【課題】ＰＣＢ汚染フィルム素子の洗浄後に保管する場合における保管施設内の作業環境の悪化を防止することができるＰＣＢ汚染フィルム素子の処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】細分化（粉砕、裁断等）されたＰＣＢ汚染フィルム素子１１をＰＣＢ除去溶剤（ＩＰＡ、ＮＳ１００、ヘキサン等）１２で洗浄するＰＣＢ除去洗浄装置１３と、前記ＰＣＢ除去洗浄装置１３で洗浄した後、ＰＣＢ除去フィルム素子１４中の残留ＰＣＢ濃度を判定する卒業判定装置１５と、判定合格ＰＣＢ除去フィルム素子１４Ａが詰め込まれた網目状の袋に、ドライアイスを投入し、ドライアイスの昇華により二酸化炭素を発生しつつ、残留するＰＣＢ除去溶剤１２を揮発・除去させ、脱溶剤ＰＣＢ除去フィルム素子１４Ｂとする溶剤除去装置１６と、を具備する。 （もっと読む）

【解決手段】 物品洗浄装置１は、洗浄液１３を貯溜した洗浄槽３と、洗浄液１３を攪拌する攪拌手段２１とを備えている。攪拌手段２１は、対向する壁面３Ａ，３Ａ’に配置された複数の噴射ノズル２２と、複数の電磁開閉弁２５とを備えており、それらの作動は制御手段２６によって制御される。
複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させ、その状態において制御手段２６がポンプＰを作動させるとともに所要箇所の電磁開閉弁２５を開放させる。すると、開放された電磁開閉弁２５と対応する噴射ノズル２２から洗浄液１３が噴射されて、洗浄槽３内の洗浄液１３は例えば時計方向に流動し、攪拌される。
【効果】 金属部品Ｗを効率的、かつ均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の均一な洗浄が行え、かつダメージを低減できる超音波洗浄装置を実現すること。
【解決手段】超音波洗浄装置は、被洗浄物８を洗浄液７で浸した洗浄槽２と、前記洗浄槽２の底面に配置され、前記洗浄液７を振動させる複数の超音波振動素子３０２と、前記素子毎の共振周波数を記憶するメモリ部４０９と、発振周波数を切り替え可能な発振部４０２と、前記素子３０２をランダムに切り替えて、前記メモリ部４０９に記憶された素子毎の共振周波数に基づいて前記発振部４０２を制御し、前記素子に高周波電力を供給する制御部４０１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】液切処理にかかる時間を短縮できる液切処理装置、液処理装置及び液切処理方法を提供する。
【解決手段】液処理装置１は、キャリア２に液処理を施す液処理部１０と、液処理後のキャリア２が搬送される搬送部２０とを有する。搬送部２０は、搬送レール２１と、液切処理部２２とを有する。液切処理部２２は、回転テーブル２４と、回転テーブル２４上に固定され、搬送レール２１から搬送されるキャリア２を水平状態に保持する回転レール２３と、回転テーブル２４を回転駆動し、回転レール２３に保持されたキャリアを高速回転させる駆動モータとを有する。 （もっと読む）

【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートＴの転写パターン（洗浄領域）を当該転写パターンが下方に向くように保持機構４により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートＴの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部３１により形成し、前記通流空間に液収容部３１の底面に形成された第１の開口部３１ａからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部３１と転写パターン２外側領域との間に形成された隙間３０を介して排液部３２に排液する。リンス液は液収容部３１内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートＴの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】離れた位置でも高圧洗浄装置を操作することが可能な操作盤の提供。
【解決手段】フレーム上に搭載され、洗浄水を貯留する水タンクと、水タンクに吸引側が接続され、エンジンにより駆動される水ポンプと、水ポンプの吐出側に一端が接続され、他端が大ホースリールおよび小ホースリールに接続された配管と、大ホースリールおよび小ホースリールにそれぞれの基端が接続されて巻き付けられた大ホースおよび小ホースの先端にそれぞれ噴射器具を備えた高圧洗浄装置の操作盤４であって、水ポンプにより圧送される洗浄水を噴出するホースを大ホースまたは小ホースに切り換える大小ホース切換スイッチ２０と、大ホースリールの回転速度調整ハンドル２１とを備えた操作盤本体４ａと、操作盤本体４ａに着脱可能であり、大ホースリールから大ホースを巻取、停止および繰出可能なスイッチ３３と、エンジンの増減速スイッチ３２とを備えたリモコン装置４ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄と湿式洗浄とを選択的に実施できる基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理設備は、基板が載せられた容器が置かれるポート１１００及びインデックスロボット１２００を有するインデックス部１０００と、基板処理を遂行する処理部２００と、処理部２００とインデックス部１０００との間に配置されてこれらの間に搬送される基板が一時的に留まるバッファユニット４０００と、を含み、処理部２００は、基板を搬送するための移送路に沿って配置されるグルー除去用処理モジュール、基板冷却処理モジュール、加熱処理モジュール、及び機能水処理モジュールを含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽の超音波強度を自動的に監視し、所定の閾値を外れた場合に速やかにこの事象を判定して超音波洗浄機の洗浄能力の経時変化や故障などに起因する瞬時異常を検出し、信頼度の高い管理を可能とする実用的な超音波強度監視装置を提供し、また、この超音波強度監視装置を具備して信頼度の高い洗浄性能を備えた超音波洗浄機を提供する。
【解決手段】超音波洗浄機用の超音波強度監視装置であって、洗浄槽２に設けられ該洗浄槽２を伝播した超音波を電気信号に変換する変換部４と、この変換部４で変換された電気信号の大きさを調整する調整部５と、この調整部５で調整された電気信号の大きさが所定の範囲内か否かを判定する判定部７とを具備し、電気信号の大きさは、該電気信号の瞬時的電圧，瞬時的電流，移動平均値若しくは単純平均値のいずれかである。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内に液剤が所定量正しく供給されたか否かの判定を行う。
【解決手段】洗浄槽３は、液体を貯留して被洗浄物２を浸漬する。減圧手段７は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。液剤供給手段５は、液剤タンク１７が液剤供給路１８を介して洗浄槽３に接続されてなり、液剤供給路１８には液剤供給弁１９が設けられている。減圧手段７により洗浄槽３内を減圧した状態で液剤供給弁１９を開くことで、洗浄槽３の内外の差圧を利用して液剤タンク１７からの液剤を洗浄槽３内へ供給する。液剤供給路１８には、液剤が流れたことを検出するフローセンサ２０が設けられている。液剤供給弁１９への動作用出力信号と、フローセンサ２０の検出信号とに基づき、洗浄槽３内への液剤の供給異常を判定する。 （もっと読む）

【課題】微細気泡を用いた基板処理能力低下を防止すること。
【解決手段】微細気泡を含む処理液Ｓ２を生成する微細気泡発生装置３と、微細気泡を含む処理液Ｓ２を吐出するノズル５と、微細気泡発生装置３とノズル５を接続する配管４ｂと、前記配管４ｂ途中で配管内壁に付着した気泡を取り除く排気機構を設ける。ここで、排気機構は、内側の配管４１ａ、この内側の配管４１ａと外側の配管４１ｂとの間に形成された空間Ｋ、ポンプＰ２によって構成される。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液の使用量を低減させながら、パーティクルや異物が基板に固着することを防止して、清浄に基板を洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯留する貯留槽１２と、貯留槽１２に貯留された洗浄液をガラス基板１００の表面に供給するスプレーノズル１と、ガラス基板１００に供給された洗浄液を貯留槽１２に回収する回収槽１９とを備えた第１洗浄部１０１と、下方を向く洗浄液吐出口を有する洗浄液吐出ノズル２と、洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面を備えた液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面に純水を供給する裏面洗浄部４とを備えた第２洗浄部１０２と、第１洗浄部１０１におけるスプレーノズル１と、第２洗浄部１０２における洗浄液吐出ノズル２との間に配設されガラス基板１００の表面から洗浄液を除去する上下一対のエアナイフ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物の出し入れの困難性を解消するとともに、減圧した洗浄槽内へ気体を導入することによって上昇した洗浄液が減圧手段に吸い込まれないようにして、洗浄剤やエネルギーのロスを防ぐことができる洗浄装置を得る。
【解決手段】 上部に蓋体１４を有する洗浄槽３と、洗浄槽３内を減圧する減圧手段４と、洗浄槽３内に気体を導入する給気手段５を備え、減圧下の洗浄槽３内の洗浄液１中に気体を導入し洗浄液１を上昇，下降させて被洗浄物２の洗浄を行う洗浄装置において、蓋体１４に、洗浄槽３内に開口する減圧手段４における排気路１６の開口部１８と対峙するようにじゃま板３２を蓋体１４から垂下するようにして設け、上昇した洗浄液１が排気路１６の開口部１８側へ移動するのをじゃま板３２により防ぎ、洗浄液１が排気路１６の開口部１８から洗浄槽３外へ持ち出されることを抑えるようにした。 （もっと読む）

【課題】洗浄音を低減させ、水の消費量を抑え、耐久性を向上させると共に、洗浄能力の高い調理鍋の洗浄装置を提供する。
【解決手段】調理鍋１２の内側面を洗浄してから仕上げ濯ぎを行う調理鍋の洗浄装置１１であって、調理鍋１２を垂直に位置させて保持する保持部１３と、洗浄水を貯留する洗浄タンク１４と、該洗浄タンク１４と配管３１を介して連通する洗浄ポンプ１５と、該洗浄ポンプ１５から洗浄水が所定圧力で送出される洗浄ノズルパイプ１６と、該洗浄ノズルパイプ１６に設けられ、洗浄水を調理鍋１２に向けて噴射する洗浄ノズル１７と、電磁弁と、該電磁弁を介して仕上げ濯ぎ水が送出される仕上げ濯ぎノズルパイプと、該仕上げ濯ぎノズルパイプに設けられ、仕上げ濯ぎ水を調理鍋１２に向けて噴射する仕上げ濯ぎノズルとを備え、当該洗浄タンク１４内の洗浄水が繰り返し循環使用される構成の調理鍋の洗浄装置１１である。 （もっと読む）

【課題】不良デバイスの発生を抑制できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第１供給部からの帯状の基板を第１回収部へ送る第１送り機構と、第１供給部から送られた基板の裏面の少なくとも一部にカバー部材を着ける第１装置と、裏面にカバー部材が着けられた状態で第１装置から送られた基板の表面の処理を行う表面処理装置と、表面処理装置と第１回収部との間に配置され、表面処理装置から送られた基板からカバー部材を離す第２装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ユーザの作業負担を増加させることなく被洗浄物の洗浄性と殺菌性とを両立可能な洗浄器と、該洗浄器を備えた加湿装置とを提供する。
【解決手段】加湿ロータ（31）が浸漬される水タンク（61）と、水タンク（61）内の水中にストリーマ放電を生起する正電極（64）及び負電極（65）と、該両電極間（64,65）に直流電圧を印加する直流電源（70）とを備え、上記ストリーマ放電によって、上記水タンク（61）内の水を、正電極（64）側のアルカリ水と負電極（65）側の酸性水とに分離することで上記加湿ロータ（31）の周囲をアルカリ水で満たすとともに、該分離されたアルカリ水中に過酸化水素を生成するようする。 （もっと読む）

【課題】より微細なバブルを含むバブル含有液をより効率的に生成することのできるバブル含有液生成装置及びバブル含有液生成方法を提供することである。
【解決手段】液体を貯留する貯液槽１１と、貯液槽１１からの液体に気体を供給して気体含有液を生成する気体含有液生成機構１３、１２と、気体含有液生成機構にて生成される気体含有液を加圧して気体溶存液を生成する加圧槽１５と、加圧槽１５からの気体溶存液中にバブルを発生させて得られる第１バブル含有液を貯液槽１１に供する第１バブル含有液生成機構１８ａと、加圧槽１５からの気体溶存液の圧力開放を行って微細バブルを発生させて第２バブル含有液を生成する第２バブル含有液生成機構１８ｂとを有する構成となる。 （もっと読む）

【課題】洗浄液を貯留した洗浄処理槽の中に被洗浄物を収容して処理する超音波洗浄装置で、被洗浄物において振動子から見た保持部の影に相当する部分の洗浄むらを解消する。
【解決手段】振動子１２１の主面における短辺の長さを２ａ、保持部１４２ａの幅を２ｗ、洗浄液Ｌ中での超音波波長をλ、振動子１２１の主面から保持部１４２ａまでの距離をｚ_１、振動子１２１の主面から被洗浄物Ｗの最も液面に近い点までの距離をｚ_２とすると、（ｗ／ｚ_１）≦ｔａｎ｛ａｒｃｓｉｎ（１．３９λ／２πａ）｝、ｚ_２≦２．９×（ａ^２／λ）となるように、振動子１２１の寸法、発振器１１０の発振周波数、保持部１４２ａの寸法、保持部１４２ａの位置の少なくとも１つを調整する。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象である管の内壁面における洗浄ムラを防止することができる管内洗浄装置を提供する。
【解決手段】管１３の内部に挿入される挿入部１１と、挿入部１１の側面に取り付けられ、超音波振動Ｓを発生させる超音波振動子１２と、管１３の内壁面位置における超音波振動Ｓの大きさを調節する振動調節手段とを備える管内洗浄装置を提供する。具体的には、振動調節手段は、管１３の内壁面位置における超音波振動Ｓが予め設定された振幅となるように、管１３の内壁面と超音波振動子１２との間隔または超音波振動子１２の周波数を調節する。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体ウエハ等といった複数の被処理物を処理液に浸漬するに際して、これら被処理物の間で処理具合にばらつきが生じないようにする。
【解決手段】処理装置１が、処理液３０が貯留される処理槽２と、処理槽２内に配置され、処理槽２内で回転する回転車４と、被処理物３２をそれぞれ保持し、回転車４に取り付けられ、回転車４の第１の回転軸６を中心にした円周方向に沿って配列された複数の保持具１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物を効率的に洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、洗浄液が設定された高さまで満たされた洗浄液タンクと、前記洗浄液タンクの内部に備わるマイナス電極と、有機発光表示装置製造用メタルマスクが一側に取り付けられ、前記メタルマスクが前記マイナス電極に接触することを誘導するメタルジグと、前記メタルマスクと設定された間隔を置いて前記洗浄液タンクの内部に設けられるプラス電極と、前記マイナス電極及び前記プラス電極に電気的に接続する整流装置とを含む。 （もっと読む）