【課題】半導体装置、実装基板及び液晶基板において、薄膜材料に限定されることなく、基板表面の端縁及び／又は基板裏面に形成された不要な薄膜を容易に除去することのできる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板１０６の表面の端縁及び／又は基板１０６の裏面に形成された薄膜を除去する基板処理装置であって、被処理基板１０６を支持する基板保持部１０１と、除去すべき薄膜が形成されている被処理基板１０６の領域に向けて高温スチーム又はブラスト材を吹きつける噴射ノズル１０４と、前記噴射ノズル１０４から被処理基板１０６に吹きつけられた高温スチーム又はブラスト材が、被処理基板１０６において薄膜が除去される必要のない領域に侵入することを防止する手段１０２とを備えている基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】 溶解性、安定性に優れ、基板下地やポリシラザンの特性に影響を与えず、エッジカット形状にも優れ、さらに人体に対する安全性も高い処理溶剤の提供。
【解決手段】 テトラリン、ｐ−メンタン、ｐ−シメン、α−ピネン、１，８−シネオール、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる溶剤を含むポリシラザン処理溶剤と、それを用いたポリシラザン処理方法。この溶剤は、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる溶剤をさらに含むこともできる。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の非処理領域を確実に保護することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板表面Ｗｆの非処理領域ＮＴＲが、該非処理領域ＮＴＲに近接して対向配置される遮断板５とカバーリンスノズル７から供給されるリンス液とによって選択的に覆われる。このように基板表面Ｗｆの非処理領域ＮＴＲを保護することで、非処理領域ＮＴＲのうちリンス液が接液することによって錆もしくは吸湿などの影響を受ける部位については、遮断板５の対向面５ａで覆うことによって該部位（対向部位ＮＴＲ１）を保護することができる一方で、リンス液の接液によって影響を受けない部位（非対向部位ＮＴＲ２）については、リンス液で覆うことによって遮断板５の真円度などの外形形状および基板Ｗの中心と遮断板５の中心との相対位置精度にかかわりなく保護することができる。したがって、基板表面Ｗｆの非処理領域ＮＴＲが確実に保護される。 （もっと読む）

【課題】構成の簡素化を図ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、開口部２開閉する開閉体11と、被洗浄物を載置する載置体31と、被洗浄物を押え付ける押え体41とを備える。開閉体11は、回動中心軸12を中心とする開方向への回動により開口部２を開き、回動中心軸12を中心とする閉方向への回動により開口部２を閉じる。押え体41は、開閉体11の開方向への回動に連動して上昇し、開閉体11の閉方向への回動に連動して下降する。開閉体11の閉方向への回動時にその回動途中で押え体41を被洗浄物に当接させ、被洗浄物を押え体41の自重で載置体31に対して押え付ける。
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【課題】 過冷却液体から氷の微粒子を含む処理液を製造する場合に、汚染物質が混入する心配が無く、生成された氷の微粒子が溶解することもない装置を提供する。
【解決手段】 下部に液体導入口１８および気体噴出口２４を有し上部に氷の微粒子を含む処理液の流出口２８を有する本体部１０を備え、液体導入口１８を通って本体部内１０へ導入された過冷却液体中に気体噴出口２４から気体を噴出して過冷却状態を解除し、生成された氷の微粒子を含む処理液を本体部１０内から流出口２８を通って流出させる。 （もっと読む）

【課題】液中及び液外において電子部品を搬送できる、簡易な構成の電子部品吸着搬送装置及び電子部品吸着搬送方法を提供する。
【解決手段】電子部品１０３を液中及び液外において吸着保持し移動するための電子部品吸着搬送装置１０１であって、吸引力を発生する第１の吸引源Ｐ１と、第１の吸引源Ｐ１からの吸引力を電子部品１０３に作用する第１の吸引回路１１５、１２９、１３１と、略密封した内部空間を有し、第１の吸引回路１１５、１２９、１３１の途中に配置されている液体トラップ手段１１９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 基板へのダメージを低減しつつ、基板表面の不要物を効率的に除去することのできる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】 スピンチャック１に略水平に保持された基板Ｗを回転させた状態で、基板裏面Ｗｂに対して摂氏７０度以上に加熱された純水（温水）を供給する一方で、基板表面Ｗｆに対して窒素が過飽和に溶解された純水を処理液として供給する。基板裏面Ｗｂに供給された温水により基板Ｗが昇温され、基板表面Ｗｆに接液する処理液から溶解させている窒素を泡として効率的に発生させることができる。これにより、基板表面Ｗｆのパーティクルを効率良く除去するとともに排出される。しかも、基板表面Ｗｆで直接に泡を発生させているので泡が成長することなく比較的小さな泡で基板Ｗを処理することができるので、基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）

転写パターンとなる薄膜が形成された基板上に、回転塗布処理によりレジスト液の膜を形成した後、基板をカバー部材で覆い、このカバー部材の上方から溶媒を供給し、基板及びカバー部材を一体的に回転させながら、溶媒を基板の周縁部に供給することによって、レジスト膜の不要部分を溶解除去するマスクブランクスの製造方法であって、レジスト膜の不要部分を溶解除去する不要膜除去処理の前に、回転塗布処理で形成されたレジスト膜に対して、不要膜除去処理におけるレジスト膜の面内膜厚均一性の悪化を抑制するための減圧乾燥処理を行う。
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【課題】 基板から剥離したレジスト膜と基板との再密着を抑制することができるレジスト膜の除去方法及びレジスト膜除去装置を提供する。
【解決手段】 レジスト膜６を水１１の中に浸漬させた状態にし、密着界面に対して水１１を進入させ、半導体ウェハ５からレジスト膜６を浮かび上がらせる。さらに、攪拌翼３０によって、剥離したレジスト膜６を水１１とともに内部空間２で回流させる。 （もっと読む）

【課題】一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９の外縁部を保持する円環状の基板保持部２、基板９の下面にドライ物理洗浄を行う第１洗浄機構３、および、基板９の上面に液体を用いるウェット洗浄を行う第２洗浄機構４を備える。第１洗浄機構３は、基板９の下面に向けて固形の二酸化炭素の微粒子を噴出する外部混合型の２流体ノズルである噴射ノズル３１を備える。第２洗浄機構４は、基板９の上面に洗浄液を供給する洗浄液供給部４２、洗浄液が供給された基板９の上面を洗浄する洗浄ブラシ４１を備える。基板洗浄装置１では、基板保持部２に保持された基板９の下面に対して第１洗浄機構３によりドライ物理洗浄が行われ、上面に対して第２洗浄機構４によりウェット洗浄が行われることにより、一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】単純な構成でありながら、略円筒形のワークを搬送路に沿って順次搬送すると共に、ワークに対して均等に洗浄液を吹き付けることのできる搬送機及びその搬送機を用いた洗浄装置を得る。
【解決手段】スプロケット８によって駆動される搬送チェーン７のローラ１２に、案内板１０と当接する駆動部１４と、略円柱状のワーク３を支持する支持部１５とを備える。駆動部１４は案内板１０上を移動することによって回転し、支持部１５は駆動部１４の回転に追従して回転する。支持部１５はワーク３の外周と当接するため、ワーク３は支持部１５の回転に追従して回転する。 （もっと読む）

【課題】基板に噴射される微細液滴の粒径の均一性を向上するとともに微細液滴を所望の速度で基板に衝突させる。
【解決手段】基板洗浄装置１は、洗浄液液滴を生成し、所定の粒径以下の微細液滴を選別する液滴生成部３、液滴生成部３から供給される微細液滴を加速ガスと共に基板９に向けて噴射する噴射ノズル４を備える。液滴生成部３は、液滴を生成する液滴生成用ノズル３１、および、微細液滴を選別する液滴選別室３２を備える。液滴選別室３２では、液滴がキャリアガス中にて浮遊した状態で移動し、液滴選別室３２内での移動距離が長い液滴が微細液滴として噴射ノズル４に供給される。その結果、基板９に噴射される微細液滴の粒径の均一性を向上することができる。また、微細液滴を適切な噴射速度で基板９に向けて噴射することにより微細液滴を所望の速度で基板に衝突させることができる。 （もっと読む）

【課題】 基板処理部へ処理液を供給して基板の処理を行う装置において、基板処理部へ処理液を供給するための配管の途中に設けられた開閉制御弁の故障の有無を確実に確認でき、開閉制御弁自体の構造の複雑化やコスト高を招くことがない装置を提供する。
【解決手段】 基板の処理が行われる処理槽１０と、処理槽１０へ純水を供給するための純水供給管１８と、純水供給管１８の途中に設けられた開閉制御弁２４とを備えた装置であって、処理槽１０から排出される処理液を一時的に貯留する液溜用バット３６と、液溜用バット３６内の処理液を排出するための排液用配管３８と、排液用配管３８に設けられた開閉制御弁４０と、液溜用バット３６が空の状態で開閉制御弁４０、２４を閉じて所定時間後に液溜用バット３６内に純水が溜まるか否かを検知する検知センサ４２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム合金製の感光ドラム基体を効率的に洗浄する方法および装置を提供する。
【解決手段】 引抜加工により所望の内外径に加工し、所望の長さに切断し、洗浄する工程を有しているもので、その洗浄工程が、駆動ローラー５３及びフリーローラー５１、５２にアルミニウム合金製感光ドラム基体１を横向きでその中心軸を角度θ傾斜させて載置し回転させながら内面スプレーノズル２０及び外面スプレーノズル２２をより洗浄液を噴射させて洗浄するものであり、脱脂洗浄液が食塩水を電気分解してマイナス極側に生成するアルカリ性電解水を用いているアルミニウム合金製の感光ドラム基体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 処理液と気体とを混合して生成した処理液の液滴を基板に供給して所定の洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板上の処理領域に対応した最適な洗浄を行うことで、基板を高品質に洗浄する。
【解決手段】 基板Ｗに与えるダメージが少ない外部混合型ノズル５から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル５を境界位置Ｋａと基板Ｗの回転中心Ｐａとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が遅い基板中央部Ｗｃを洗浄処理する。一方、洗浄力（除去率）に優れる内部混合型ノズル６から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル６を基板Ｗの端縁位置Ｅｂと境界位置Ｋｂとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が速い基板端縁部Ｗｓを洗浄処理する。これにより、基板中央部Ｗｃと基板端縁部Ｗｓとの各処理領域に対応した最適な洗浄を行うことができ、基板全面を高品質に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 レンズ等の光学物品の研磨加工工程で使用する固定剤や保護膜を除去するために使用する洗浄剤であって、環境問題や人体への影響が懸念されるハロゲン系溶剤、フロン系溶剤、芳香族系溶剤を使用することなく、各種固定剤及び保護膜に対して高い洗浄力を有する洗浄剤用組成物を提供する。
【解決手段】
例えば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルやジプロピレングリコールジメチルエーテル等のアルキレングリコールアルキルエーテル７５〜２５重量％及びシクロデカン、シクロウンデカン、シクロドデカン等の炭素数１０〜１５のシクロパラフィン２５〜７５重量％からなる洗浄剤用組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】 ワークチャックにおける異物の残存率を低減することができるワークチャックの洗浄装置を提供する。
【解決手段】 多数のピン１４が下向きに突設され且つその先端で半導体ウェーハを吸着保持した状態で回転するワークチャック１２と、複数の毛束を突設すると共にワークチャック１２に毛束の先端が当接した状態で回転する表面ブラシ４１と、ワークチャック１２又は表面ブラシ４１の少なくとも一方をワークチャック１２の半径方向に変位させる変位駆動機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＡＬＣ板とパレットの両方を洗浄可能とする洗浄システムを提供するものである。
【解決手段】 本発明の洗浄システム１は、多孔質板（ＡＬＣ板２）を掴むワークチャック部８を備え、このワークチャック部８の昇降を可能とし、その本体が走行レール９に沿って走行可能に構成された移送機６と、パレット４を走行レール９方向に搬送する搬送ローラ５と、走行レール９の途中に設けられ、洗浄ブラシ１５，１８により前記ＡＬＣ板２と前記パレット４を洗浄する洗浄装置７とを備えたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】 ダイレクトパス方式を採用しながらも、洗浄力を向上することが可能な洗浄治具を提供する。
【解決手段】 被洗浄物を内部に収容する開口部３を有し、洗浄液の流れを受けて回転する洗浄治具本体２と、洗浄治具本体２を回転自在に収納する収納治具３０とを備え、洗浄治具本体２が回転することにより開口部３に収容された被洗浄物に洗浄液が多方向から接触して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 ＦＰＤの薄型化を可能にする実用的な技術を提供する。
【解決手段】 一対のガラス基板１の一方に電極１１を形成してガラス基板１をシール材１２を介して貼り合わせ、内部を封止した後、ガラス基板１の外面を機械研磨して厚さを薄くする。ノズル４に対して相対的に機械的に移動させながら、フッ酸より成る溶出液Ｌをノズル４からガラス基板１の外面に向けて噴射し、自重による加速度より大きな加速度を付けて０．５ｋｇ／ｃｍ^２〜３．５ｋｇ／ｃｍ^２の範囲で圧力で外面に吹き付ける。外面は溶出液Ｌにより溶出され、溶出液の衝撃による物理的作用を利用して外面が研磨される。 （もっと読む）