【課題】表面にディンプル状の凹部や溝を有するローラーに付着した異物等をコンパクトで安易な装置で良好に洗浄できるローラー洗浄装置を提供することことを目的とする。
【解決手段】
ローラー表面にディンプル状の凹部や溝を有するローラーを洗浄するローラー洗浄装置であって、前記ローラーの下面にローラーと微小隙間を有し、ローラーの下面の一部を覆う洗浄槽と、前記洗浄槽の内方に、洗浄液または圧縮空気のいずれかを噴出する少なくとも１個以上のスプレーノズルと、前記洗浄液を貯蔵する洗浄タンクと、前記洗浄タンクから洗浄槽へ洗浄液を送る搬送手段と、前記洗浄槽から洗浄済みの洗浄液を回収するドレン機構と、
を具備していることを特徴とするローラー洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】基板上の不要物を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】バキュームチャック１１の上方には、ほぼ円錐形状の遮断板１２が配置されている。遮断板１２の下面１２１には、それぞれエッチング液、純水および窒素ガスを吐出する開口１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが形成されている。エッチング液、純水および窒素ガスは、ウエハＷの回転半径外方に向かうにつれてウエハＷに近づくように傾斜した方向に吐出されて、それぞれウエハＷの表面のエッチング液供給位置Ｐｅ、純水供給位置Ｐｄおよび窒素ガス供給位置Ｐｎに供給される。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハをスポンジブラシによって所定の洗浄度合に洗浄できるようにしたブラシ洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】回転テーブル１１に保持された半導体ウエハ２２を回転駆動されるスポンジブラシ３８によって洗浄するブラシ洗浄装置において、上記回転テーブルを回転駆動するモータ１６と、上記洗浄ブラシを回転駆動するモータ３４と、上記スポンジブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動機構３２と、上記スポンジブラシを半導体ウエハの径方向中心部から外方へ揺動させたときに上記スポンジブラシの上記半導体ウエハに接触する端面と上記半導体ウエハの上記端面が接触する部分との相対速度が所定値以上になるよう上記角モータを制御する制御装置６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に対して、高温の処理液を用いた処理を良好に施すことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】内側成部材２０の案内部２４の外側壁面３７におけるＳＰＭ液の着液位置には、その外側壁面３７に着液するＳＰＭ液を冷却するための第１冷却管３８が配設されている。第１冷却管３８は、回転軸線Ｃを中心軸線とする螺旋形状に形成されている。外構成部材３０の内側壁面４７におけるＳＰＭ液の着液位置には、その内側壁面４７に着液するＳＰＭ液を冷却するための第２冷却管４８が配設されている。第２冷却管４８は、回転軸線Ｃを中心軸線とする螺旋形状に形成されている。
【効果】内構成部材２０および外構成部材３０の変形をそれぞれ防止することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液を用いた処理を、安定的に基板に施すことができる基板処理装置を提供すること、および、このような基板処理装置に適用可能な処理液成分補充方法を提供すること。
【解決手段】薬液キャビネット制御部７２は、処理ユニット４〜７の薬液バルブ３３の開時間を取得し、その薬液バルブ３３に関する累積開時間を算出するとともに、４つの処理ユニット４〜７の４つの薬液バルブ３３の累積開時間の合計を算出する。薬液バルブ３３の累積開時間の合計が予め定める時間に到達すると、成分補充ユニット３は予め定める量の第１成分、第２成分および第３成分を、それぞれ、薬液タンク４０に補充する。
【効果】薬液タンクに溜められている薬液の濃度をほぼ一定に保つことができる。 （もっと読む）

【課題】複数種類の液体を用いる基板処理方法において、液体を用いた処理の後に基板上に残留している当該液体を、次に使用される液体によって迅速かつより確実に置換することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、処理液によって基板Ｗを処理する工程と、基板上に置換液を供給し、基板上に残留する処理液を置換液で置換する工程と、を備える。置換する工程に用いられる置換液は、処理液の表面張力よりも小さい表面張力を有し、かつ、処理液の密度と同一の密度を有する。 （もっと読む）

【課題】処理チャンバ内を洗浄するための洗浄液による基板汚染を防止することができる基板処理装置および処理チャンバ内洗浄方法を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ２内においては、閉状態におけるシャッタ１８上部の側方（水平でかつ側壁１に沿う方向）の一方側（図で示す右側）には、洗浄液を吐出するための第１洗浄液吐出ノズル３２と、洗浄液を吐出するための第２洗浄液吐出ノズル３３と、Ｎ₂ガスを吐出するためのＮ₂ガス吐出ノズル３４とが設けられている。シャッタ１８の上部に付着したＳＰＭが、洗浄液によって洗い流される。また、洗浄に用いられた洗浄液がＮ₂ガスによって除去される。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式で基板の洗浄を行う場合に、基板表面からパーティクルや金属汚染物質を効果的に短時間で除去でき、基板表面のエッチング量が多くなることもない方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル８０により、塩酸を含むフッ酸からなるエッチング液と気体とを混合して生成される液滴を、表面に自然酸化膜が形成された基板Ｗの表面へ噴射し、基板表面をエッチングして洗浄する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ワークＷを洗浄する洗浄装置１であって、ワークＷを洗浄する洗浄液Ｆが充填される洗浄槽２と、ワークＷを支持して洗浄槽２内の洗浄液Ｆの内部と外部とに移動させるワーク支持部４と、ワーク支持部４の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部６とを備え、遮蔽部６は流入口６Ｂと排気口とを有し、遮蔽部６の内部に、流入口６Ｂから洗浄槽２の上方を通過して排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 多数の容器を使用する工場において、容器乾燥装置の前工程として必ずあった容器洗浄装置の設置場所の確保が必要であった。
【解決手段】 扉部１３を有する外装部１２を有し、外装部１２の内部に積層された容器Ｃを載置するターンテーブル１と、ターンテーブル１の上部にターンテーブル１の回転中心から同距離で対向する位置に２本づつ立設させるコラム２と、クランプ部４を開閉するクランプ開閉用シリンダー６と、ターンテーブル１から間隔を有した外周に外周方向において略等間隔に垂直方向に複数の洗浄管２０を立設し、各々の洗浄管２０は上下方向に複数ほぼ等間隔に洗浄ノズル２１を内側に向かって設けた容器洗浄遠心乾燥機Ａを有する容器洗浄遠心乾燥装置による。 （もっと読む）

【課題】多種類のパレットを回転枠に保持できる自動洗浄脱水装置を提供する。
【解決手段】回転枠３１と、パレットＰを載置して回転枠１に対し昇降させる昇降テーブル２１と、噴射ノズル４１とを備えてなる自動洗浄脱水装置において、回転枠３１には、パレットＰの長手方向前後両端面に当接する前後一対のチャック片２ａ，２ａと、パレットＰの幅方向左右両端面に当接する左右一対のチャック片３ａ，３ａとを有するチャック装置１を設け、前後両チャック片２ａ，２ａは、回転枠３１に設けた前後一対のシリンダ４，４によって、前後両チャック片２ａ，２ａを回転枠３１の中心部からパレットＰの前後に同じ距離往復移動させるようにし、左右両チャック片３ａ，３ａは、回転枠３１に設けた左右一対のシリンダ５，５によって、左右両チャック片３ａ，３ａを回転枠３１の中心部からパレットＰの左右に同じ距離往復移動させるようにした。 （もっと読む）

【課題】加圧せずに基板を均一に洗浄できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ２０１を表面が上下方向と直交する状態で支持する基板支持部及び支持された半導体ウェハ２０１をノズルユニット１１に対して前方に相対移動させる相対移動機構を有する搬送用ローラ２０２と、相対移動される半導体ウェハ２０１の表面に上方から薬液を吐出するノズルユニット１１とを有する。ノズルユニット１１は、薬液を吐出するスリット１０１が左右方向に細長い線形で下面に形成されており、スリット１０１に同等な左右幅で上方から連通して薬液が流動する流路１０２が内部に形成されており、流路１０２が左右方向と直交する面内で少なくとも一回は曲折された形状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】精度良く濃度調整された希釈薬液を用いて基板を処理することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１混合部１４は、ふっ酸タンク３０から供給されるふっ酸原液（濃度がたとえば４９ｗｔ％）と、ＤＩＷ供給源から供給されるＤＩＷとを混合して、希ふっ酸（濃度がたとえば２．３ｗｔ％）を生成する。第２混合部１５は、第１混合部１４で生成された希ふっ酸と、ＤＩＷ供給源から供給されるＤＩＷとを混合して希ふっ酸（たとえば０．１１ｗｔ％）を生成する。第３混合部１６は、第２混合部１５で生成された希ふっ酸と、ＤＩＷ供給源から供給されるＤＩＷとを混合して希ふっ酸（たとえば０．００５ｗｔ％）を生成する。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ＳＰＭノズル５からウエハＷの表面にＳＰＭが供給される。また、ＳＰＭの供給終了後は、超音波振動が付与された約２００℃の硫酸が超音波硫酸ノズル６からウエハＷの表面に供給される。ウエハＷの表面にＳＰＭが供給されると、硬化層に形成された多数の微細孔を通って、ＳＰＭが硬化層の内部に浸透する。硬化層の内側の生レジスト（未硬化のレジスト）が除去され、ウエハＷの表面には、空洞化した硬化層だけが残存する。超音波振動が付与された硫酸がウエハＷの表面に供給されると、超音波振動の物理的なエネルギーによって、ウエハＷの表面上に残存するレジストの硬化層は、粉砕されて、ウエハＷの表面から除去される。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】銅、ニッケルなどの電解精製における洗浄工程において、カソードの吊手と金属板との接合部の内側に形成されるポケット状部位に残存する電解液を効率的に除去する。
【解決手段】 電解精製した金属板（１）の搬送過程で、洗浄位置に配置した多数の洗浄ノズル（３、９）から金属板（１）に向けて洗浄液を噴霧することにより、金属板（１）の洗浄を行う洗浄装置において、吊手（５）に対応する該洗浄ノズル（９）を該吊手（５）の内側に向けて該吊手（５）の通過する空間に近接して配置するとともに、該洗浄ノズル（９）を主配管（７）に対して可動式として取り付け、可動式の洗浄ノズル（９）から噴霧される洗浄液を該吊手（５）の側方から該吊手（５）の内側へ直接到達させ、かつ該洗浄ノズル（９）と移動中のビーム（１３）との接触によって該洗浄ノズル（９）の該吊手（５）に対する相対位置を変え、該洗浄ノズル（９）を自動的に退避位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】基板の周囲の雰囲気が当該基板の周縁部に巻き込まれることを抑制することができる基板処理装置、基板乾燥方法および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷの表面に薬液処理が行われた後、遮断板４の対向面１４がスピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に近接された状態で、ＤＩＷによるリンス処理がウエハＷの表面に行われる（図４（ｂ）参照）。このとき、ウエハＷの表面の周縁部には、対向面１４からウエハＷ側に突出するように遮断板４の周縁部に取り付けられたスポンジ部材２６の先端縁が対向しており、ウエハＷと遮断板４との間の空間にその周囲の雰囲気が巻き込まれることが抑制されている。リンス処理が行われた後は、前記空間が窒素ガス雰囲気に維持されたまま、所定の高回転速度でウエハＷが回転されて当該ウエハＷが乾燥する（図４（ｃ）参照）。 （もっと読む）

【課題】基板上における液体の微粒子の密度を増大し、微粒子の基板への到達速度を調整可能とし、かつ、ノズルの内周面に微粒子が付着することを抑制する。
【解決手段】液滴を噴射する液滴生成ノズル部４１の先端には筒状の補助ノズル部４２が取り付けられる。補助ノズル部４２では、加速ガス導入口４２６ａを介して加速ガスが導入されるとともに、下側端部４２３にて液滴の噴射範囲が制限されることにより、基板上における液滴の密度を増大しつつ、液滴の基板への到達速度が調整可能となる。また、加速ガスが、中心軸Ｊ１に垂直な方向から下側端部４２３に向かって傾斜するとともに中心軸Ｊ１から逸れた方向に沿って内周面４２４の内部へと導入されることにより、加速ガスが内周面４２４に沿って旋回し、内周面４２４に液滴が付着することが抑制される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスク端面のレジストを薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】従来の磁気記録媒体用基板の洗浄装置より浸漬槽内での発塵が少なく、塵埃が洗浄基板に再付着することがなく、磁気記録媒体用基板に付着した塵埃を効率よく除去できる、高度の洗浄性能の得られる磁気記録媒体用基板の洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】スクリューコンベア５０を同期回転させる回転機構部８０が浸漬槽１０の外側に設けられるとともに、スクリューコンベア５０の主軸５４ａ，５４ｂが浸漬槽１０の前壁２３および後壁２４に対して非接触で貫通され、その貫通位置には排出口６２が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）