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Fターム[3B201BB98]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 清浄流体の種類 (4,381) | 気体 (443)

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【課題】従来のような二流体ノズルや高圧ジェットを用いた場合、たとえば、パターン等が形成された基板を洗浄する場合、洗浄液の供給される力によって、基板上に形成されたパターンに損傷が生じる場合があり、一方、損傷を防止するために供給する力を抑制すれば、洗浄を十分に行えないという問題があった。
【解決手段】微細気泡を含む洗浄液を用いて基板の洗浄を行う。洗浄液を供給するノズルの先端を、基板上に形成された液膜の液面より低い位置に配置し、ノズルの先端部分付近(微細気泡発生領域)を洗浄液が通過する際に、洗浄液中に微細気泡が発生するように構成する。 (もっと読む)


【課題】 簡素かつコンパクトな構成で、被洗浄面に対して、均一で高い洗浄度が確保できる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】
洗浄装置本体2と、洗浄装置本体2の内側に形成される洗浄槽3と、洗浄槽3の内周壁4と、内周壁4に8個設けられる吐出口5と、吐出口5に連通する8個の吐出経路6と、内周壁4に8個設けられる第1の排出口7と、第1の排出口7に連通する第1の排出経路8と、洗浄槽3の上方で内側に突設されピストンWとのクリアランスが1.0〜1.5mmとなる洗浄液噴出防止壁9と、を備える洗浄装置1。 (もっと読む)


【課題】PCB汚染フィルム素子の洗浄後に保管する場合における保管施設内の作業環境の悪化を防止することができるPCB汚染フィルム素子の処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】細分化(粉砕、裁断等)されたPCB汚染フィルム素子11をPCB除去溶剤(IPA、NS100、ヘキサン等)12で洗浄するPCB除去洗浄装置13と、前記PCB除去洗浄装置13で洗浄した後、PCB除去フィルム素子14中の残留PCB濃度を判定する卒業判定装置15と、判定合格PCB除去フィルム素子14Aが詰め込まれた網目状の袋に、ドライアイスを投入し、ドライアイスの昇華により二酸化炭素を発生しつつ、残留するPCB除去溶剤12を揮発・除去させ、脱溶剤PCB除去フィルム素子14Bとする溶剤除去装置16と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置100はウエハWを上方から支持する回転自在の基板支持部10と、基板支持部10の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハWに対して供給するトッププレートノズル10nとを備えている。トッププレートノズル10nは基板支持部10に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル10nを基板支持部10から離間した状態でトッププレートノズル10nからリンス液をウエハWに対して供給する。トッププレートノズル10nを基板支持部10に接近させた状態で、トッププレートノズル10nからリンス液を基板支持部10の下面に供給して洗浄する。 (もっと読む)


【課題】止まり穴に照射して止まり穴内を洗浄した洗浄液を回収し、再利用することができる止まり穴洗浄装置を提供する。
【解決手段】止まり穴洗浄装置は、被洗浄物に形成された止まり穴に洗浄液を供給する供給口と止まり穴から洗浄液を回収する回収口とを備え止まり穴の開口を覆う蓋部材と、洗浄液を循環用タンクから供給口へ供給する供給路と洗浄液を回収口から循環用タンクへ回収する回収路とを備えた循環路と、洗浄液を循環路で循環させる循環用ポンプと、供給口へ供給する洗浄液に微細気泡を生成する気泡生成手段とを備えている。循環用ポンプにより循環用タンクから取り出された洗浄液は、気泡生成手段により微細気泡が生成され、蓋部材の供給口から止まり穴内に照射される。止まり穴内を洗浄した洗浄液は蓋部材の回収口から循環用タンクに回収され、止まり穴の洗浄に再利用される。 (もっと読む)


【課題】 マイクロバブルの洗浄液中での分散性を向上させた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液の構成を、洗浄液を溜める洗浄槽と、超音波振動を供給する超音波振動子と、所定の方向の流れを形成するようにマイクロバブルを含有した洗浄液を供給する洗浄液供給系とし、超音波振動子を洗浄槽の内部底面との間に隙間を有し且つ所定の方向の洗浄液の流れと所定の方向とは異なる方向の洗浄液の流れの境界位置に超音波振動子を配置し、洗浄液供給系がこの隙間に向けて洗浄液を供給することとする。 (もっと読む)


【課題】清掃対象表面に付着した汚染物質を効率的に清掃して分離回収する。
【解決手段】清掃対象A表面に対向して周縁部が接触配置される清掃ヘッド1と、清掃流体Fが清掃ベッド1の内部空間1cを介して循環する流体循環配管2と、清掃流体Fが補充可能に貯留される貯留タンク3と、貯留タンク3に貯留される清掃流体Fを流体循環配管2に循環させる循環駆動源4と、清掃流体Fに対し汚染物質Cがイオン結合する塵物質Wから分離可能となる特性の分離因子を供給する分離因子供給手段5と、流体循環配管2を循環する清掃流体Fを加圧した状態で清掃ヘッド1の流体吐出口1aから清掃ヘッド1の内部空間1cに吐出させる加圧吐出手段6と、流体循環配管2のうち清掃ヘッド1の流体回収口1bから貯留タンク3に至る途中に設けられ、循環する清掃流体F中に含まれる塵物質Wと汚染物質Cとを分離した状態で回収する回収手段7と、を備える。 (もっと読む)


【課題】フィルターエレメントのみならず集塵容器をも安全に洗浄することができる集塵装置とする。
【解決手段】フィルターエレメント21と、このフィルターエレメント21を収納する集塵容器10とを有し、この集塵容器10内がフィルターエレメント21上流の集塵室R1と、フィルターエレメント21下流のろ過室R2とに区分され、集塵室R1に臨むガス流入路D1と、ろ過室R2に臨むガス流出路D2とが集塵容器10に備えられた集塵装置1であって、集塵室R1に臨む液供給路D7及び液排出路D4が集塵容器10に備えられ、液排出路D4及びガス流入路D1に開閉弁V4,V1が備えられ、これらの開閉弁V4,V1を閉じて液供給路D7から洗浄液W1を供給すると、洗浄液W1によって集塵室R1が浸漬し、更にろ過室R2も浸漬する構成とされる。 (もっと読む)


【課題】分散機運転中の処理効率の低下が抑制される媒体撹拌型分散機を提供する。
【解決手段】被処理液を導入する液入口16と処理後の処理液を排出する液出口20とを有する分散容器10と、分散容器10の内部に設けられた撹拌手段と、分散容器10の内部に設けられ、液出口20を覆うスクリーン14と、分散処理中に、液出口20側からスクリーン14の内部に備えた回転ノズルよりスクリーン14の内面へ向かって流体を噴射する逆洗手段と、を有する媒体撹拌型分散機である。 (もっと読む)


【課題】比較的簡便な構成で、配管破損を生じることなくかつ短時間で、配管を洗浄することができる配管洗浄方法を提供する。
【解決手段】
まず、内部にオゾンを含む直径が1μm未満の気泡であるオゾンナノバブルを含む洗浄液が生成される。次いで、当該洗浄液が配管内壁の付着物に所定の圧力で供給される。この洗浄液によれば、洗浄液中のオゾン粒子数の残存時間を長期間維持することができ、オゾンの作用を効果的に引き出すことができる。その結果、洗管作業時間内における洗浄液中のオゾンバブルの消滅を実質的に無視することができる。また、この洗浄液は、OHラジカルや酸素ラジカルを含むため、その作用により、スケールやスライムはもちろん、配管内壁に付着している水酸化第一鉄、水酸化第二鉄等を極めて効率よく短時間で分解除去することができる。 (もっと読む)


【課題】スケールの溶解率を高めることができるとともに、スケールの溶解時間を短縮することができ、スケールの除去効率を向上させることができるアルカリによるスケールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリによるスケールの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の配管の内壁面に付着したスケールに洗浄剤としてのアルカリを作用させてスケールの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で発泡源を添加するか、又は気泡を吹き込みながら行うものである。前記スケールは二酸化珪素を含むものである。また、前記気泡としては、その気泡径が100nm〜100μmの微細気泡が用いられる。洗浄時における洗浄液のpHは9以上であることが好ましい。洗浄時の圧力は、0.001〜0.09MPaに設定される。 (もっと読む)


【課題】フィルタの濾材内部まで効果的に洗浄し、濾材内部に捕集された異物を押し出す高性能でコンパクトなフィルタ洗浄装置及びフィルタ洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄装置1は、フィルタ2を移送するコンベア3と、コンベア3上においてフィルタ2に洗浄液を噴射する複数の洗浄液噴射ノズル24からなる洗浄液噴射ノズル群4と、コンベア3上において洗浄液噴射ノズル群4の下流側でフィルタ2に高圧ガスのみを噴射する複数の高圧ガス噴射ノズル25からなる高圧ガス噴射ノズル群5と、を備え、フィルタ洗浄方法は、フィルタ2をコンベア3に搭載するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に洗浄液を噴射するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に高圧ガスのみを噴射するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】洗浄対象物の洗浄作業を容易におこなうことができるノズルを提供することを課題とする。
【解決手段】水の流出口に接続されて、水の流出口からの水が流入する流入部11と、流入部から流入した水の流れを絞って水の流速を増加させる絞り部12と、絞り部12から下流側へ流出する水に気泡が混入するように空気を導入する空気導入部13と、洗浄液が溜められる容器2内と連通するように構成され、絞り部12から下流側へ流出する水に容器内2の洗浄液が混入するように洗浄液を導入する洗浄液導入部14と、を具備し、流入部11から流入した水に気泡および洗浄液を混入させて洗浄液混入気泡水とし、洗浄液混入気泡水を噴射するように構成されるノズル1とする。 (もっと読む)


【課題】装置の小型化を図ることのできる洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄装置10には、洗浄対象物22を洗浄する洗浄部13と、当該洗浄部13内に液体を導入する導入路17eと、洗浄部13内の液体を洗浄部13から排出する排出路17aと、を少なくとも有する循環路18が形成されている。そして、循環路18の洗浄部13以外の部位に、電圧を印加することで放電を行う電極51a、51bを設けた。 (もっと読む)


【課題】洗浄効率の向上を図ることにより環境負荷となる洗浄水自体の使用量を低減し、洗浄後の洗浄水の処理に要するコストを低減する。
【解決手段】洗浄水が自由に流入出可能な構造を有すると共に複数の被洗浄体を収容する洗浄用籠、上記洗浄用籠を設置する洗浄槽、上記洗浄用籠を回転させる回転装置、上記洗浄用籠内の上記被洗浄体が集合する受噴射籠面に向けて洗浄水と気体との気液混合物を噴射する少なくとも2個の互いに分散設置されたインゼクター、上記洗浄槽の上方から流出する洗浄済み水を回収すると共に重量差を利用して上記洗浄済み水を汚れ成分と洗浄水とに分離する回収分離槽、上記回収分離槽において分離された上記洗浄水を上記各インゼクターに再供給する洗浄水再供給装置を備え、上記各インゼクターは、洗浄時間の後半では噴射を停止、あるいは弱めるように構成した。 (もっと読む)


【課題】ディスク駆動装置の清浄度を向上し、磁気ヘッドがトレースするときの磁気ヘッドと記録ディスクとの隙間を小さくした場合にTA障害の発生率を低く保つことのできる技術を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の製造方法において、組立工程では、クリーンルーム内で固定体に軸受ユニットと軸受ユニットによって固定体に対して回転自在に支持される回転体とを組み付けてサブアセンブリを組み立てる。洗浄工程では、サブアセンブリの固定体と回転体の少なくとも一方に洗浄液と第1気体との混合物を吹付けて洗浄する。密封工程では、サブアセンブリを密封部材により密封する。 (もっと読む)


【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面1aから下面1bにかけて厚さ方向D1に貫通している複数の貫通孔5を有するマスク1の洗浄方法であって、マスク1がホイールコンベア7により厚さ方向D1に挟持された状態で、厚さ方向D1に直交する搬送方向D2にマスク1をホイールコンベア7により搬送する搬送工程と、搬送されるマスク1の上面1a又は下面1bの少なくとも一方に対し洗浄液又は風を供給する洗浄工程と、を備え、ホイールコンベア7が、マスク1の搬送方向D2に沿って千鳥状に配列された複数の一対のホイール7a,7bを有している。 (もっと読む)


【課題】プラズマ化が困難なガスのプラズマを容易に生成することができるプラズマ生成用ガスおよびプラズマ生成方法並びにこれにより生成された大気圧プラズマを提供する。
【解決手段】大気圧プラズマを生成するために用いられるプラズマ生成用ガスであって、プラズマとなることにより処理能力を有するとともに、プラズマ生成用ガス全体をプラズマ源に搬送するためのベースガス(キャリアーガス)としてのアルゴン(Ar)と、前記大気圧プラズマの処理効果を向上する処理効果向上ガスとしての酸素ガスもしくは炭酸ガスとの混合ガスとした。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽の超音波強度を自動的に監視し、所定の閾値を外れた場合に速やかにこの事象を判定して超音波洗浄機の洗浄能力の経時変化や故障などに起因する瞬時異常を検出し、信頼度の高い管理を可能とする実用的な超音波強度監視装置を提供し、また、この超音波強度監視装置を具備して信頼度の高い洗浄性能を備えた超音波洗浄機を提供する。
【解決手段】超音波洗浄機用の超音波強度監視装置であって、洗浄槽2に設けられ該洗浄槽2を伝播した超音波を電気信号に変換する変換部4と、この変換部4で変換された電気信号の大きさを調整する調整部5と、この調整部5で調整された電気信号の大きさが所定の範囲内か否かを判定する判定部7とを具備し、電気信号の大きさは、該電気信号の瞬時的電圧,瞬時的電流,移動平均値若しくは単純平均値のいずれかである。 (もっと読む)


【課題】 設備コスト、設置場所の縮小を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板Wに対して剥離処理と洗浄処理を行なう基板処理装置において、導入された空気を窒素ガスと酸素ガスのガス成分に分離して取り出し可能とするガス分離モジュール9と、この分離モジュール9から分離取り出された窒素ガス、酸素ガスをそれぞれ用いたマイクロナノバブル発生装置5、6を設け、各発生装置で発生した微小気泡を剥離部2、洗浄部3にそれぞれ供給する。 (もっと読む)


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