【課題】 ダイレクトパス方式を採用しながらも、洗浄力を向上することが可能な洗浄治具を提供する。
【解決手段】 被洗浄物を内部に収容する開口部３を有し、洗浄液の流れを受けて回転する洗浄治具本体２と、洗浄治具本体２を回転自在に収納する収納治具３０とを備え、洗浄治具本体２が回転することにより開口部３に収容された被洗浄物に洗浄液が多方向から接触して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 ワークに対するブラシの接触状態をチェックする機能を設けることにより、接触状態チェックの確実性を高め、また、必要なときにのみメンテナンスを行なうことで、洗浄能力低下による不良品を出さずに、効率的に洗浄精度を維持することが可能なスクラブ洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ブラシ２０２の接触状態をチェックするためのチェック用ワーク１０５を洗浄対象ワーク１０１に換えてチャック部材２０１により把持し、洗浄液を供給することなく、かつ接触位置を相対移動させることなく、ブラシ２０２をチェック用ワーク１０５の表面に接触させることにより、チェック用ワーク１０５の表面に接触痕を形成する接触痕形成手段と、チェック用ワーク１０５表面の接触痕の面積及び／又は形状を検査する表面検査部１０７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 めっき処理後に被処理基板の表面に未だ付着しているめっき液を、非処理基板全面で均一な洗浄能力で洗浄する方法及び装置を提供する。
【解決手段】 めっき装置の下側には、ウエハ１０３を保持するとともに上下移動させるウエハホルダ１０４が設けられている。このウエハホルダ１０４が上下方向に移動する空間の横に、３つのノズル１Ａ、１Ｂ、１Ｃを上下方向に配置した洗浄装置１が備えられている。中段および最上段のノズル１Ｂ、１Ｃがフラットスプレー式を使用し、最下段のノズル１Ａはスリット式を使用している。また、ウエハ表面に対してノズルごとに洗浄液を供給する場所が異なっている。 （もっと読む）

【目的】基板等を良好且つ効果的に洗浄しうる洗浄材を製造する方法を提供する。
【構成】 洗浄材製造容器５の一端部に形成した過冷却液噴出口６２から、水若しくは水とこれより凝固点の低い有機化合物液との混合液である原料液を過冷却状態に冷却してなる過冷却液１ｃを、洗浄材製造容器５内へと噴出させることにより、洗浄材製造容器５内に過冷却液１ｃの乱流領域５３を形成し、過冷却液噴出口６２から噴出された過冷却液１ｃの一部を、洗浄材製造容器５内に発生させた種氷９３ａと接触させることにより、氷粒子に相変化させると共に、乱流領域５３で乱流攪拌することで氷粒子を成長させ、氷粒子と液体とが混在する固液共存のシャーベット状をなす洗浄材１を得るようにし、かくして得られた洗浄材１を洗浄材製造容器５からその他端部に接続した洗浄材供給路７へと流出させるようにする。 （もっと読む）

本発明は、半導体ウエハや液晶基板などの基板を回転させながら、薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。本発明はまた、半導体ウエハなどの基板を回転させながら保持する基板保持装置に係り、特に、洗浄装置やエッチング装置などに好適に使用される基板保持装置に関する。本発明の基板処理装置は、基板を回転保持する基板保持部を有し、基板を回転させて基板に流体を供給して処理を行い、前記基板保持部には前記流体を吸引する保持部吸引部が配置されている。また、本発明の基板保持装置は、基板の端部に当接して該基板を回転させる複数のローラを備え、複数のローラは基板の半径方向に沿って移動する。

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【課題】より高い精密洗浄能力を有するスピン洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄体を被洗浄物２へ照射するノズル１と、ケーシング３で且つ被洗浄物２周囲の位置に複数枚の遠心翼４を有する回転体とを備えている。ノズル１から噴射され被洗浄物２から振り飛ばされた飛沫やミスト１５を、遠心翼４の回転により該遠心翼の外側へ排出させる排出機能と、排出された飛沫やミスト１５の遠心翼４の内側への回帰を防止する回帰防止機能とを生じさせ、被洗浄物２から除去されたゴミや塗膜の除去の実行性を高めている。これにより、所定のケーシング３内で被洗浄物２を回転しこの被洗浄物２に気体や液体またはそれらの混合物から成る洗浄体を噴射することで、被洗浄物２からゴミや塗膜を除去するスピン洗浄装置において、一度除去されたゴミや塗膜を含む飛沫やミスト１５が再び洗浄面に付着することを防止する。 （もっと読む）

【課題】小型で、しかも安価でありながら、汎用性に優れた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理部ＰＳでは、それぞれが互いに異なる現像処理を施す２つの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂと、現像処理された基板に超臨界乾燥処理を施す超臨界乾燥処理ユニット２０と、これらの処理ユニット１０Ａ、１０Ｂ、２０に取り囲まれるように配置された主搬送ロボット３０とが設けられている。この主搬送ロボット３０は未処理基板Ｗを受け取ると、該基板Ｗに形成されているレジスト膜の膜材料に対応する現像処理ユニットに基板Ｗを搬送する。そして、現像処理が完了すると、いずれの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂで現像処理されたのかを問わず、主搬送ロボット３０は現像処理を受けた基板Ｗを超臨界乾燥処理ユニット２０にウェット搬送する。 （もっと読む）

【課題】 多孔質体の多孔質構造を変化させることなく短時間で洗浄する。
【解決手段】 陽極化成により形成された多孔質体を洗浄する洗浄方法において、陽極化成終了後に、アルコール、酢酸等を含む洗浄液により多孔質体を洗浄する。 （もっと読む）