洗浄装置
【課題】洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ワークＷを洗浄する洗浄装置１であって、ワークＷを洗浄する洗浄液Ｆが充填される洗浄槽２と、ワークＷを支持して洗浄槽２内の洗浄液Ｆの内部と外部とに移動させるワーク支持部４と、ワーク支持部４の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部６とを備え、遮蔽部６は流入口６Ｂと排気口とを有し、遮蔽部６の内部に、流入口６Ｂから洗浄槽２の上方を通過して排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする。
【解決手段】本発明は、ワークＷを洗浄する洗浄装置１であって、ワークＷを洗浄する洗浄液Ｆが充填される洗浄槽２と、ワークＷを支持して洗浄槽２内の洗浄液Ｆの内部と外部とに移動させるワーク支持部４と、ワーク支持部４の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部６とを備え、遮蔽部６は流入口６Ｂと排気口とを有し、遮蔽部６の内部に、流入口６Ｂから洗浄槽２の上方を通過して排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子等のワークを洗浄する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高い清浄度が要求される光学素子等のワークを洗浄する場合、所定の清浄度が保たれたクリーンベンチ等の清浄環境下において、特許文献１に示すような洗浄装置を用いて洗浄が行われている。この洗浄装置においては、溶剤等の洗浄液を満たした洗浄槽に、搬送装置を介してワークを浸漬させて洗浄が行われる。
【特許文献１】特開２００４−３５８３３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、クリーンベンチのような環境下であっても、作業者の出入り等によって、絶えず微量のゴミ等の微小粒子が持ち込まれている。これらの粒子は作業者の作業等に伴って雰囲気中に飛散、浮遊する。洗浄後のワークの乾燥作業中にこれらの微小粒子がワークの表面に付着すると、乾燥時に表面にこびりつき、不良品の発生原因となることがある。この場合は微小粒子の除去作業が必要になるが、これら粒子はワークの表面に比較的強固に付着しているため、容易には除去できないという問題がある。
【０００４】
本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、ワークを洗浄する洗浄装置であって、前記ワークを洗浄する洗浄液が充填される洗浄槽と、前記ワークを支持して前記洗浄槽内の前記洗浄液の内部と外部とに移動させるワーク支持部と、前記ワーク支持部の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部とを備え、前記遮蔽部は流入口と排気口とを有し、前記遮蔽部の内部に、前記流入口から前記洗浄槽の上方を通過して前記排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする。
【０００６】
本発明の洗浄装置によれば、遮蔽部の内部に、流入口から洗浄槽の上方を通過して前記排気口に向かう空気の流れが形成されるので、微小粒子等が排気口から遮蔽部の外に排出される。
【０００７】
本発明の洗浄装置は、前記ワークの洗浄における付帯作業を行うための作業面を有する作業台をさらに備え、前記洗浄槽は、前記作業面よりも下方の位置で前記作業台と一体に配置されてもよい。この場合、洗浄後のワークに対して、作業台上ですぐに検査等の付帯作業を行うことができる。
【０００８】
本発明の洗浄装置は、前記遮蔽部の周囲及び上方を密閉する隔壁と、前記隔壁の、前記流入口と対向する面に設けられ、前記隔壁内に流入する空気を清浄にするクリーンユニットとをさらに備えてもよい。この場合、遮蔽部の周囲がクリーンベンチとなり、さらに微小粒子等のワークへの付着が抑制される。
【０００９】
前記排気口は、前記遮蔽部の前記作業台側の面に設けられており、前記作業面には、前記作業台の下方に空気を通過させる通気孔が設けられてもよい。この場合、遮蔽部内の空気の流れを略直線状に形成することができる。
【００１０】
前記排気口には、前記空気の流れを作り出すファンが配置されてもよい。この場合、より確実に空気の流れを形成することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の洗浄装置によれば、洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の第１実施形態の洗浄装置について、図１から図３を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置１は、ガラス等からなる光学素子をワークとして洗浄するための装置である。
図１に示すように、洗浄装置１は、ワークＷを洗浄する洗浄槽２と、洗浄槽２が一体に配置された作業台３と、作業台３上に設けられたワーク支持部４と、ワークＷを乾燥するヒータ５と、ワーク支持部４の周囲を遮蔽する遮蔽部６とを有して構成されている。
なお、図１においては、図を見やすくするため、作業台３、遮蔽部６等を二点鎖線で示している。
【００１３】
洗浄槽２は、有底の容器であり、溶剤等の洗浄液Ｆが図示しない洗浄液供給機構から供給されて充填される。また、洗浄槽２の底部には、図示しない配水管が接続されている。洗浄槽２の上部の開口は、作業台３に一体に取付けられている。
【００１４】
作業台３は、四隅に脚部７を有するテーブル状に形成されており、脚部７の上に設けられた天板の上面が、ワークＷの洗浄における付帯作業を行うための作業面３Ａとなっている。脚部７の長さは、ユーザが立って作業をするか座って作業をするか等の条件に応じて、適宜決定されてよい。作業面３Ａのうち、下方に洗浄槽２が一体に取付けられた部位には取付け穴３Ｂが開けられており、後述するように、作業面３Ａの上方からワークＷを洗浄槽２に出し入れできるようになっている。
【００１５】
ワークＷを支持するワーク支持部４は、作業面３Ａ上の取付け穴３Ｂの周囲の任意の位置に設けられている。ワーク支持部４は、作業面３Ａ上に略垂直に立設されて突出する略角柱状のレール部８と、レール部８に上下動可能に取付けられたアーム部９とから構成されている。
【００１６】
ワークＷは、アーム部９に挟持されて支持固定され、図示しないモータ等の公知の移動機構によって、レール部８に沿って上下に移動することによって、ワークＷを洗浄槽２の内部と外部とに移動できるようになっている。また、アーム部９は、移動機構によって、上下動の方向を軸線として回転自在に構成されており、洗浄槽２の内部でワークＷを回転させながら洗浄できるようになっている。
【００１７】
レール部８の作業面３Ａ付近には、ワークＷを乾燥させるヒータ５が設けられ、取付け穴３Ｂの周囲の任意の位置には、後述するリンス液を供給するリンス液供給部１０が配置されている。ヒータ５及びリンス液供給部１０は、それぞれ先端が取付け穴３Ｂの上方に位置するように配置されている。
【００１８】
遮蔽部６は、樹脂等からなり、ワーク支持部４及び作業面３Ａ上の取付け穴３Ｂの周囲を取り囲むように略垂直に設けられた４枚の側面を有して構成されている。手前側の側面６Ａは図示しないヒンジ等によって開閉自在となっており、ワーク支持部４のアーム部９に対してワークＷの付け替えができるようになっている。ワーク支持部４及び洗浄槽２を含む空間は、遮蔽部６によって外部の雰囲気から隔絶されているが、遮蔽部６の上部は開口しており、流入口６Ｂが形成されている。
【００１９】
図２は、遮蔽部６を、見やすいようにワーク支持部４等を除いて示す図である。側面６Ａの下部には、切り欠きによって排気口６Ｃが設けられている。排気口６Ｃの両側の上部には、一対で側面６Ａに取付けられたネジ１３等の固定手段がある。略長円形の調整溝１１が設けられた調整板１２は、ネジ１３に沿って上下に移動することができるように、調整溝１１とネジ１３とが係合している。ネジ１３と係合する調整溝１１の高さを変えることで調整板１２の高さを変えて、排気口６Ｃの開口面積を洗浄対象となるワークの大きさ等に応じて調整することができる。
【００２０】
再び図１に示すように、作業台３上において、遮蔽部６の周囲は、さらにガラス等の透明板材からなる隔壁１４によって側面及び上面が密閉されている。隔壁１４の上面１４Ａ、すなわち遮蔽部６の流入口６Ｂに対向する面には、クリーンユニット１５が設置されている。従って、隔壁１４の内部は、クリーンユニット１５を通過した清浄な空気が供給される、いわゆるクリーンベンチとなっている。手前側の隔壁１４Ｂは、図示しないヒンジ等によって開閉自在となっており、内部の遮蔽部６及びワーク支持部４等を操作できるように構成されている。
【００２１】
クリーンユニット１５は、遮蔽部６の上部の流入口６Ｂのほぼ真上に位置しているため、クリーンユニットを通過した清浄な空気は、図２に矢印で示すように、流入口６Ｂから遮蔽部６の内部に進入し、遮蔽部６の下部に設けられた排気口６Ｃから遮蔽部６の外部に排気される。従って、遮蔽部６の内部には、流入口６Ｂから洗浄槽２の上方を通過して排気口６Ｃに向かう空気の流れが常に存在する状態に維持されている。
【００２２】
上記のように構成された洗浄装置の使用時の動作について、以下に説明する。
図３は、洗浄装置１を用いたワークの洗浄手順を示すフローチャートである。まず、ステップＳ１において、ユーザは手前側の隔壁１４Ｂ及び遮蔽部６の手前側の側面６Ａを開き、ワーク支持部４のアーム部９にワークＷを取付けて遮蔽部６及び隔壁１４を閉じる。その後、クリーンユニット１５をオンにし、隔壁部１４内に清浄な空気の流れを発生させる。
【００２３】
ステップＳ２において、洗浄装置１を起動すると、洗浄槽２に洗浄液Ｆが充填される。その後ワーク支持部４のアーム部９が下方に移動してワークＷが洗浄槽２内の洗浄液Ｆ内に浸漬される。この状態で必要に応じてワーク支持部４のアーム部９を軸線方向周りに回転させながら、ワークＷの洗浄が行われる。
【００２４】
ステップＳ３において、洗浄終了後、洗浄槽２内の洗浄液Ｆが配水管を介して排水された後、リンス液供給部１０からリンス液がワークＷに向かってかけ流され、ワークＷの表面の洗浄液Ｆが洗い流される。
【００２５】
ステップＳ４において、ワーク保持部４のアーム部９が上昇してワークＷがヒータ５と同程度の高さとなるまで引き上げられ、ヒータ５の発熱によって乾燥される。このとき、遮蔽部６内には、流入口６Ｂから排気口６Ｃに向かう清浄な空気の流れが保持されている。
【００２６】
乾燥終了後、ワーク保持部４のアーム部９はワーク取付け時の位置に戻って停止し、一連の洗浄作業が終了する。ユーザは隔壁部１４Ｂ及び遮蔽部６Ａを開いてワークＷを取り出し、作業面３Ａ上で微小粒子の付着の有無や表面の傷、欠陥等の有無を検査し、問題がなければ次工程に送る。
【００２７】
本実施形態の洗浄装置１によれば、遮蔽部６の流入口６Ｂと排気口６Ｃとによって、ワーク支持部４及びワークＷの周囲に清浄な空気の流れが維持されるので、万一遮蔽部６内でゴミ等の微小粒子等が発生した場合でも、上述の空気の流れによって遮蔽部６の外部に誘導されて排出される。従って、これら微小粒子等が洗浄作業中及び終了後にワークの表面に付着することを抑制することができる。
【００２８】
また、洗浄槽２及びワーク支持部４が作業台３に一体に取付けられているので、洗浄後のワークＷに対して、そのまま検査等の付帯作業を行うことができ、ワークの移動による汚染を抑制することができる。
【００２９】
さらに、ネジ１３に対する調整溝１１の位置を調節することによって、調整板１２の高さを変えて排気口６Ｃの開口面積を調節することができるので、ワークの大きさ等に併せて排気口の開口面積を調節することによって、より適切な空気の流れを遮蔽部内に形成することができる。
【００３０】
加えて、遮蔽部６の周囲が隔壁１４によって密閉され、クリーンユニット１５によって清浄となった空気が隔壁１４内に供給されているので、遮蔽部６内の機構がクリーンベンチ内に配置されている状態となっている。従って、遮蔽部６内に流れる空気がより清浄となり、ワークへの微小粒子等の付着をさらに抑制することができる。
【００３１】
次に、本発明の第２実施形態について図４を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置２１と上述の第１実施形態の洗浄装置１との異なる点は、排気口の位置及び構成である。
なお、上述の洗浄装置１と同様の構成要素については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００３２】
図４は、本実施形態の洗浄装置２１の遮蔽部２２を、ワーク支持部４及び洗浄槽２等を省略して示す斜視図である。本実施形態の遮蔽部２２には、側面２２Ａに突出する筒状部２３が取付けられて排気口２２Ｂが設けられている。筒状部２３の内部には、ファン２４が配置されており、遮蔽部２２の内側から排気口２２Ｂに向かって外側に流れる空気の流れを作り出している。従って、遮蔽部２２には、図４に矢印で示すように、クリーンユニット１５からの清浄な空気が上部の流入口２２Ｃから入り、洗浄槽２の上方を通過して排気口２２Ｂから出て行く空気の流れが形成される。
【００３３】
本実施形態の洗浄装置２１においても、上述の第１実施形態の洗浄装置１と同様の効果を得ることができる。
また、排気口２２Ｂに設置されたファン２４によって、より能動的に遮蔽部２２内に一定の空気の流れが形成されるので、より確実にワークＷへのゴミ等の微小粒子等の付着を抑制することができる。
【００３４】
さらに、ファン２４が排気口２２Ｂ側に設置されているので、万一ファン２４の駆動部位等で微小粒子等が発生しても、速やかに遮蔽部２２の外に排出される。従って、これらの微小粒子等がワークの表面に付着しにくい洗浄装置を構成することができる。
【００３５】
続いて、本発明の第３実施形態について図５を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置３１と上述の第１実施形態の洗浄装置１との異なる点は、排気口の位置及び構成である。
なお、上述の洗浄装置１と同様の構成要素については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００３６】
図５は、本実施形態の洗浄装置３１の遮蔽部３２を、ワーク支持部４及び洗浄槽２等を省略して示す斜視図である。本実施形態の作業台３には、洗浄槽２と一体となる取付け穴３Ｂの周辺に、通気孔３３Ａを有するパンチングプレート３３が配置されている。このパンチングプレート３３によって、遮蔽部３２の作業台３側の面に排気口３２Ａが形成されており、矢印で示すように、上部の流入口３２Ｂから洗浄槽２の上方及び排気口３２Ａを通過して作業台３の下方に向かう空気の流れが遮蔽部３２内に形成される。
【００３７】
パンチングプレート３３の通気孔３３Ａの形状は、図に示すような小円形でもよいし、略四角形の網目状でもよい。また、パンチングプレート３３は、図５に示すように、遮蔽部３２に囲まれた作業面３Ａ全体に配置されてもよいし、取付け穴３Ｂ周辺の一定の範囲のみに配置されてもよい。さらに、パンチングプレート３３を用いずに、作業面３Ａに直接通気孔が形成されてもよい。
【００３８】
本実施形態の洗浄装置３１においても、上述の第１実施形態の洗浄装置１と同様の効果を得ることができる。
また、作業面３Ａ上の通気孔３３Ａによって、遮蔽部３２内の空気の流れが、流入口３２Ｂから作業台３Ａの下方に通過するように略直線状に形成されるので、遮蔽部３２内で空気の流れの方向が変化することによる乱流等が発生する可能性が低く抑えられる。従って、よりワークに微小粒子等が付着しにくい洗浄装置を構成することができる。
【００３９】
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の技術範囲は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば上述した各実施形態においては、作業台３及び隔壁１４を備えた例を説明したが、これらは本発明に必須の構成要素ではなく、これらを有さずに洗浄装置が構成されてもよい。具体的には、ワーク支持部及び洗浄槽の上方も遮蔽部によって覆われており、遮蔽部の上面上にクリーンユニットが配置され、クリーンユニットの配置部位を流入口として遮蔽部内に清浄な空気が流入するような構成が一例として挙げられる。
また、洗浄装置をクリーンルーム等の清浄環境下に設置して使用すれば、クリーンユニットを備えない構成とすることもできる。
【００４０】
さらに、上述した各実施形態においては、洗浄作業中継続して遮蔽部内に空気の流れが保持される例を説明したが、これに代えて、クリーンユニット、ファン等をコンピュータ等からなる制御部で制御することによって、微小粒子等が付着しやすい洗浄工程又はリンス工程後のみ遮蔽部内に空気の流れを発生させてもよい。
【００４１】
加えて、上述した各実施形態においては、流入口が遮蔽部の上部に設けられ、排気口が遮蔽部の下部に設けられた例を説明したが、これには限定されず、例えば、左右又は前後の対向する面の、洗浄槽に近い部位にそれぞれ流入口と排気口が設けられ、洗浄槽の上方を通過する空気の流れが形成されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１実施形態の洗浄装置を示す斜視図である。
【図２】同洗浄装置の遮蔽部の構成を示す斜視図である。
【図３】同洗浄装置を用いたワークの洗浄手順を示すフローチャートである。
【図４】本発明の第２実施形態の洗浄装置の遮蔽部の構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の第３実施形態の洗浄装置の遮蔽部の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４３】
１、２１、３１ 洗浄装置
２ 洗浄槽
３ 作業台
３Ａ 作業面
４ ワーク支持部
６、２２、３２ 遮蔽部
６Ｂ、２２Ｃ、３２Ｂ 流入口
６Ｃ、２２Ｂ，３２Ａ 排気口
１４ 隔壁
１５ クリーンユニット
２４ ファン
３３Ａ 通気孔
Ｗ ワーク
Ｆ 洗浄液
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子等のワークを洗浄する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高い清浄度が要求される光学素子等のワークを洗浄する場合、所定の清浄度が保たれたクリーンベンチ等の清浄環境下において、特許文献１に示すような洗浄装置を用いて洗浄が行われている。この洗浄装置においては、溶剤等の洗浄液を満たした洗浄槽に、搬送装置を介してワークを浸漬させて洗浄が行われる。
【特許文献１】特開２００４−３５８３３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、クリーンベンチのような環境下であっても、作業者の出入り等によって、絶えず微量のゴミ等の微小粒子が持ち込まれている。これらの粒子は作業者の作業等に伴って雰囲気中に飛散、浮遊する。洗浄後のワークの乾燥作業中にこれらの微小粒子がワークの表面に付着すると、乾燥時に表面にこびりつき、不良品の発生原因となることがある。この場合は微小粒子の除去作業が必要になるが、これら粒子はワークの表面に比較的強固に付着しているため、容易には除去できないという問題がある。
【０００４】
本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、ワークを洗浄する洗浄装置であって、前記ワークを洗浄する洗浄液が充填される洗浄槽と、前記ワークを支持して前記洗浄槽内の前記洗浄液の内部と外部とに移動させるワーク支持部と、前記ワーク支持部の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部とを備え、前記遮蔽部は流入口と排気口とを有し、前記遮蔽部の内部に、前記流入口から前記洗浄槽の上方を通過して前記排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする。
【０００６】
本発明の洗浄装置によれば、遮蔽部の内部に、流入口から洗浄槽の上方を通過して前記排気口に向かう空気の流れが形成されるので、微小粒子等が排気口から遮蔽部の外に排出される。
【０００７】
本発明の洗浄装置は、前記ワークの洗浄における付帯作業を行うための作業面を有する作業台をさらに備え、前記洗浄槽は、前記作業面よりも下方の位置で前記作業台と一体に配置されてもよい。この場合、洗浄後のワークに対して、作業台上ですぐに検査等の付帯作業を行うことができる。
【０００８】
本発明の洗浄装置は、前記遮蔽部の周囲及び上方を密閉する隔壁と、前記隔壁の、前記流入口と対向する面に設けられ、前記隔壁内に流入する空気を清浄にするクリーンユニットとをさらに備えてもよい。この場合、遮蔽部の周囲がクリーンベンチとなり、さらに微小粒子等のワークへの付着が抑制される。
【０００９】
前記排気口は、前記遮蔽部の前記作業台側の面に設けられており、前記作業面には、前記作業台の下方に空気を通過させる通気孔が設けられてもよい。この場合、遮蔽部内の空気の流れを略直線状に形成することができる。
【００１０】
前記排気口には、前記空気の流れを作り出すファンが配置されてもよい。この場合、より確実に空気の流れを形成することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の洗浄装置によれば、洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の第１実施形態の洗浄装置について、図１から図３を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置１は、ガラス等からなる光学素子をワークとして洗浄するための装置である。
図１に示すように、洗浄装置１は、ワークＷを洗浄する洗浄槽２と、洗浄槽２が一体に配置された作業台３と、作業台３上に設けられたワーク支持部４と、ワークＷを乾燥するヒータ５と、ワーク支持部４の周囲を遮蔽する遮蔽部６とを有して構成されている。
なお、図１においては、図を見やすくするため、作業台３、遮蔽部６等を二点鎖線で示している。
【００１３】
洗浄槽２は、有底の容器であり、溶剤等の洗浄液Ｆが図示しない洗浄液供給機構から供給されて充填される。また、洗浄槽２の底部には、図示しない配水管が接続されている。洗浄槽２の上部の開口は、作業台３に一体に取付けられている。
【００１４】
作業台３は、四隅に脚部７を有するテーブル状に形成されており、脚部７の上に設けられた天板の上面が、ワークＷの洗浄における付帯作業を行うための作業面３Ａとなっている。脚部７の長さは、ユーザが立って作業をするか座って作業をするか等の条件に応じて、適宜決定されてよい。作業面３Ａのうち、下方に洗浄槽２が一体に取付けられた部位には取付け穴３Ｂが開けられており、後述するように、作業面３Ａの上方からワークＷを洗浄槽２に出し入れできるようになっている。
【００１５】
ワークＷを支持するワーク支持部４は、作業面３Ａ上の取付け穴３Ｂの周囲の任意の位置に設けられている。ワーク支持部４は、作業面３Ａ上に略垂直に立設されて突出する略角柱状のレール部８と、レール部８に上下動可能に取付けられたアーム部９とから構成されている。
【００１６】
ワークＷは、アーム部９に挟持されて支持固定され、図示しないモータ等の公知の移動機構によって、レール部８に沿って上下に移動することによって、ワークＷを洗浄槽２の内部と外部とに移動できるようになっている。また、アーム部９は、移動機構によって、上下動の方向を軸線として回転自在に構成されており、洗浄槽２の内部でワークＷを回転させながら洗浄できるようになっている。
【００１７】
レール部８の作業面３Ａ付近には、ワークＷを乾燥させるヒータ５が設けられ、取付け穴３Ｂの周囲の任意の位置には、後述するリンス液を供給するリンス液供給部１０が配置されている。ヒータ５及びリンス液供給部１０は、それぞれ先端が取付け穴３Ｂの上方に位置するように配置されている。
【００１８】
遮蔽部６は、樹脂等からなり、ワーク支持部４及び作業面３Ａ上の取付け穴３Ｂの周囲を取り囲むように略垂直に設けられた４枚の側面を有して構成されている。手前側の側面６Ａは図示しないヒンジ等によって開閉自在となっており、ワーク支持部４のアーム部９に対してワークＷの付け替えができるようになっている。ワーク支持部４及び洗浄槽２を含む空間は、遮蔽部６によって外部の雰囲気から隔絶されているが、遮蔽部６の上部は開口しており、流入口６Ｂが形成されている。
【００１９】
図２は、遮蔽部６を、見やすいようにワーク支持部４等を除いて示す図である。側面６Ａの下部には、切り欠きによって排気口６Ｃが設けられている。排気口６Ｃの両側の上部には、一対で側面６Ａに取付けられたネジ１３等の固定手段がある。略長円形の調整溝１１が設けられた調整板１２は、ネジ１３に沿って上下に移動することができるように、調整溝１１とネジ１３とが係合している。ネジ１３と係合する調整溝１１の高さを変えることで調整板１２の高さを変えて、排気口６Ｃの開口面積を洗浄対象となるワークの大きさ等に応じて調整することができる。
【００２０】
再び図１に示すように、作業台３上において、遮蔽部６の周囲は、さらにガラス等の透明板材からなる隔壁１４によって側面及び上面が密閉されている。隔壁１４の上面１４Ａ、すなわち遮蔽部６の流入口６Ｂに対向する面には、クリーンユニット１５が設置されている。従って、隔壁１４の内部は、クリーンユニット１５を通過した清浄な空気が供給される、いわゆるクリーンベンチとなっている。手前側の隔壁１４Ｂは、図示しないヒンジ等によって開閉自在となっており、内部の遮蔽部６及びワーク支持部４等を操作できるように構成されている。
【００２１】
クリーンユニット１５は、遮蔽部６の上部の流入口６Ｂのほぼ真上に位置しているため、クリーンユニットを通過した清浄な空気は、図２に矢印で示すように、流入口６Ｂから遮蔽部６の内部に進入し、遮蔽部６の下部に設けられた排気口６Ｃから遮蔽部６の外部に排気される。従って、遮蔽部６の内部には、流入口６Ｂから洗浄槽２の上方を通過して排気口６Ｃに向かう空気の流れが常に存在する状態に維持されている。
【００２２】
上記のように構成された洗浄装置の使用時の動作について、以下に説明する。
図３は、洗浄装置１を用いたワークの洗浄手順を示すフローチャートである。まず、ステップＳ１において、ユーザは手前側の隔壁１４Ｂ及び遮蔽部６の手前側の側面６Ａを開き、ワーク支持部４のアーム部９にワークＷを取付けて遮蔽部６及び隔壁１４を閉じる。その後、クリーンユニット１５をオンにし、隔壁部１４内に清浄な空気の流れを発生させる。
【００２３】
ステップＳ２において、洗浄装置１を起動すると、洗浄槽２に洗浄液Ｆが充填される。その後ワーク支持部４のアーム部９が下方に移動してワークＷが洗浄槽２内の洗浄液Ｆ内に浸漬される。この状態で必要に応じてワーク支持部４のアーム部９を軸線方向周りに回転させながら、ワークＷの洗浄が行われる。
【００２４】
ステップＳ３において、洗浄終了後、洗浄槽２内の洗浄液Ｆが配水管を介して排水された後、リンス液供給部１０からリンス液がワークＷに向かってかけ流され、ワークＷの表面の洗浄液Ｆが洗い流される。
【００２５】
ステップＳ４において、ワーク保持部４のアーム部９が上昇してワークＷがヒータ５と同程度の高さとなるまで引き上げられ、ヒータ５の発熱によって乾燥される。このとき、遮蔽部６内には、流入口６Ｂから排気口６Ｃに向かう清浄な空気の流れが保持されている。
【００２６】
乾燥終了後、ワーク保持部４のアーム部９はワーク取付け時の位置に戻って停止し、一連の洗浄作業が終了する。ユーザは隔壁部１４Ｂ及び遮蔽部６Ａを開いてワークＷを取り出し、作業面３Ａ上で微小粒子の付着の有無や表面の傷、欠陥等の有無を検査し、問題がなければ次工程に送る。
【００２７】
本実施形態の洗浄装置１によれば、遮蔽部６の流入口６Ｂと排気口６Ｃとによって、ワーク支持部４及びワークＷの周囲に清浄な空気の流れが維持されるので、万一遮蔽部６内でゴミ等の微小粒子等が発生した場合でも、上述の空気の流れによって遮蔽部６の外部に誘導されて排出される。従って、これら微小粒子等が洗浄作業中及び終了後にワークの表面に付着することを抑制することができる。
【００２８】
また、洗浄槽２及びワーク支持部４が作業台３に一体に取付けられているので、洗浄後のワークＷに対して、そのまま検査等の付帯作業を行うことができ、ワークの移動による汚染を抑制することができる。
【００２９】
さらに、ネジ１３に対する調整溝１１の位置を調節することによって、調整板１２の高さを変えて排気口６Ｃの開口面積を調節することができるので、ワークの大きさ等に併せて排気口の開口面積を調節することによって、より適切な空気の流れを遮蔽部内に形成することができる。
【００３０】
加えて、遮蔽部６の周囲が隔壁１４によって密閉され、クリーンユニット１５によって清浄となった空気が隔壁１４内に供給されているので、遮蔽部６内の機構がクリーンベンチ内に配置されている状態となっている。従って、遮蔽部６内に流れる空気がより清浄となり、ワークへの微小粒子等の付着をさらに抑制することができる。
【００３１】
次に、本発明の第２実施形態について図４を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置２１と上述の第１実施形態の洗浄装置１との異なる点は、排気口の位置及び構成である。
なお、上述の洗浄装置１と同様の構成要素については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００３２】
図４は、本実施形態の洗浄装置２１の遮蔽部２２を、ワーク支持部４及び洗浄槽２等を省略して示す斜視図である。本実施形態の遮蔽部２２には、側面２２Ａに突出する筒状部２３が取付けられて排気口２２Ｂが設けられている。筒状部２３の内部には、ファン２４が配置されており、遮蔽部２２の内側から排気口２２Ｂに向かって外側に流れる空気の流れを作り出している。従って、遮蔽部２２には、図４に矢印で示すように、クリーンユニット１５からの清浄な空気が上部の流入口２２Ｃから入り、洗浄槽２の上方を通過して排気口２２Ｂから出て行く空気の流れが形成される。
【００３３】
本実施形態の洗浄装置２１においても、上述の第１実施形態の洗浄装置１と同様の効果を得ることができる。
また、排気口２２Ｂに設置されたファン２４によって、より能動的に遮蔽部２２内に一定の空気の流れが形成されるので、より確実にワークＷへのゴミ等の微小粒子等の付着を抑制することができる。
【００３４】
さらに、ファン２４が排気口２２Ｂ側に設置されているので、万一ファン２４の駆動部位等で微小粒子等が発生しても、速やかに遮蔽部２２の外に排出される。従って、これらの微小粒子等がワークの表面に付着しにくい洗浄装置を構成することができる。
【００３５】
続いて、本発明の第３実施形態について図５を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置３１と上述の第１実施形態の洗浄装置１との異なる点は、排気口の位置及び構成である。
なお、上述の洗浄装置１と同様の構成要素については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００３６】
図５は、本実施形態の洗浄装置３１の遮蔽部３２を、ワーク支持部４及び洗浄槽２等を省略して示す斜視図である。本実施形態の作業台３には、洗浄槽２と一体となる取付け穴３Ｂの周辺に、通気孔３３Ａを有するパンチングプレート３３が配置されている。このパンチングプレート３３によって、遮蔽部３２の作業台３側の面に排気口３２Ａが形成されており、矢印で示すように、上部の流入口３２Ｂから洗浄槽２の上方及び排気口３２Ａを通過して作業台３の下方に向かう空気の流れが遮蔽部３２内に形成される。
【００３７】
パンチングプレート３３の通気孔３３Ａの形状は、図に示すような小円形でもよいし、略四角形の網目状でもよい。また、パンチングプレート３３は、図５に示すように、遮蔽部３２に囲まれた作業面３Ａ全体に配置されてもよいし、取付け穴３Ｂ周辺の一定の範囲のみに配置されてもよい。さらに、パンチングプレート３３を用いずに、作業面３Ａに直接通気孔が形成されてもよい。
【００３８】
本実施形態の洗浄装置３１においても、上述の第１実施形態の洗浄装置１と同様の効果を得ることができる。
また、作業面３Ａ上の通気孔３３Ａによって、遮蔽部３２内の空気の流れが、流入口３２Ｂから作業台３Ａの下方に通過するように略直線状に形成されるので、遮蔽部３２内で空気の流れの方向が変化することによる乱流等が発生する可能性が低く抑えられる。従って、よりワークに微小粒子等が付着しにくい洗浄装置を構成することができる。
【００３９】
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の技術範囲は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば上述した各実施形態においては、作業台３及び隔壁１４を備えた例を説明したが、これらは本発明に必須の構成要素ではなく、これらを有さずに洗浄装置が構成されてもよい。具体的には、ワーク支持部及び洗浄槽の上方も遮蔽部によって覆われており、遮蔽部の上面上にクリーンユニットが配置され、クリーンユニットの配置部位を流入口として遮蔽部内に清浄な空気が流入するような構成が一例として挙げられる。
また、洗浄装置をクリーンルーム等の清浄環境下に設置して使用すれば、クリーンユニットを備えない構成とすることもできる。
【００４０】
さらに、上述した各実施形態においては、洗浄作業中継続して遮蔽部内に空気の流れが保持される例を説明したが、これに代えて、クリーンユニット、ファン等をコンピュータ等からなる制御部で制御することによって、微小粒子等が付着しやすい洗浄工程又はリンス工程後のみ遮蔽部内に空気の流れを発生させてもよい。
【００４１】
加えて、上述した各実施形態においては、流入口が遮蔽部の上部に設けられ、排気口が遮蔽部の下部に設けられた例を説明したが、これには限定されず、例えば、左右又は前後の対向する面の、洗浄槽に近い部位にそれぞれ流入口と排気口が設けられ、洗浄槽の上方を通過する空気の流れが形成されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１実施形態の洗浄装置を示す斜視図である。
【図２】同洗浄装置の遮蔽部の構成を示す斜視図である。
【図３】同洗浄装置を用いたワークの洗浄手順を示すフローチャートである。
【図４】本発明の第２実施形態の洗浄装置の遮蔽部の構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の第３実施形態の洗浄装置の遮蔽部の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４３】
１、２１、３１ 洗浄装置
２ 洗浄槽
３ 作業台
３Ａ 作業面
４ ワーク支持部
６、２２、３２ 遮蔽部
６Ｂ、２２Ｃ、３２Ｂ 流入口
６Ｃ、２２Ｂ，３２Ａ 排気口
１４ 隔壁
１５ クリーンユニット
２４ ファン
３３Ａ 通気孔
Ｗ ワーク
Ｆ 洗浄液
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを洗浄する洗浄装置であって、
前記ワークを洗浄する洗浄液が充填される洗浄槽と、
前記ワークを支持して前記洗浄槽内の前記洗浄液の内部と外部とに移動させるワーク支持部と、
前記ワーク支持部の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部と、
を備え、
前記遮蔽部は流入口と排気口とを有し、前記遮蔽部の内部に、前記流入口から前記洗浄槽の上方を通過して前記排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記ワークの洗浄における付帯作業を行うための作業面を有する作業台をさらに備え、
前記洗浄槽は、前記作業面よりも下方の位置で前記作業台と一体に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記遮蔽部の周囲及び上方を密閉する隔壁と、
前記隔壁の、前記流入口と対向する面に設けられ、前記隔壁内に流入する空気を清浄にするクリーンユニットと、
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記排気口は、前記遮蔽部の前記作業台側の面に設けられており、前記作業面には、前記作業台の下方に空気を通過させる通気孔が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記排気口には、前記空気の流れを作り出すファンが配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項１】
ワークを洗浄する洗浄装置であって、
前記ワークを洗浄する洗浄液が充填される洗浄槽と、
前記ワークを支持して前記洗浄槽内の前記洗浄液の内部と外部とに移動させるワーク支持部と、
前記ワーク支持部の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部と、
を備え、
前記遮蔽部は流入口と排気口とを有し、前記遮蔽部の内部に、前記流入口から前記洗浄槽の上方を通過して前記排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記ワークの洗浄における付帯作業を行うための作業面を有する作業台をさらに備え、
前記洗浄槽は、前記作業面よりも下方の位置で前記作業台と一体に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記遮蔽部の周囲及び上方を密閉する隔壁と、
前記隔壁の、前記流入口と対向する面に設けられ、前記隔壁内に流入する空気を清浄にするクリーンユニットと、
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記排気口は、前記遮蔽部の前記作業台側の面に設けられており、前記作業面には、前記作業台の下方に空気を通過させる通気孔が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記排気口には、前記空気の流れを作り出すファンが配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−６２６７（Ｐ２００９−６２６７Ａ）
【公開日】平成２１年１月１５日（２００９．１．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１７０２５８（Ｐ２００７−１７０２５８）
【出願日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１月１５日（２００９．１．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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