【課題】 脱水カゴの回転駆動装置が不要になり、構造をコンパクトにさせると共に取り扱いを簡単にさせながら脱水カゴを万遍なく均一にきれいに水洗でき、かつ水洗に伴う水の飛散を防止して良好な作業環境下で水洗作業を行うことができるようにした脱水カゴの水洗技術の提供。
【解決手段】 上面が開口し、周壁１０及び底壁１１に多数の水切小孔１２が形成された円形の脱水カゴ１を水洗対象とし、洗浄空間Ｓに回転自在に設けた水平テーブル５上に伏せ状態にセットした脱水カゴの外周面に対して水を噴射して水洗させる周面向き噴射ノズル６０と、底外面に対して水を噴射させて水洗させる底面向き噴射ノズル６１を備え、周面向き噴射ノズル及び／又は底面向き噴射ノズルからの噴射水の勢いにより脱水カゴを回転させながら水洗させる。 （もっと読む）

【課題】 対象物が平坦面だけでなく、湾曲面や狭隘な箇所の場合にも適用可能な防護カバーを提供する。
【解決手段】 高圧洗浄機１５の噴射ノズル１９に取り付けられ、該噴射ノズル１９から噴射されて対象物３１の表面で跳ね返った洗浄液３２や、対象物３１の表面から除去された汚れ等の付着物３３を受け止める防護カバー１であって、前記噴射ノズル１９に取り付けられて、前記噴射ノズル１９の軸線を中心として開閉可能であるとともに、開閉角度の調整が可能であり、かつ開いた状態の内面側で前記対象物３１の表面で跳ね返った洗浄液３２や汚れ等の付着物３３を受け止め可能なカバー本体２と、該カバー本体２を開閉させる開閉手段８とを備えている。 （もっと読む）

【課題】表面処理に使用した処理容器を簡単な作動で洗浄できる水洗装置を、提供すること。
【解決手段】処理容器９を載せる受板７１と、受板７１に処理容器９を固定する固定機構と、受板７１及び処理容器９を共に上下反転させる反転機構と、上下反転された処理容器９を下方から覆うホッパ７４と、を備えており、上下反転された処理容器９内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器９内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置である。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を招くことなくパーティクルやミストの再付着を抑制するフォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理槽１２の内側において、壁部２１の周方向に複数の第一案内翼２４を設ける。この第一案内翼２４は、その上端と下端とを周方向にずらしつつ、中央部を周方向に湾曲した曲面状に形成する。これにより、フォトマスク１９の洗浄時に供給され、フォトマスク１９の回転により壁部２１方向に移動したクリーンエアおよび処理液を、第一案内翼２４により下方に導く。また、第一案内翼２４の下方において、壁部２１の周方向に複数の第二案内翼２５を設ける。第二案内翼２５は、第一案内翼２４により導かれたクリーンエアを、処理槽１２の底部２２に接続さている排出管部１５に導く。これにより、パーティクルやミストなどを含むクリーンエアを処理槽１２から排出する。 （もっと読む）

【課題】水道水等を貯留する貯水槽の広大な面積の垂直なコンクリート壁面に対して、ウォータージェットによる研掃を効率良く行えるようにする表面研掃処理装置を提供する。
【解決手段】表面研掃処理装置１０は、ベースマシン１４と、縦方向スライドガイド部１６と、横方向スライドガイド部１９と、ウォータージェット噴射ノズル１１を備えるウォータージェット治具１３とを含んで構成される。ベースマシン１４は、基台部２３と走行部２２とからなる。縦方向スライドガイド部１６は、基台部２３上の支持架台２１に固定される縦方向固定ガイド部１７と、縦方向固定ガイド部１７に沿って昇降可能な昇降ガイド部１８とからなる。横方向スライドガイド部１９は、ウォータージェット治具１３の横巾の略３倍の長さを有し、昇降ガイド部１８に沿って昇降可能である。ウォータージェット治具１３は、横方向スライドガイド部１９に沿って横方向に移動可能である。 （もっと読む）

【課題】鉛直方向の省スペース化が実現できる基板液処理装置のミスト回収機構を提供すること。
【解決手段】ミスト案内カップの周縁端領域の上方に設けられた液体案内上部カップと、ミスト案内カップの周縁端領域に対してその下方から上方まで鉛直方向に移動可能に設けられた液体案内中央カップと、ミスト案内カップの周縁端領域に対してその下方から上方まで鉛直方向に移動可能に設けられた液体案内下部カップと、を備える。各カップの鉛直方向位置は、３つの回収状態を選択的に実現できるように制御される。各回収状態で回収される液体は、第一ドレイン用タンク乃至第三ドレイン用タンクにそれぞれ案内されるようになっている。第一ドレイン用タンク乃至第三ドレイン用タンクは、径方向に並ぶように配置されている。 （もっと読む）

【課題】フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要のない液処理装置を提供すること。
【解決手段】排気・排液部６は、主にウエハＷから振り切られた処理液を取り入れて排液する環状をなす排液カップ４１と、排液カップ４１の外側を囲繞するように設けられ、回転カップ３およびその周囲からの主に気体成分を取り入れて排気する排気カップ４２とを有し、回転カップ３は環状の庇部材３２を含み、排液カップ４１は、庇部材３２の下側で回転カップ３に形成された排出孔３３，３４を通してウエハＷから振り切られた処理液を取り入れて排液口４３から排液し、排気カップ４２は、庇部材３２の上側で排気カップ４２に形成された導入口４２ｂを通して回転カップ３の周囲からの気体成分を取り入れて排気口４５から排気し、排液カップ４１からの排液と排気カップ４２からの排気が独立して行われる。 （もっと読む）

【課題】異物除去の効率を向上できる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、超音波を発する振動子１１と、紫外線を通過する材料により形成され、振動子１１が発する超音波を、異物と化学反応する機能水３によって覆われた基板表面２ａに対して、基板表面２ａに対向するように配置されたホーン底部１３から伝達するホーン部１２と、ホーン部１２の内部に配置され、ＵＶ光を発光するＵＶ光源２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 日光（紫外線）が当らなかったり、雨水が少ないなどのセルフクリーニング作用が発揮されない要因があっても光触媒コートが施された外装面をそのセルフクリーニング作用を利用して清掃することで、従来の清掃手段で発生する光触媒コートの損傷や剥離を防止でき、効率的に清掃することができる光触媒コートが施された外装面の清掃方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】 清掃範囲閉塞手段１３で光触媒コートが施された外装面Ｗの清掃範囲を囲って閉塞空間を形成し、外装面Ｗに紫外線照射手段１５で清掃の際に紫外線を照射することで、光触媒を活性化して付着した汚れの付着力を弱め、散水手段１８で水膜を形成するよう散水して上方から下方に洗い流すことで、外装面Ｗを清浄するようにしている。そして、水膜で洗い流した清浄面Ｗに水切り乾燥手段２２でエアを吹き付けて水切りと乾燥を行い、埃などの汚れの再付着を防止し、さらに、散水回収循環手段２３で汚水を回収してフィルタで汚れを除去して循環し、最小限の水で清掃する。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに侵入した数μｍの研削屑も良好に除去することができ、かつ、チャックテーブル上に保持された被加工物の表面を良好に洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】高圧エアー及び液体で構成される２流体洗浄水８２０ａを高圧噴射する構成とすることにより、数μｍほどの屑も洗浄できるようにして、ブラシ等を不要とする。また、飛散防止チャンバー８３と、飛散防止チャンバー８３においてチャックテーブル２の上面２ａ又は被加工物Ｗの表面Ｗａ上で飛散するミスト８２０ｂを外部へ排出する排出手段８４とを備え、洗浄時は、飛散防止チャンバー８３の側壁８３０の下端がチャックテーブル２の上面２ａ又は上面２ａに保持された被加工物Ｗの表面Ｗａと所定の隙間Ｃ１をもち、チャックテーブル２の上面２ａ上又は被加工物Ｗの表面Ｗａ上に形成された洗浄水層８７により隙間Ｃ１が封止されるようにすることにより、ミストが飛散しないようにする。 （もっと読む）

【課題】容器内に残留している有害物質を取り除くことができるようにする。
【解決手段】有害物質が付着している筒状の容器１０内を洗浄するための洗浄本体部１を備えている。洗浄本体部１は、有害物質を吸収させる吸収材７を収容するタンク２と、タンク２に収容される吸収材７の上方に設けられ、容器１０を下に開口した状態で配置させると共に、流体を上から下へ通過させ得る配置部３と、配置部３に配置された容器１０内に挿入させ当該容器１０の内周面に過熱水蒸気を吹き付ける噴出手段４とを有している。 （もっと読む）

【課題】排気口からの排気に大きな排気能力を必要とせずに、処理チャンバ内の雰囲気を良好に置換させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ４内には、基板を水平に保持して回転させるスピンチャック１７と、スピンチャック１７の上方に配置された円板状の遮断板１４とが収容されている。遮断板１４の下面には、スピンチャック１７に保持される基板の表面と対向する基板対向面が形成されている。処理チャンバ４の上部に設けられた給気ユニットには、処理チャンバ４内に清浄空気を供給するための給気口６５が形成されている。給気口６５は、下向きの給気口であり、平面視において遮断板１４の周囲を取り囲む円環状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 洗浄対象物に洗浄液混合の圧縮気を噴射可能であると共に、周囲にミストが飛散しなよう吸引回収可能であり、洗浄液を切り替えて汚れや塵埃などを除去し、最終的に圧縮空気のみを噴射して、洗浄の全工程を一挙に完了可能とする新たな洗浄技術を提供する。
【解決手段】 グリップ２の先端に一体化してなる吸引筒７の先端中央に、同吸引筒７に対して同心状配置で、その先端がわ方向に向けた洗浄ノズル８を設け、該グリップ２の基端から該洗浄ノズル８に達する主圧縮気回路３の適所に噴射スイッチ６を配し、該主圧縮気回路３適所から分岐した負圧誘導回路３３の末端を、当該吸引筒７内壁適所において、同吸引筒７末端がわに向けて開口し、当該グリップ２内の一液回路４１および別液回路４２の各内端に液路切換器５を接続し、且つ、同液路切換器５の吐出路５１を、当該主圧縮気回路３の適所に配した気液混合器３５に接続してなる洗浄ガン１である。 （もっと読む）

【課題】連続して被洗浄物を洗浄する場合であっても、被洗浄物の洗浄度が低下することを容易に抑制することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】中間部が狭窄な貫通孔５ａと、この貫通孔５ａの狭窄部５ｂに連通し、貫通孔５ａに入った洗浄水１が狭窄部５ｂを流れることで空気が狭窄部５ｂへ吸引されるガス吸引孔５ｃとが形成され、洗浄水１とともに金属屑２が貫通孔５ａを通過することで、洗浄水１に微細気泡４を生成し、微細気泡４と金属屑２とを混ぜ合わせながら、洗浄水１および金属屑２を外へ出す気泡生成器５を備えている。 （もっと読む）

【課題】一定の条件の下で基板を処理することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、複数のガード１４〜１７と、各ガード１４〜１７を個別に昇降させる昇降機構４０〜４３と、制御部１０とを備えている。各ガード１４〜１７は、スピンチャック２の周囲を取り囲む筒状部１８ｅ、１９ａ、２０ａ、２１ａと、筒状部１８ｅ、１９ａ、２０ａ、２１ａの上端部全周から内方に延びる環状の延設部１８ｂ、１９ｂ、２０ｂ、２１ｂとを有している。各延設部１８ｂ、１９ｂ、２０ｂ、２１ｂは、他の延設部と内径Ｄ１が揃えられ、他の延設部と上下に重なり合うように配置されている。制御部１０は、いずれのガード１４〜１７を基板Ｗの周端面に対向させるときでも、スピンチャック２による基板保持位置Ｐ１からの内周部１８ｃ、１９ｃ、２０ｃ、２１ｃの高さが等しくなるように昇降機構４０〜４３を制御する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンが形成された基板に対しても適切に洗浄することができる基板処理装置、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、単一の基板Ｗを水平姿勢で保持する保持部１１と、微細気泡を含んだ気泡含有洗浄液を基板に供給する洗浄液ノズル１５と、洗浄液ノズル１５によって基板Ｗに気泡含有洗浄液を供給させて基板を洗浄する制御部１９と、を備える。気泡含有洗浄液によれば、基板面に与える衝撃を抑制しつつ、微細気泡の表面張力によって基板Ｗ上のゴミ、塵埃、その他の異物を除去することができる。したがって、基板Ｗに形成されたパターンを破壊することなく、基板を好適に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】ホットメルト接着剤を供給する管を、複雑な装置を用いず、かつ簡単な操作により、洗浄可能とする。
【解決手段】ホットメルト接着剤を供給する管を洗浄するために用いられる治具（１５）として、管の内側断面より小さい孔（１７）が設けられ、および管からの排出口を該孔（１７）に制限するように管の排出側開口端部（１１）に取り付けられることを特徴とする治具（１５）を用いる。治具（１５）は管の排出側開口端部（１１）に、例えば継手（１３）を介して取り付けられ、ホットメルト接着剤を、軟化点以上かつ使用温度未満の温度にて、管に加圧送給して該治具（１５）の孔（１７）より排出させることにより、管を洗浄し得る。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄処理した後、ＩＰＡ等の乾燥用溶剤を用いて乾燥した場合に、スループットを低下させることなく薬液を回収することができる洗浄装置および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを回転させながら、ウエハＷに薬液洗浄を施し、リンス処理を施し、その後ＩＰＡによる乾燥処理を施す洗浄機構１は、排液カップ６および排液配管３１を洗浄するための洗浄液を、ウエハＷに供給されない状態で、排液カップ６に供給する洗浄液供給機構３９を有し、さらに洗浄機構１の各構成部を制御する制御部４０を有し、この制御部４０は、ウエハＷの洗浄処理、その後のリンス処理を実施させた後、ＩＰＡによる乾燥処理を行わせている際に、乾燥処理が実施されているタイミングで洗浄液を排液カップ６に供給させるように制御する。 （もっと読む）

【課題】薬液処理後の基板を水洗処理する場合に、純水の使用量を節減し、排液量を少なくし、処理時間を短縮することができる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送方向における長さが基板Ｗの寸法より短くされた置換水洗室１０、置換水洗室内において基板を一方向へ連続して搬送する搬送ローラ、置換水洗室内の入口付近に配設された入口ノズル１６、入口ノズルより基板搬送方向における前方側に配設された高圧ノズル１８、および、置換水洗室内の出口側に配設されたエアーノズル２２を備えて置換水洗部２を構成した。置換水洗室１０内へ基板Ｗが搬入される前に入口ノズル１６および高圧ノズル１８からの洗浄水の吐出を開始し、置換水洗室内から基板が搬出された後に入口ノズルおよび高圧ノズルからの洗浄水の吐出を停止するように制御する。 （もっと読む）