【課題】入射光の入射位置を調整することができ、分波特性のばらつきを抑制することができる、平面導波路素子を提供する。
【解決手段】矩形状の基板と、基板上に積層される第１積層部と、第１積層部上に積層され、第１積層部より高い屈折率を有する第２積層部とを備える。この第２積層部は、複数の細線導波路５、スポットサイズ変換導波路６および反射部７，８を備える。さらに、基板の一方の側面にヒータ１１を、他方の側面にヒートシンク１２を備える。 （もっと読む）

【課題】シリコンコアの酸化が抑制できる低温条件で形成したクラッドに、この後の工程において損傷が発生しないようにする。
【解決手段】シリコンコア１３１の熱酸化が抑制できる範囲の温度条件で酸化シリコン膜１０６を形成した後、酸化シリコンの粘性流動が起こり始める９５０℃以上の高温条件で、酸化シリコン膜１０６（シリコン基板１０１）を加熱し、シリコンコア１３１を覆う上部クラッド層１６１を形成する。この加熱処理により、シリコンコア１３１の段差により生じていた酸化シリコン膜１０６の脆弱な部分の膜質が改善され、この後の工程において損傷が発生しないようになる。 （もっと読む）

【課題】コスト損失を抑制することができる光電気混載モジュールの製造方法およびそれによって得られた光電気混載モジュールを提供する。
【解決手段】一端から他端に延びる光導波路１０を有する中央部分１用の第１の基板と、その光導波路１０の一端部に接続可能な光導波路２０と発光素子２３とを有する発光側端部部分２用の第２の基板と、中央部分１の光導波路１０の他端部に接続可能な光導波路３０と受光素子３３とを有する受光側端部部分３用の第３の基板とを、個別に準備し、その後、上記第２および第３の基板を光伝播状態について検査し、その検査で良品と判断されたものだけを、上記第１の基板に接続し、光電気混載モジュールを製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、接着剤により配線基板に接着された光導波路と配線基板との間の密着性を向上させることのできる光導波路の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】支持体３３上に第１のクラッド層１７、コア部１８、及び第２のクラッド層１９を順次積層して積層体１５を形成し、次いで、積層体１５が形成されていない側の支持体３３の面３３Ｂと研磨部材４１の上面４１Ａとを対向させた状態で、研磨部材４１により積層体１５及び支持体３３の両端を研磨して、積層体１５及び支持体３３の両端に傾斜面２１Ａ，２１Ｂ，４８，４９を形成し、次いで、成膜装置のステージ５３の上面５３Ａと第２のクラッド層１９とが接触するように、ステージ５３に支持体３３に形成された光導波路本体１１を載置し、成膜装置により傾斜面２１Ａ，２１Ｂに金属膜５４を成膜してミラー１２，１３を形成し、その後、光導波路本体１１から支持体３３を除去する。 （もっと読む）

方法と装置が導波路を製造するために提供される。いくつかのそのような方法は、基板及び／または他の要素を成形するためにエンボス加工工程を利用して前記導波路の少なくとも一部を形成することを含む。いくつかの手段は、半導体製造工程を経て導波路を形成することにおいて必須の段階として以前からみなされていたものを取り除くことにより導波路のフィーチャを作成するための工程を提供する。いくつかの手段は、半導体製造工程において欠点として従来みなされていたものを故意に引き起こすことにより導波路のフィーチャを形成する工程を提供する。いくつかのそのような方法及び装置は、従来可能であったものより実質的に低コストで導波路を製造することができる。
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【課題】 偏波乖離量の低減を図った遅延復調デバイスおよび遅延復調デバイスの位相調整方法を提供する。
【解決手段】遅延復調デバイス１は、長さの異なる２つのアーム導波路をそれぞれ有し、DQPSK信号が分岐されて入力される第１，第２のマッハツェンダー干渉計４，５と、各マッハツェンダー干渉計の２つのアーム導波路に配置される１／２波長板４７と、第１のマッハツェンダー干渉計４の２つのアーム導波路８，９上に、１／２波長板４７を挟んで形成された第１のヒータＡ，Ｂおよび第２のヒータＣ，Ｄと、第２のマッハツェンダー干渉計５の２つのアーム導波路１２，１３上に、１／２波長板４７を挟んで形成された第１のヒータＥ，Ｆおよび第２のヒータＧ，Ｈと、を備える。第１のヒータおよび第２のヒータを偏波乖離量調整用ヒータおよび位相トリミング用ヒータとして別々に駆動させる （もっと読む）

プラズモン導波路（８）を備えるフォトニック結晶デバイス（１）を作製する方法は、膜（２）を準備する工程と、所定の格子に従って配置され共振空洞（７）を含むスルーホール（６）の規則正しい平面配置により構成されたフォトニック結晶（５）が得られるように、プログラム方式で、上記膜（２）上に、集束イオンビームを供給する工程と、集束電子ビームにより誘導された化学気相成長法により、上記共振空洞に円錐状のプラズモン導波路（８）を提供する工程と、を備える。析出を誘導する集束電子ビームは、突出構造体のベースから当該突出構造体の先端まで電子ビームの横断面が徐々に減少するように制御され、電子ビームの位置を一定に保つ。
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【課題】簡易な構成で高い屈曲性を有しつつ、光伝播と共に通電機能も果す光電混載の光導波路フィルム及びその製造方法、並びに、当該光導波路フィルムを備えた光送受信モジュールを提供すること。
【解決手段】クラッド１１４と、クラッド１１４に埋設された光導波路コア１１２と、を有する光導波路フィルム本体１１６を備えた光導波路フィルム１０において、光導波路フィルム本体１１６の２つの主面うち一方の主面１１６Ｂに電気配線層１２０が形成させる。そして、電気配線層１２０は、チタン層１２４Ｂを含む保護層１２４で覆わせる。また、保護層１２４は、チタン合金層でであってもよく、チタン層１２４Ｂを覆って設けられる窒化チタン層１２４Ｃを有していてもよい。 （もっと読む）

ＤＣバイアス変動を低減するためのニオブ酸リチウム変調器構造体（３０）が提供されており、前記ニオブ酸リチウム変調器構造体（３０）は、一又は複数のＤＣセクション（３８、４０）とＲＦセクション（４２）を有する光導波管（３４）の上にパターン化された高ドープ半導体層（４４、５４）を含み、金属層又は金属接合（５０）は、半導体層（４４、５４）の一部と接触し、緩衝層（４６）はＲＦセクション（４２）に形成される。また、上述した構造体を有するニオブ酸リチウム電気光学変調器を作製する方法も提供されている。
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【課題】機械的強度を落とさずにディップを抑制可能な構造をもった光変調素子を提案する。
【解決手段】本提案に係る光変調素子は、電気光学効果をもつ結晶基板１０と、結晶基板内に形成された光導波路２０と、結晶基板上に形成され、光導波路２０に対して電界を印加する電極３０と、電極３０が形成された結晶基板の表面１１及びこれに対向する裏面１２の両方から離隔した結晶基板内部における電極下領域に、光導波路２０を避けて埋設された低誘電率の埋設層５０と、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】光導波路へ入射する光の、当該光導波路の端部における反射光を効果的に低減することができる低反射膜および低反射膜を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子１は、細線導波路４の、光入射側の端部および光出射側の端部に、光の反射を防止する低反射コート膜５・６が配されており、低反射コート膜５・６は、細線導波路４に入射する光または細線導波路４から出射する光を順次透過させるように積層されたＳｉＯ_２膜５Ａ・６ＡとＳｉＮ膜５Ｂ・６Ｂとを含み、ＳｉＯ_２膜５Ａ・６ＡおよびＳｉＮ膜５Ｂ・６Ｂの屈折率は、コア層３の屈折率よりも小さく、クラッド層２の屈折率以上であるとともに、互いに異なっている。 （もっと読む）

【課題】垂直光導波路を有する多チャンネル直角光路変換光導波路において、曲げ光導波路を有するような直角光路変換素子を容易に作製する方法が求められていた。
【解決手段】光導波路と反射ミラーで構成され、基板に対し水平な光導波路と垂直な光導波路の交差部に反射ミラーを配した、光信号の方向を直角に変換する多チャンネル光路変換素子において、基板に垂直な直線光導波路と水平な曲線状又は直線状光導波路及び反射ミラーからなり、接合することなく、連続したコアとクラッドで構成され、単一の構造体であることを特徴とする、光導波路型の多チャンネル光路変換素子。 （もっと読む）

【課題】動作点（バイアス点）を所望の位置にすることができる光変調器を提供する。
【解決手段】光変調器１０Ａは、基板１１と、基板１１に形成された光導波路１２と、基板１１上に設置された変調電極１４とを有する。光変調器１０Ａでは、幅寸法Ｗが位相シフト光導波路１２ｂの残余の箇所のそれよりも大きい位相調節部１５が位相シフト光導波路１２ｂの一部に形成され、変調電極の印加電圧と光導波路を伝搬して出力光導波路から出射する出力光との関係を表す特性曲線上の動作点（バイアス点）が所望の位置になるように、位相調節部１５の延伸方向の長さ寸法Ｌが調節されている。 （もっと読む）

【課題】任意の２つの光送受信部が相互に通信可能な光集積回路装置を提供する。
【解決手段】光導波路１〜ｉおよび光送受信部１１〜１ｊ，２１〜２ｊ，・・・，ｉ１〜ｉｊは、半導体基板２０の一主面に配置される。光源３０は、半導体基板２０の端面に配置され、発生した光を光導波路１〜ｉへ導く。各光送受信部１１〜１ｊ，２１〜２ｊ，・・・，ｉ１〜ｉｊにおいて、光共振部材４０は、電圧がシリコン層に印加されると、光導波路１〜ｉ中を伝搬する光の１つの一部の光と光共振し、その一部の光を光伝送部材１０中へ出射する。また、各光送受信部１１〜１ｊ，２１〜２ｊ，・・・，ｉ１〜ｉｊにおいて、光共振部材５０，６０は、電圧がシリコン層に印加されると、光伝送部材１０中を伝搬する光と光共振し、その共振した光を光検出部７０，８０へ出射する。 （もっと読む）

【課題】光の伝播損失を小さくすることができる光電気混載モジュールおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】電気回路基板Ｅの表面側に、発光素子１１と受光素子１２とが実装され、その裏面側に、光導波路Ｗ₁ が接着されている光電気混載モジュールであって、光導波路Ｗ₁ のコア７の両端部は、光反射部７ａに形成され、コア７の両端部近傍部分は、光反射部７ａから発光素子１１，受光素子１２に向かう延設部７ｂ，７ｙに形成されている。その延設部７ｂ，７ｙは、電気回路基板Ｅに形成されている光伝播用の貫通孔４内に位置決めされ、その先端面７ｃ，７ｚは、発光素子１１の発光部１１ａ，受光素子１２の受光部１２ａに対面している。 （もっと読む）

【課題】 耐クラック性に優れ、温度サイクル，湿中放置等の信頼性についてもより優れた、樹脂系材料を用いた光導波路を有する光導波路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、前記シラノール基同士を窒素雰囲気中で１５０℃以上２２０℃以下の範囲で１０分〜４時間脱水重合することによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第１の工程を行なった後に、前記シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによって前記シロキサンポリマ皮膜中に残留した前記シラノール基の脱水重合反応を促進する第２の工程を行なうことにより形成したシロキサンポリマ皮膜から成る光導波路が形成され、その後、該光導波路の表面を酸化物、窒化物または酸窒化物から成る保護層で被覆する。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスにより製造でき、１５４０ｎｍで機能するＥｒドープシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化物導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導波路の製造方法は、最下部層を形成し、その最下部層を覆うＥｒドープシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜を形成し（約１５４０ｎｍで最小光減衰を示す）、そのＥｒドープシリコン酸化膜を覆う最上部層を形成する。Ｅｒドープシリコン酸化膜は、高密度プラズマ化学気相堆積法によるＳＲＳＯ膜の形成およびそのＳＲＳＯ膜のアニーリグによって形成する。Ｅｒ^＋イオン注入後、Ｅｒ^＋ドープシリコン酸化膜を、再度アニーリングする。Ｅｒドープシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜は、１．４６を越え、２．３０以下の第１屈折率（ｎ）を有する。最上部層および最下部層は、第１屈折率未満の第２屈折率を有する。 （もっと読む）

【課題】光導波路デバイスにおいて、複雑で精密な製造工程なしに信号光Poutと同相でモニタリングを行う構成を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の面内に形成された、入力用光導波路と出力用導波路を有する光導波路と、前記基板上に、前記光導波路に対応して形成されている電極と、前記出力用導波路上に該出力用導波路の光軸に対して法線が所定角度を持って形成された反射溝と、前記反射溝により反射される出力光をモニタするモニタ素子を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコン基板を用い、シリコン基板上に形成された光学通路用ビアホール内部に球形のボールレンズを挿入固定し、大量生産が可能で、既存のＰＣＢ基板に比べて良い熱特性を持たせるようにした光配線構造物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】上面に曲率半径を有するように少なくとも一つのレンズ形成用溝が備えられたシリコン基板；および前記レンズ形成用溝の形状が維持されるように前記レンズ形成用溝を含むシリコン基板上に形成されたシリカ層を含むことにより、大部分の工程が半導体工程装置を介して行われ、大量生産が可能で、既存のＰＣＢ基板に比べて良い熱特性を有する効果がある。 （もっと読む）

コヒーレント光を誘導する光導波路システムを作製する方法を開示する。この方法には、ソーイング、レーザーアブレーション、フォトレジストのレーザー直接描画、光構造化およびエッチングの少なくとも１つの処理を用いてホスト層１０２にチャネル１０６を形成することを含める。高反射材料１１０の層を塗布して、チャネル１０６の内部を実質的に被覆する。チャネル１０６上に高反射材料１２６の層を備えるカバー１２０を連結して、大口径コアの中空導波路１５０を形成する。 （もっと読む）