体を下から支える支柱とする。また、曲線状の基板上構造体の方向を連続的に変化させて、曲線状の基板上構造体のうち、ブリッジ状に浮く部分を、シリコン基板から徐々に分離させる。 （もっと読む）

【課題】発光素子と光導波路との光結合の効率、及び受光素子と光導波路との光結合の効率を向上することができる光電子回路基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る光電子回路基板は、光を伝播する光伝播部の光入射位置に光の光路を所定の方向に変換する入射側光路変換部が配置される光導波路を内部に有する基板と、光を入射側光路変換部へ出射する発光素子と光伝播部との光結合距離を縮めると共に発光素子を搭載する素子搭載部を有し、基板に設置される光モジュールとを備える。 （もっと読む）

【課題】光化学システム，電気化学システム，光エネルギー変換システム，発光デバイス，集光器，光導波路などの小型・低コスト・高性能・高機能化する。
【解決手段】薄膜ソーラーセル／光合成セルが光導波路，流路と集積化された集積化フォトニック／エレクトロニック／ケミカルシステム（ＩＰＥＣＳ）は，太陽エネルギー変換システム，光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化，それに伴う高効率化・高機能化を実現できた。また，２種類の半導体層をｉｎ−ｐｌａｎｅ配置で接触させてｐｎ接合発光デバイスは，低コスト化，微細化，効率の向上ができた。また，多層光導波路集光器は光エネルギー変換システムのコンパクト・高効率化ができた。また，エアクラッディング型光導波路，省資源化光導波路および多層・スカート型コア構造光導波路は，光閉じ込め効果の増大化，低コスト化，およびミラー部の光リーク・散乱の低下ができた。 （もっと読む）

【課題】シリコンを含有するＤＬＣ膜を備えた新規な光学素子を提供する。
【解決手段】波長２００〜８５０ｎｍの範囲では、シリコン含有量が４ａｔ％〜１７ａｔ％の範囲で増加するのに応じて、ＤＬＣ−Ｓｉ膜の屈折率がＤＬＣ膜の屈折率よりも高くなる。一方、波長８５０〜１８００ｎｍの範囲では、シリコン含有量が４ａｔ％〜１２ａｔ％の範囲で増加するのに応じて、ＤＬＣ−Ｓｉ膜の屈折率がＤＬＣ膜の屈折率よりも低下する。従って、シリコン含有量を調整することにより、ＤＬＣ−Ｓｉ膜の光学特性を任意のレベルに制御することができる。また、このＤＬＣ−Ｓｉ膜を用いて、優れた光学機能を発現する光学素子が得ることができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、また材料コストが低く抑えられる光導波路および光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３と、該コア層９３の両面に接触して設けられ、前記コア部９３より屈折率の低いクラッド層９１、９２とを有する光導波路９０と、光導波路９０の両面に設けられた導体層９０１、９０２とを有し、前記クラッド層９１、９２は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている。また、前記ノルボルネン系ポリマーは、下記化１で表されるものを主とするものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】デバイス特性の向上を図ることができるフォトニック結晶構造の提供が可能となり、精度よく、簡易に、低コストで、複雑な３次元構造、特にナノフォトニック結晶の製造が可能となるフォトニック結晶構造の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの方向に光学特性が周期的に変化するフォトニック結晶構造であって、
前記フォトニック結晶構造の母材が誘電体で構成され、該母材に該母材の構成元素と異なる少なくとも１種類の分子または原子またはイオンを含む領域を備え、
前記領域は、前記分子または原子またはイオンの密度が、前記１つの方向に周期的に変化するように前記母材に配置されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】犠牲層の平坦化が可能であり、また熱接合によるロッドの変形を低減することが可能となる３次元フォトニック結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】周期的な２次元パターン構造の積層体による３次元フォトニック結晶の製造方法であって、
基板上に、第１の材料からなる薄膜を形成する第１の工程と（図１（ａ））、
前記薄膜に周期的な２次元パターン構造を形成する第２の工程と（図１（ｂ））、
前記２次元パターン構造上に、第２の材料からなる薄膜を形成する第３の工程と（図１（ｃ））、
前記第２の材料からなる薄膜を平坦化する際に、下地の前記２次元パターン構造が露出する前に該平坦化を停止する第４の工程と（図１（ｄ））、
前記第１の工程から前記第４の工程を少なくとも２回以上繰り返し、前記２次元パターン構造による積層体を形成する第５の工程と（図１（ｆ）、（ｇ））、を含む構成とする。 （もっと読む）

【課題】光導波路を伝搬する光に電圧を印加してこの光を変調する光変調器において、動作点の制御を効率的に行えるようにする。
【解決手段】光変調器は、三次元光導波路５を伝搬する光に電圧を印加してこの光を変調する。この光変調器は、少なくとも一対の分岐光導波路５ｂ、５ｃと、分岐光導波路の合波点５ｆとを含んでいる三次元光導波路５、合波点５ｆから放射されるオフモードの光を導波するスラブ型光導波路４、三次元光導波路５を伝搬する光を変調する信号電圧を印加するための変調用電極７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、スラブ型光導波路から放射される光を受光する光検知器１３、および光検知器１３からの出力に基づいて直流バイアスを変化させることによって、光変調器の動作点を制御する制御装置１５を備えている。 （もっと読む）