【課題】被洗浄物の表面に付着した塵埃などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後に汚染物質が被洗浄物の表面に再付着することを防止した湿式洗浄装置及び湿式洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの洗浄を湿式で行うための洗浄槽２と、洗浄槽２の下方側から槽内へと洗浄液Ｌを供給する供給口９ａと、洗浄槽２の上方側から槽外へと洗浄液Ｌを排出する排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、基板Ｗを洗浄槽２内で搬送させる搬送機構１４とを備え、洗浄槽２内の下方から上方へと向かう洗浄液Ｌの流れと共に、基板Ｗの搬送方向Ｘとは逆向きの洗浄液Ｌの流れを発生させるように、供給口９ａと排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃとの何れかによって供給及び／又は排出される洗浄液Ｌの流れを調整する。 （もっと読む）

【課題】不純物を確実に除去して優れた洗浄効果を得るとともに、作業性を向上させることのできる多結晶シリコンの洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２の洗浄室２１〜２５内に、異なる勾配の載置面６１を有する支持台６が複数配設され、バスケット３は、その両側部に、吊り上げ機４２により係止される突出部３５がバスケット３の幅方向外方に突出し、かつ、長さ方向に間隔をあけて相互に平行に一対ずつ設けられてなり、支持台６は、その両側部に、載置面６１にバスケット３を載置する際に、一対の突出部３５の間に配置され、支持台６の載置面６１よりも上方に突出する一対のガイドフレーム７が上下方向に沿って立設されている。 （もっと読む）

【課題】箸供給部から箸をスムーズに搬送手段に投入することができる箸洗浄装置を提供する。
【解決手段】箸供給部３は、箸搬送部１０ｂ，１１，１２に向けて開口し箸搬送部１０ｂ，１１，１２に向けて箸Ｃを１本ずつ供給する供給口と、上方より供給口に向けて複数の箸Ｃがスライド移動可能なスロープ３ａと、スロープ３ａを振動させる揺動手段４と、を備え、スロープ３ａの下方の供給口に向けて殺到し供給口手前で停滞する複数の箸Ｃを、揺動手段４によりスロープ３ａを振動させることで停滞を解消し、供給口から箸搬送部１０ｂ，１１，１２に向けてスムーズに箸Ｃを１本ずつ順次供給する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物を搬送する搬送手段を備えることなく、被洗浄物を洗浄液に浸漬し、洗浄液を振動させて被洗浄物を洗浄することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】コイン１が自重によって降下する洗浄路２が形成された洗浄部３と、洗浄部３の上側に設けられ、洗浄路２に水を供給して、水が洗浄路２を流下する給水管４と、洗浄部３の底板１０に取り付けられ、洗浄路２の振動面１３を振動させる振動子５とを備え、洗浄路２を降下するコイン１が浸漬されるように給水管４から洗浄路２に水が供給され、振動子５が洗浄路２の振動面１３を振動させることでコイン１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部に形成された処理膜を除去する基板処理装置において、基板単位の処理時間を短縮し、処理膜形成のスループットを向上すると共に、歩留まりの低下を抑制する。
【解決手段】基板Ｇを基板搬送路に沿って平流しに搬送する基板搬送手段２１と、前記基板搬送手段により第一の搬送方向に搬送される前記基板Ｇの、搬送方向に沿った両側縁部の処理膜を除去する第一の除去手段５ｂと、前記第一の除去手段により前記両側縁部の処理膜が除去された基板の搬送方向を、前記第一の搬送方向に直交する第二の搬送方向に転換する搬送方向転換手段７と、前記基板搬送手段により第二の搬送方向に搬送される前記基板Ｇの、搬送方向に沿った両側縁部の処理膜を除去する第二の除去手段６ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄したい被洗浄部材内に収まる長さの気泡発生部材を差し込み、気泡発生部材の泡発生部から発生する泡状現象を利用して被洗浄部材の内面を洗浄するようにした被洗浄部材内面の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】密閉された容器２１と、容器に充填された洗浄液２２と、容器の内圧を負圧にする真空ポンプ２３と、容器内を負圧にしたときに気泡を発生する気泡発生部１７ｃを有する気泡発生部材１７を備え、容器内の洗浄液に浸漬され内面７ｃを洗浄すべき被洗浄部材７の内部にその内面７ｃと隙間を有した状態で気泡発生部材１７を挿入し、気泡発生部１７ｃから発生した泡により被洗浄部材の内面を積極的に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】一定の幅を有する無端状ベルトを、複数本同時に均一かつ強力に、すすぎ洗浄する洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】すすぎ液槽内に一定方向に流れるすすぎ液流を形成し、無端状ベルトを、その幅方向がすすぎ液流の流れ方向に沿うようにすすぎ液槽内に配置する。その結果、無端状ベルトと水との間に発生するせん断力により、無端状ベルトが、すすぎ洗浄される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、簡単な構造で長手農作物を洗浄しながら整列させることのできる長手農作物の洗浄装置を提供することである。
【解決手段】 長手農作物の洗浄装置は、液体収容部と、第１搬送手段と、第２搬送手段とを含み、第１搬送手段に備えられる複数のローラは、液体収容部に収容された液体の液面に沿って、軸線が互いに平行で、かつ長手農作物の外径よりも大きな予め定める間隔をあけて設けられ、各ローラの少なくとも一部を液体に浸漬させた状態で長手農作物の搬送方向に移動する。 （もっと読む）

ショッピングカート洗浄装置に関するもので、より詳細には、カートの投入から洗浄、乾燥、及び積載までの過程を自動で行うことができるショッピングカート洗浄装置に関する。このショッピングカート洗浄装置は、カートを前方に向けて連続して移動させるカート搬送手段と、カート表面に高圧の洗浄水を噴射して洗浄する高圧洗浄水噴射手段と、カートの取っ手の上部表面及び下部表面をブラッシングして洗浄する取っ手洗浄手段と、カートの積載箱の両側面をブラッシングして洗浄するカート外部洗浄手段と、カートの積載箱の内部に挿入されて上下振動により積載箱内部の汚染物を除去するカート内部洗浄手段と、高圧の洗浄水を再び噴射し、洗浄されたカート表面に残存する汚染物を除去するすすぎ手段と、洗浄済みのカートの表面に残存する水気を熱風吐出により除去する乾燥手段と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 多数の容器を使用する工場において、容器乾燥装置の前工程として必ずあった容器洗浄装置の設置場所の確保が必要であった。
【解決手段】 扉部１３を有する外装部１２を有し、外装部１２の内部に積層された容器Ｃを載置するターンテーブル１と、ターンテーブル１の上部にターンテーブル１の回転中心から同距離で対向する位置に２本づつ立設させるコラム２と、クランプ部４を開閉するクランプ開閉用シリンダー６と、ターンテーブル１から間隔を有した外周に外周方向において略等間隔に垂直方向に複数の洗浄管２０を立設し、各々の洗浄管２０は上下方向に複数ほぼ等間隔に洗浄ノズル２１を内側に向かって設けた容器洗浄遠心乾燥機Ａを有する容器洗浄遠心乾燥装置による。 （もっと読む）

【課題】 コンベアで搬送しながらタンク部材の内面を確実に洗浄・乾燥させることができるタンク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 コンベア４でタンク部材１を搬送中に、タンク部材１の内面１ｃに洗浄ノズル８により洗浄液８ａを下方から噴出させた後に、乾燥ノズル９によりエア９ａを下方から噴出させ、タンク部材１の内面１ｃの洗浄・乾燥を行うタンク洗浄装置であって、コンベアベルト４に載置されて搬送されるタンク部材１の一端部であるフランジ１ｂが洗浄ノズル８及び乾燥ノズル９と干渉しないようフランジ１ｂを持ち上げて摺動させるガイドバー５を設け、このガイドバー５の摩擦抵抗をコンベアベルト４の摩擦抵抗より小さくした。ガイドバー５は、タンク部材１の内側の中心部近傍に設置した洗浄ノズル８及び乾燥ノズル９の左右に設けた。 （もっと読む）

【課題】超音波による二槽層洗浄方式において、超音波の洗浄効果を内槽内の位置によるバラツキなく被洗浄物である磁気ディスク用ガラス基板にもたらす超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置１００は、洗浄液１４０を貯留するための内槽１１０と、超音波媒体液１５０を貯留して超音波媒体液１５０中に内槽１１０を保持するための外槽１２０と、外槽１２０の底面に取り付けられ、超音波を放射し、内槽１１０内の洗浄液１４０中に設置される磁気ディスク用ガラス基板１７０を超音波洗浄する超音波発振板１３０と、内槽１１０の底面１９０に滞留する気泡２００を底面１９０の外側に移動させるよう、超音波媒体液１５０中に液体を放出する液体放出手段２５０とを含む。これにより、内槽底面１９０に滞留する気泡２００が除去される。 （もっと読む）

【課題】異なる性状の汚れに対して超音波洗浄効果を最大化する。
【解決手段】洗浄槽１内の水を振動させて被洗浄物を洗浄する超音波振動子２と、洗浄水から溶存気体を除去する脱気手段３と、前記超音波振動子２と前記脱気手段３を制御する制御手段７とを設け、前記制御手段７により洗浄水の溶存気体飽和度を連続的または段階的に変化させながら超音波洗浄を行うようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】精密部品を保持するための精密部品保持装置及びその精密部品保持装置を組み入れた精密部品組立装置に関し、洗浄効率のよい精密部品の保持が可能となり、高精度の精密組立部品を得ることができる。
【解決手段】精密部品Ｐを搭載する３方向から突出した第１の支持部１１と、第１の支持部１１上に搭載された精密部品Ｐを保持する第２の支持部１２と、第２の支持部１２と対峙し精密部品Ｐを挟持する可動支持部１３とを有し、第１の支持部１１、第２の支持部１２及び可動支持部１３により保持された精密部品Ｐの周囲に媒体流路１６を設けた。 （もっと読む）

【課題】洗浄液が溢れ出ることを防止することができ、且つ微量検体の分析が可能な反応容器も適用対象とする洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、洗浄液供給ノズル３４と第１洗浄液吸引ノズル４６と第２洗浄液吸引ノズル４８とを備えている。洗浄装置には、反応容器６の内部に先端を挿入した第１洗浄液吸引ノズル４６と第２洗浄液吸引ノズル４８との間を反応容器の外部で電気的に接続し、洗浄液３６の液面高さが、検体及び試薬が入っていた高さを超えた場合にノズル４６，４８間が洗浄液で電気的に接続されることを監視する導通状態監視手段５６を設けてある。 （もっと読む）

【課題】基板に設けられた無機配向膜のイオン性不純物を確実、かつ簡便に除去できる、基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】無機配向膜１６が設けられた基板１０の洗浄方法である。洗浄槽２内の洗浄液中に設けられた一対の電極４ａ，４ｂ間に、基板１０を配置するとともに電極４ａ，４ｂ間に電圧を印加し、電極４ａ，４ｂ間に電界を生じさせることで無機配向膜１６中のイオン性不純物１７を除去する。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット（２）から送り出されたハードディスク（１）を第１ウォーターベアリング（６）で搬送する。第１検出間隙（８）を設けて第２ウォーターベアリング（７）を連接し、ハードディスク（１）をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク（１）はテーパー付のドライブローラ（１０）の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第３ウォーターベアリング（２４）及び第２検出間隙（２７）をあけて設けた第４ウォーターベアリング（２６）でアンローダーカセット（３１）に収納される。上記第１検出間隙（８）及び第２検出間隙（２７）には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー（９）、（２９）がある。 （もっと読む）

【課題】 基板を処理するときの水平面に対する基板の角度を容易に変更することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理槽３３には、処理空間３８が形成される。この処理空間３８には、基板保持部３４と、第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂと、第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂとが設けられる。基板保持部３４は、処理空間３８内で、基板３２を保持する。第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂは、基板３２に洗浄液を噴射する。第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂは、基板３２に乾燥用気体を噴射する。姿勢変化手段３７は、処理槽３３の姿勢を変化させる。処理槽３３の姿勢が変化すると、処理槽３３の処理空間３８に設けられる基板保持部３４および各ノズル４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂの姿勢も変化する。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】イオン注入処理の後の基板からレジストを剥離するために、その基板は、まず、蒸気処理部１に搬入される。蒸気処理部１では、基板の表面にＩＰＡベーパが供給されて、基板の表面上のレジストの表面に形成されている硬化層が溶かされる。その後、基板は、蒸気処理部１からレジスト剥離処理部２へ搬送される。レジスト剥離処理部２では、基板の表面にレジスト剥離液が供給される。レジスト表面の硬化層は、蒸気処理部１における処理により溶かされているので、基板の表面にレジスト剥離液が供給されると、その基板の表面からレジストが良好に除去される。 （もっと読む）