【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板処理方法および基板処理装置において、スループットの低下を招くことなく、しかも優れた面内均一性でパーティクル等を除去する。
【解決手段】基板Ｗの回転中心Ｐ（０）から基板Ｗの外縁側に離れた初期位置Ｐ（Ｒin）の上方に冷却ガス吐出ノズル７を配置し、回転している基板Ｗの初期位置Ｐ（Ｒin）に冷却ガスを供給して、初期位置Ｐ（Ｒin）および回転中心Ｐ（０）を含む初期領域に付着するＤＩＷを凝固させる。そして、初期凝固領域ＦＲ0の形成に続いて、ノズル７から冷却ガスを供給しながら初期位置Ｐ（Ｒin）の上方から基板Ｗの外縁部の上方まで移動させることによって、凝固される範囲を基板Ｗの外縁側に広げて基板表面Ｗｆに付着していた全ＤＩＷ（凝固対象液）を凝固して液膜ＬＦ全体を凍結する。 （もっと読む）

【課題】部品実装機の吸着ノズルを能率良くクリーニングできるようにする。
【解決手段】部品実装機のホルダ着脱機構に着脱可能に取り付けられた交換用吸着ノズルホルダ１１を該部品実装機から取り外して該交換用吸着ノズルホルダ１１に収納された吸着ノズル１２を吸着ノズル用クリーニング装置２１でクリーニングするために、吸着ノズル用クリーニング装置２１のクリーニング槽２２内に、部品実装機のホルダ着脱機構と共通のクリーニング用ホルダ着脱機構２３を設け、部品実装機のホルダ着脱機構から取り外した交換用吸着ノズルホルダ１１を、クリーニング槽２２内のクリーニング用ホルダ着脱機構２３に取り付けて、該交換用吸着ノズルホルダ１１に収納された複数本の吸着ノズル１２を超音波洗浄等によりクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】 外装体と洗浄治具本体の間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを低減し、洗浄での歩留まりを向上させることができる洗浄治具を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、洗浄治具を搬送するための搬送手段と、洗浄ノズル手段の内部流路と接続する複数の洗浄ノズル部と、洗浄ノズル手段が接続された噴出手段と、純水が蓄えられている純水槽と、純水槽から前記噴出手段へ純水を送る高圧ポンプ手段と、を備え、洗浄ノズル手段が円筒形の洗浄ノズル部とこの洗浄ノズル部とつながる内部流路とを備え、洗浄ノズル部が、前記搬送手段と平行となる平行線に対して、３０度〜６０度の角度で傾斜して円筒形の洗浄ノズル部の円筒の中心線が設けられていることを特徴とすることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の液体に被洗浄物を浸漬して洗浄や濯ぎを図る洗浄装置において、被洗浄物が液面から露出するのを防止して、被洗浄物の洗浄や濯ぎを確実に図る。
【解決手段】洗浄槽３は、上部開口を扉９で開閉可能とされ、被洗浄物２が収容されると共に液体が貯留される。洗浄槽３内において、被洗浄物２は液体に浸漬される。敷材２０は、洗浄槽３内に配置される網状または多孔板状の下方規制板２２を有し、この下方規制板２２に被洗浄物２が載せられる。蓋材２１は、洗浄槽３内に配置される網状または多孔板状の上方規制板２７を有し、この上方規制板２７より上方への被洗浄物２の移動を規制する。蓋材２１の上方規制板２７よりも上方まで洗浄槽３内に液体が貯留される。 （もっと読む）

【課題】ウェブの表面に付着した微細な塵芥を除去することができるとともに、洗浄液の飛散を防止することができるウェブの洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄装置６０は、ウェブの表面に付着した微細な塵芥を除去可能なノズル３６を、水槽６２の内部に配置するとともに、水槽６２に貯留された液体６４中に浸漬配置する。液体６４は、気体と比較して比重が大きく粘性も高い。したがって、ノズル３６を液体６４に浸漬配置することにより、ノズル３６の入口及び出口５３ｂから排出された洗浄液は、液体６４によってその運動エネルギーが分散される。これにより、洗浄装置６０によれば、ノズル３６の入口、出口５３ｂからの洗浄液の飛散を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板のベベル部および基板裏面を短時間で、しかも良好に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】遮断部材５が基板Ｗの表面Ｗｆに近接して対向配置された状態で基板Ｗの上面ベベル部に第１処理液が供給されてベベル洗浄が実行される。このベベル洗浄中に裏面処理ノズル２から第２処理液が基板裏面Ｗｂに供給されて裏面洗浄が実行される。また、遮断部材５の下面周縁部に段差部ＳＴが形成されており、環状部５０ｂに付着した処理液などが基板対向面側に移動しようとしても、当該移動は段差部ＳＴにより阻止される。その結果、基板対向面５０ａと平面領域ＦＰの間に液密層が形成されるのを確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】ワークの洗浄効果を高めると共に、ワークの取り扱いや乾燥を容易にすることができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄液１８に浸し、収容したワーク１６に超音波Ｌを照射してワーク１６を洗浄する洗浄装置１０であって、ワーク１６を挿入する開口部１３が形成され超音波Ｌが透過する第１治具１２と、第１治具１２の開口部１３に取外可能に装着される網状の第２治具１４と、で構成されたことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】金属屑から分離した異物が金属屑に再付着することを抑制することができる金属屑の洗浄装置を得る。
【解決手段】異物５が付着した金属屑６が内側に入れられ、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、金属屑６を攪拌する攪拌機７と、洗浄槽２に貯留された洗浄水１に気泡３を供給し、気泡３を異物５に吸着させ、異物５を金属屑６から分離させ、気泡３が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物５を浮上させる気泡生成器４と、洗浄水１を洗浄槽２からオーバーフローさせて、異物５を洗浄槽２の外側へ排出する異物排出手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板処理部に対する処理液の供給流量を調整するときの調整時間を短縮することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを処理液で処理するための処理ユニット６と、処理ユニット６に処理液を供給するための処理液供給配管１４と、処理液供給配管１４に介装され、開度を変更するためのモータ２４を有するニードルバルブ１５とを備えている。処理液供給配管１４およびニードルバルブ１５は、流体ボックス７内に収容されており、この流体ボックス７によってニードルバルブ１５全体が覆われている。制御部８がモータ２４を制御してニードルバルブ１５の開度を変更することによって、処理ユニット６に対する処理液の供給流量が変更される。 （もっと読む）

【課題】基板の一方の面と端面部分（エッジ部分）を液体により処理をする際に、他方の面側への液体の回り込みを防ぐことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、回転する基板Ｗに対して処理用の液体２８を供給して基板Ｗの処理をする際に、基板Ｗの一方の面３１と基板Ｗの端面部分３３に対して処理用の液体２８を供給する物理洗浄ツール１５と、基板Ｗの他方の面３２に対して保護用の流体５５を供給して基板の他方の面側に処理用の液体が回り込むのを防止する回り込み防止用供給ノズル５３と、を備え、回り込み防止用供給ノズル５３は、基板Ｗの回転方向において少なくとも一か所に固定されている。 （もっと読む）

【課題】フィルム状物の表面の洗浄能力を高めつつ、しかも、洗浄後の脱水・乾燥をも一つの装置内で行えるようにする。
【解決手段】本装置１では、バックアップロール２に吸着されたフィルム状物Ｗとクリーニングヘッド３の凹部３ａとの間に形成されたギャップＧに、噴射通路８ｂを通って高速高圧の水流が、また、噴射通路９ｂを通って高速高圧のエア流が流入する。流入した水流は、図１の矢印で示すように、排気通路５ｂ及び排気通路６ｂに二分されてギャップＧから流出する。このとき、この水流によってフィルム状物Ｗに付着したダストなどが剥離洗浄される。一方、流入したエア流は、図１の矢印で示すように、排気通路５ｂ及び排気通路７ｂに二分されてギャップＧから流出する。このとき、このエア流によってもフィルム状物Ｗに付着したダストなどが剥離洗浄されるとともに、このエア流によって当該フィルム状物Ｗに付着した水分が脱水・乾燥される。 （もっと読む）

【課題】最外周誘導壁によって容器の開口部を開閉することにより、占有面積の小型化、及び処理の短時間化を実現する。
【解決手段】回転式処理装置１に、容器１Ａ、回転保持機構７、処理液吐出アーム３０、誘導壁１６，１７、及びエアシリンダ２２，２３を設けた。回転保持機構７は、容器１Ａの開口部３７から搬入された被処理基板３を水平に保持して回転させる。誘導壁１６，１７は、回転保持機構７の外周側に同心状に配置され、処理液吐出アーム３０から吐出された処理液の廃液を分別して排液する。エアシリンダ２２，２３は、誘導壁１６，１７のそれぞれを上端部が回転保持機構に保持された被処理基板３よりも上方に位置する回収位置と下方に位置する退避位置との間で昇降させる。誘導壁１６，１７のうち最外周誘導壁１７は、回収位置で開口部３７を閉鎖し、退避位置で開口部３７を開放する。 （もっと読む）

【課題】微小気泡を含む液体中に存在する微小気泡の数を管理するにより、基板処理を均一に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに対して微小気泡を含む液体４０を供給して基板Ｗを処理し、気体と液体から微小気泡を含む液体を生成する微小気泡生成装置３０と、微小気泡を含む液体内の微小気泡の数を測定するための測定部５０と、測定部から微小気泡の数の測定値が与えられる制御部２０と、制御部２０の指令により微小気泡を含む液体を基板Ｗに供給する供給部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】薬液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】初期薬液処理では、基板表面Ｗｆにシリコン酸化膜が形成されており、基板表面Ｗｆは親水面となっている。そこで、初期薬液処理（時刻０から時間Ｔ1が経過するまでの間）においてはフッ酸溶液の流量を５１０（ｍＬ／ｍｉｎ）に抑えてフッ酸の使用量を抑制している。一方、初期薬液処理により基板Ｗのシリコン層の少なくとも一部が露出してくるタイミングでフッ酸溶液の流量を１５３０（ｍＬ／ｍｉｎ）に増大させて連続薬液処理中を実行しているため、基板表面Ｗｆの一部にシリコン層が露出して疎水面が形成されたとしてもフッ酸溶液が基板表面Ｗｆ全体をカバレッジしてシリコン酸化膜のエッチング除去を継続させることができる。 （もっと読む）

【課題】 この発明はカップ体内に設けられた仕切体を上昇させた状態及び下降させた状態のいずれであってもカップ体内を確実に排気できる処理装置を提供することにある。
【解決手段】 カップ体２内に設けられた回転テーブル３と、カップ体内の雰囲気を排出する第１の排気ブロア２１と、回転テーブルの外周とカップ体の内周との間に周方向全長にわたって設けられる固定仕切体１１及び上下駆動手段１３によって上下方向に駆動される可動仕切体１２を有し、上昇方向に駆動されたときに基板から飛散する処理液を内周面に衝突させる仕切体と、仕切体の内周面に衝突してカップ体の内底部に落下した処理液を回収する気液分離器２２と、仕切体の周壁に設けられ仕切体を上昇させて処理液を回収するときに第１の排気ブロアによる排気経路が仕切体によって遮断されるのを阻止する気体を通過して液体の通過を阻止する材料によって形成された通気性部材１２ａを具備する。 （もっと読む）

【課題】故障の可能性が低く、安価であり、洗浄の均一性が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】複数のインジェクタ５Ｂ，５Ｌ，５Ｒ，５Ｔは、気泡ＢＢを含む流れを洗浄液７中に発生させることができ、この流れがコンベア３に向かうようにコンベア３の周囲に配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板の表面及びベベル部並びに裏面の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１００は、裏面を下方に向けた状態の基板を裏面から支えて保持する２つの基板保持手段（吸着パッド２、スピンチャック３）を備え、支える領域が重ならないようにしながらこれらの基板保持手段の間で基板を持ち替える。洗浄部材（ブラシ５）は基板保持手段により支えられている領域以外の基板の裏面を洗浄し、２つの基板保持手段の間で基板が持ち替えられることを利用して基板の裏面全体を洗浄する。また基板がスピンチャック３により保持され、回転されるときに、基板の裏面の洗浄と合わせて、基板表面及びベベル部に夫々洗浄液を供給して、当該表面とベベル部の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑制しつつ、複数の供給対象に対して安定した流量で液体を供給することができる液体供給装置およびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理液供給装置８は、液体がそれぞれ収容された第１タンク２９および第２タンク３０を備えている。第１タンク２９内の液体は、第１連結配管３３、第１バルブ３９、送液室３１を介して、複数の送液配管３２から複数の供給対象に供給される。また、第２タンク３０内の液体は、第２連結配管３４、第２バルブ４０、送液室３１を介して、複数の送液配管３２から複数の供給対象に供給される。第１タンク２９から各送液配管３２に至るまでの経路、および第２タンク３０から各送液排気管３２に至るまでの経路における流路断面積は、複数の送液配管３２の流路断面積の総和よりも大きくされている。 （もっと読む）

【課題】基板の主面に対向部材を極めて微小な間隔を隔てて対向配置させて基板に処理を施すことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】遮断板４の対向面には、中央部吐出口１２と多数個の周縁部吐出口１９とが形成されている。遮断板保持体１７は、ボールブッシュ機構２３を介してアーム１０に取り付けられている。そのため、遮断板保持体１７および遮断板４は、アーム１０に対して上下方向に変位可能に保持される。周縁部吐出口１９からの不活性ガスの吐出によって、遮断板４に、鉛直上向きの離反方向力が作用し、遮断板４はアーム１０に対して鉛直上向きに相対変位する。遮断板４は、この離反方向力と遮断板４等に働く重力とが釣り合う位置に保持される。 （もっと読む）

【課題】基板を効率良く洗浄しながらも基板へのダメージを低減することができる二流体ノズルおよび該二流体ノズルを用いた基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３０１において、液体吐出口３２７を環状で且つスリット状に開口させるとともに、液体吐出口３２７の開口面積を１．８ｍｍ^２以上かつ３６ｍｍ^２以下に設定している。このため、従来ノズルに比べて単位時間当たりの供給液滴数を増加させ、基板Ｗを実用的かつ効率的に洗浄することが可能となる。しかも、液体吐出口３２７のスリット幅を０．１ｍｍ以上かつ１．０ｍｍ以下の範囲に設定しているので、基板Ｗへのダメージ発生に寄与する比較的大きな粒径の液滴が生成されるのを抑制することができる。したがって、基板Ｗを効率良く洗浄しながらも基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）