フォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法
【課題】本発明は、マスク端面のレジストを薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。
【解決手段】本発明は、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、マスク端面に付着したレジストを、マスク表面を傷付けることなく、薬液のみで除去するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
集積回路を製造する過程においてマスクを作製する際は、石英板の表面にクロムで回路パターンを形成したマスクに、フォトレジスト(感光性樹脂)を塗布する。塗布機でマスクを高速回転させて表面に薄いレジスト膜を作るが、マスクの4つの端面にもレジストが付着してしまうため、洗浄してレジストを剥離する必要がある。
【0003】
特許文献1に記載されているように、カラーフォトレジストが一定の膜厚に塗布されたガラス基板の端面に残るカラーフォトレジストに残膜を、機械的に洗浄することの可能な洗浄装置の発明も公開されている。
【特許文献1】特開平05−265194号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に記載の発明は、端面に残るフォトレジストの残膜に、円筒状のスポンジローラーの外周面を一定方向に回転させつつ接触させて洗浄するため、スポンジのカス等が付着してしまうことがある。
【0005】
そこで、本発明は、マスク端面のレジストを機械的にブラシで擦るのではなく、薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、上記の課題を解決するために、コの字型に凹んだスリット2bにマスク7端面のフォトレジストを除去する薬液2eが噴射されるノズル2cを設置したスリットノズル2と、前記スリットノズル2上方に設けたマスク7端部に保護流体6bを噴射するシャワーノズル3とからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置1の構成とした。
【発明の効果】
【0007】
本発明は、以上の構成であるから以下の効果が得られる。第1に、スリットノズルのスリットをマスク端面に押し当てて薬液を噴射し、併せて上方から端部に保護流体を噴射することにより、マスク表面を保護しつつ、端面のみ洗浄することができる。
【0008】
第2に、薬液のみを使用し、ブラシを使用しないので、マスクにブラシのカス等が付着することはない。薬液がマスク表面に行かないように制御して、端面に噴射するので、効率良くフォトレジストを除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
本発明は、マスク端面に付着したレジストを、マスク表面を傷付けることなく、薬液のみで除去するという目的を、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置により実現した。
【実施例1】
【0010】
以下に、添付図面に基づいて、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法について詳細に説明する。図1は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の斜視図である。
【0011】
フォトレジスト端面剥離・洗浄装置1は、左スリットノズル2、右スリットノズル2a、左端部シャワーノズル3、右端部シャワーノズル3a、上クランプ4、下クランプ4a、マスクホルダー5、表面用シャワーノズル6及び裏面用シャワーノズル6a等からなる。
【0012】
左スリットノズル2及び右スリットノズル2aは、マスク7側の面をコの字型に溝を設けたスリット2bに、マスク7端面のフォトレジストを除去する薬液2eが噴射されるノズル2cを設置したものである。
【0013】
左端部シャワーノズル3及び右端部シャワーノズル3aは、スリットノズル2、2aの上方に設けたマスク7端部に保護流体3bを噴射する穴を複数空けた管である。
【0014】
上クランプ4及び下クランプ4aは、マスク7の前端及び後端を上下から挟んで固定する部材である。尚、下クランプ4aは高さ固定であり、上クランプ4が昇降することにより挟持及び解除を行う。
【0015】
マスクホルダー5は、マスク7の中心を回転軸として角度を90度回転させる。尚、回転させる際は、マスクホルダー5はマスク7を支えたまま上昇する。
【0016】
表面用シャワーノズル6及び裏面用シャワーノズル6aは、マスク7の後方から前方に向けてマスク7の表面7a及び裏面7bに保護流体6bを流す。尚、保護流体6bは、左右端部シャワーノズル3、3aで噴射する保護流体3bと同様のものである。
【0017】
マスク7は、表面7aにフォトレジストを塗布した基板である。左端面7c、右端面7d、前端面7e及び後端面7fに付着したフォトレジストは不要なので除去する。
【0018】
マスク7としては、主に6インチの石英基板が使用されるが、半導体基板、ガラス基板又は金属基板等を使用する場合も同様に、端面に付着したフォトレジストを除去することができる。
【0019】
薬液2eとしては、主にオゾン水が使用されるが、硫酸・過酸化水素水混合液(SPM)、弗酸(HF)・硝酸混合液、イソプロピルアルコール(IPA)等の有機溶剤を使用して洗浄することもできる。
【0020】
保護流体3b及び保護流体6bとしては、主に純水が使用されるが、空気、窒素ガス若しくはアルゴンガス等のガス流体、又は有機溶剤等を使用して薬液2eから保護することもできる。
【0021】
図2は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の流れを示すフローチャートである。
【0022】
フォトレジスト端面剥離・洗浄方法8は、マスク搬入8a、マスクホルダー下降8b、マスク挟持8c、スリットノズル押当て8d、保護流体噴射8e、薬液噴射8f、スリットノズル退避8g、クランプ解除8h、マスクホルダー上昇8i、マスク90度回転8j及びマスク搬出8kからなる。
【0023】
まず、マスク搬入8aからマスクホルダー上昇8iまでの工程で、マスク7の左端面7c及び右端面7dのフォトレジストを除去する。次に、マスク90度回転8jの工程を行い、マスクホルダー下降8bからマスクホルダー上昇8iまでの工程で、マスク7の前端面7e及び後端面7fのフォトレジストを除去する。最後に、マスク搬出8kの工程を行い、最初に戻る。
【0024】
マスク搬入8aの工程は、端面にフォトレジストが付着したマスク7を、マスクホルダー5の上に載せる。尚、マスク7をマスクホルダー5に載せる処理を、ロボット等を利用して自動的に行っても良い。
【0025】
マスクホルダー下降8bの工程は、マスクホルダー5を下降させ、マスク7を下クランプ4aの上に載せる。
【0026】
マスク挟持8cの工程は、上クランプ4を下降させ、マスク7を上クランプ4と下クランプ4aとで挟んで固定する。
【0027】
スリットノズル押当て8dの工程は、左スリットノズル2を右方向に水平移動させ、マスク7の左端面7cに押し当て、また、右スリットノズル2aを左方向に水平移動させ、マスク7の右端面7dに押し当てる。
【0028】
保護流体噴射8eの工程は、左端部シャワーノズル3からマスク7の左端部に保護流体3bを噴射し、薬液2eがマスク7の表面7aに掛からないように保護し、また、右端部シャワーノズル3aからマスク7の右端部に保護流体3bを噴射し、薬液2eがマスク7の表面7aに掛からないように保護する。
【0029】
さらに、表面用シャワーノズル6から保護流体6bをマスク7の表面7a全体に流し、薬液2eから保護すると共に、左端部シャワーノズル3及び右端部シャワーノズル3aから噴射した保護流体3bを一緒に洗い流す。また、裏面用シャワーノズル6aからも保護流体6bをマスク7の裏面7b全体に流し、薬液2eから保護する。
【0030】
薬液噴射8fの工程は、左スリットノズル2からマスク7の左端面7c(回転後は前端面7e)に薬液2eを噴射し、フォトレジストを除去し、また、右スリットノズル2aからマスク7の右端面7d(回転後は後端面7f)に薬液2eを噴射し、フォトレジストを除去する。
【0031】
スリットノズル退避8gの工程は、端面のフォトレジストを除去した後に、左スリットノズル2を左方向に水平移動させ、また、右スリットノズル2aを右方向に水平移動させる。
【0032】
クランプ解除8hの工程は、上クランプ4を上昇させ、上クランプ4と下クランプ4aによるマスク7の固定を解除する。
【0033】
マスクホルダー上昇8iの工程は、マスクホルダー5を上昇させ、マスク7を下クランプ4aからマスクホルダー5に載せ替え、マスクホルダー5に載せたままマスク7を上方に持ち上げる。
【0034】
ここで、マスク7の左端面7c及び右端面7dしか洗浄していない場合は、マスク90度回転8jの工程を行い、前端面7e及び後端面7fまで洗浄した場合は、マスク搬出8kの工程を行う。
【0035】
マスク90度回転8jの工程は、マスクホルダー5を90度回転させ、マスク7の前端面7eを左側(又は右側)の位置に、後端面7fを右側(又は左側)の位置に移動させる。尚、回転の向きはどちらでも良い。再度、端面のフォトレジストを除去するために、マスクホルダー下降8bの工程から繰り返す。
【0036】
マスク搬出8kの工程は、全ての端面のフォトレジストを除去したマスク7を、マスクホルダー5から取り除く。次に、別のマスク7を洗浄する場合は、マスク搬入8aの工程から繰り返す。尚、洗浄済みのマスク7を取り除き、未洗浄のマスク7をマスクホルダー5に載せる処理を、ロボット等を利用して自動的に行っても良い。
【0037】
図3は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク搬入時における装置の正面図である。
【0038】
マスク7を搬入し、マスクホルダー5の上に載せる。尚、装置は初期状態であり、左右スリットノズル3、3aは退避しており、上クランプ4及びマスクホルダー5は上昇した状態である。
【0039】
図4は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の正面図であり、図5は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の平面図である。
【0040】
マスク7が載ったマスクホルダー5を下降させ、マスク7を下クランプ4aに載せ替える。マスクホルダー5はマスク7を離してそのまま下降し、マスク7は下クランプ4aの左前クランプピン4b、右前クランプピン4c、左後クランプピン4d及び右後クランプピン4eで支えられる。
【0041】
図6は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク挟持時における装置の正面図である。
【0042】
上クランプ4を下降させ、上クランプ4と下クランプ4aとでマスク7を挟み込んで固定する。具体的には、上クランプ4の左前クランプピン4bと下クランプ4aの左前クランプピン4bでマスク7の前端左側を挟み、上クランプ4の右前クランプピン4cと下クランプ4aの右前クランプピン4cでマスク7の前端右側を挟み、上クランプ4の左後クランプピン4dと下クランプ4aの左後クランプピン4dでマスク7の後端左側を挟み、上クランプ4の右後クランプピン4eと下クランプ4aの右後クランプピン4eでマスク7の後端右側を挟む。
【0043】
図7は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル押当て時における装置の正面図である。
【0044】
左スリットノズル2のスリット2bをマスク7の左端面7cに押し当て、右スリットノズル2aのスリット2bをマスク7の右端面7dに押し当てる。尚、スリット2bの入口側の角は斜めにカットしており、カット面でマスク7の端面の角を受ける。
【0045】
図8は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置の正面図であり、図9は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(片側供給)時における装置の平面図であり、図10は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(両側供給)時における装置の平面図であり、図11は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(中央供給)時における装置の平面図である。
【0046】
左右端部シャワーノズル3、3aからマスク7端部に保護流体3bを噴射して表面7aに薬液2eが掛からないように保護しつつ、左右スリットノズル2、2aから薬液2eを噴射してマスク7の端面のフォトレジストを除去する。
【0047】
薬液2eの供給は、ノズル2cの一端を供給口2dとして薬液2eを供給する片側供給と、ノズル2cの両端を供給口2dとして薬液2eを供給する両側供給と、ノズル2cの中央を供給口2dとして薬液2eを供給する中央供給の方法がある。
【0048】
図12は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をA−Aで切断した側面断面図であり、図13は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をB−Bで切断した正面断面図であり、図14は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をC−Cで切断した平面断面図である。
【0049】
保護流体3bは、マスク7の上方において前方から後方に掛けて配置された左端部シャワーノズル3から噴射されるが、一定の間隔を置いて空けられた複数の穴から噴射されるため、マスク7の左端部に遮断層のようなものを形成し、端面から飛んでくる薬液2eを排除することができる。尚、右端部シャワーノズル3aについても同様である。
【0050】
また、表面用シャワーノズル6からマスク7の表面7aに保護流体6bを流すことにより、マスク7の表面7a全体が保護流体6bで覆われ、薬液2eから保護することができる。尚、裏面用シャワーノズル6aについても同様である。
【0051】
左スリットノズル2は断面がコの字型であり、右側面の中央が前方から後方に掛けて凹んだスリット2bを有する。スリット2bには、前方から後方に掛けてノズル2cが配置されており、一定の間隔を置いて空けられた複数の穴から薬液2eが噴射される。尚、右スリットノズル2aについても左右対称のため同様である。
【0052】
左スリットノズル2をマスク7の左端面7cに押し当てることでスリット2bを塞ぎ、薬液2eを噴射した際にマスク7の表面7aに上がらないように防止する。尚、マスク7の端面が押し当てられる箇所は、斜めにカットした面となっており、面と面ではなく、面と角で接するため、しっかりと押さえることができる。
【0053】
左スリットノズル2の長さは、マスク7の長さよりも長くなっており、はみ出した前部と後部から洗浄済みの薬液2eが排出される。尚、排出される際、マスク7の左端面7cと前端面7e又は後端面7fとの間の角も洗浄することができる。
【0054】
図15は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル退避及びクランプ解除時における装置の正面図であり、図16は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー上昇時における装置の正面図であり、図17は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク90度回転時における装置の平面図である。
【0055】
マスク7の左端面7c及び右端面7dのフォトレジストを除去したら、マスク7を90度回転させて、マスク7の前端面7e及び後端面7fのフォトレジストも除去する。4端面全てのフォトレジストを除去したら、マスク7を搬出する。
【0056】
まず、押し当てていた左右スリットノズル2、2aを退避し、上クランプ4を上昇させる。マスクホルダー5を上昇させて、マスク7を下クランプ4aからマスクホルダー5に載せ替え、そのまま上昇させる。
【0057】
マスク搬入8a時と同様の状態となり、マスクホルダー5を90度回転させることで、マスク7の前端面7e及び後端面7fに左右スリットノズル2、2aを当てることができるようになる。
【0058】
図18は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形の場合の平面図であり、図19は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形でスリットノズルの形状がくの字型の場合の平面図である。
【0059】
マスク7gは、正方形だけでなく、六角形など様々な形状のものであっても対応することが可能である。例えば、六角形の場合は、スリットノズル2fはそのままで、マスク7を60度ずつ回転させ、3回の洗浄を行うことで6つの端面のフォトレジストを除去することができる。
【0060】
また、スリットノズル2gをくの字型にして六角形の2端面を一度に洗浄するようにしても良い。まず、左右の4端面を洗浄し、60度回転させて残りの端面を洗浄することができる。
【0061】
以上のように、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法は、スリットノズルのスリットをマスク端面に押し当てて薬液を噴射し、併せて上方から端部に保護流体を噴射することにより、マスク表面を保護しつつ、端面のみ洗浄することができる。
【0062】
また、薬液のみを使用し、ブラシを使用しないので、マスクにブラシのカス等が付着することはない。薬液がマスク表面に行かないように制御して、端面に噴射するので、効率良くフォトレジストを除去することができる。
【実施例2】
【0063】
以下に、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法の実施例を示す。薬液2eとして、室温で濃度が100mg/Lのオゾン水を使用する。
【0064】
フォトレジストの種類が、化学増幅型ポジレジストの場合においては、1分間当たり約350ccのオゾン水を、約45℃に加温して約15分間噴射した。
【0065】
また、フォトレジストの種類が、化学増幅型ネガレジストの場合においては、1分間当たり約350ccのオゾン水を、約42℃に加温して約10分間噴射した。
【0066】
尚、マスク7の表面7aには、1分間当たり約1.5Lの保護用純水を流し、マスク7の裏面には、1分間当たり約1.0Lの保護用純水を流した。
【0067】
いずれの場合も、フォトレジストの膜厚は約3000〜9000オングストロームであり、洗浄後、実体顕微鏡で確認したところ、端面のフォトレジストは除去されていた。
【図面の簡単な説明】
【0068】
【図1】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の斜視図である。
【図2】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の流れを示すフローチャートである。
【図3】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク搬入時における装置の正面図である。
【図4】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の正面図である。
【図5】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の平面図である。
【図6】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク挟持時における装置の正面図である。
【図7】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル押当て時における装置の正面図である。
【図8】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置の正面図である。
【図9】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(片側供給)時における装置の平面図である。
【図10】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(両側供給)時における装置の平面図である。
【図11】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(中央供給)時における装置の平面図である。
【図12】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をA−Aで切断した側面断面図である。
【図13】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をB−Bで切断した正面断面図である。
【図14】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をC−Cで切断した平面断面図である。
【図15】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル退避及びクランプ解除時における装置の正面図である。
【図16】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー上昇時における装置の正面図である。
【図17】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク90度回転時における装置の平面図である。
【図18】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形の場合の平面図である。
【図19】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形でスリットノズルの形状がくの字型の場合の平面図である。
【符号の説明】
【0069】
1 フォトレジスト端面剥離・洗浄装置
2 左スリットノズル
2a 右スリットノズル
2b スリット
2c ノズル
2d 供給口
2e 薬液
2f スリットノズル
2g スリットノズル
3 左端部シャワーノズル
3a 右端部シャワーノズル
3b 保護流体
4 上クランプ
4a 下クランプ
4b 左前クランプピン
4c 右前クランプピン
4d 左後クランプピン
4e 右後クランプピン
5 マスクホルダー
6 表面用シャワーノズル
6a 裏面用シャワーノズル
6b 保護流体
7 マスク
7a 表面
7b 裏面
7c 左端面
7d 右端面
7e 前端面
7f 後端面
7g マスク
8 フォトレジスト端面剥離・洗浄方法
8a マスク搬入
8b マスクホルダー下降
8c マスク挟持
8d スリットノズル押当て
8e 保護流体噴射
8f 薬液噴射
8g スリットノズル退避
8h クランプ解除
8i マスクホルダー上昇
8j マスク90度回転
8k マスク搬出
【技術分野】
【0001】
本発明は、マスク端面に付着したレジストを、マスク表面を傷付けることなく、薬液のみで除去するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
集積回路を製造する過程においてマスクを作製する際は、石英板の表面にクロムで回路パターンを形成したマスクに、フォトレジスト(感光性樹脂)を塗布する。塗布機でマスクを高速回転させて表面に薄いレジスト膜を作るが、マスクの4つの端面にもレジストが付着してしまうため、洗浄してレジストを剥離する必要がある。
【0003】
特許文献1に記載されているように、カラーフォトレジストが一定の膜厚に塗布されたガラス基板の端面に残るカラーフォトレジストに残膜を、機械的に洗浄することの可能な洗浄装置の発明も公開されている。
【特許文献1】特開平05−265194号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に記載の発明は、端面に残るフォトレジストの残膜に、円筒状のスポンジローラーの外周面を一定方向に回転させつつ接触させて洗浄するため、スポンジのカス等が付着してしまうことがある。
【0005】
そこで、本発明は、マスク端面のレジストを機械的にブラシで擦るのではなく、薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、上記の課題を解決するために、コの字型に凹んだスリット2bにマスク7端面のフォトレジストを除去する薬液2eが噴射されるノズル2cを設置したスリットノズル2と、前記スリットノズル2上方に設けたマスク7端部に保護流体6bを噴射するシャワーノズル3とからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置1の構成とした。
【発明の効果】
【0007】
本発明は、以上の構成であるから以下の効果が得られる。第1に、スリットノズルのスリットをマスク端面に押し当てて薬液を噴射し、併せて上方から端部に保護流体を噴射することにより、マスク表面を保護しつつ、端面のみ洗浄することができる。
【0008】
第2に、薬液のみを使用し、ブラシを使用しないので、マスクにブラシのカス等が付着することはない。薬液がマスク表面に行かないように制御して、端面に噴射するので、効率良くフォトレジストを除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
本発明は、マスク端面に付着したレジストを、マスク表面を傷付けることなく、薬液のみで除去するという目的を、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置により実現した。
【実施例1】
【0010】
以下に、添付図面に基づいて、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法について詳細に説明する。図1は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の斜視図である。
【0011】
フォトレジスト端面剥離・洗浄装置1は、左スリットノズル2、右スリットノズル2a、左端部シャワーノズル3、右端部シャワーノズル3a、上クランプ4、下クランプ4a、マスクホルダー5、表面用シャワーノズル6及び裏面用シャワーノズル6a等からなる。
【0012】
左スリットノズル2及び右スリットノズル2aは、マスク7側の面をコの字型に溝を設けたスリット2bに、マスク7端面のフォトレジストを除去する薬液2eが噴射されるノズル2cを設置したものである。
【0013】
左端部シャワーノズル3及び右端部シャワーノズル3aは、スリットノズル2、2aの上方に設けたマスク7端部に保護流体3bを噴射する穴を複数空けた管である。
【0014】
上クランプ4及び下クランプ4aは、マスク7の前端及び後端を上下から挟んで固定する部材である。尚、下クランプ4aは高さ固定であり、上クランプ4が昇降することにより挟持及び解除を行う。
【0015】
マスクホルダー5は、マスク7の中心を回転軸として角度を90度回転させる。尚、回転させる際は、マスクホルダー5はマスク7を支えたまま上昇する。
【0016】
表面用シャワーノズル6及び裏面用シャワーノズル6aは、マスク7の後方から前方に向けてマスク7の表面7a及び裏面7bに保護流体6bを流す。尚、保護流体6bは、左右端部シャワーノズル3、3aで噴射する保護流体3bと同様のものである。
【0017】
マスク7は、表面7aにフォトレジストを塗布した基板である。左端面7c、右端面7d、前端面7e及び後端面7fに付着したフォトレジストは不要なので除去する。
【0018】
マスク7としては、主に6インチの石英基板が使用されるが、半導体基板、ガラス基板又は金属基板等を使用する場合も同様に、端面に付着したフォトレジストを除去することができる。
【0019】
薬液2eとしては、主にオゾン水が使用されるが、硫酸・過酸化水素水混合液(SPM)、弗酸(HF)・硝酸混合液、イソプロピルアルコール(IPA)等の有機溶剤を使用して洗浄することもできる。
【0020】
保護流体3b及び保護流体6bとしては、主に純水が使用されるが、空気、窒素ガス若しくはアルゴンガス等のガス流体、又は有機溶剤等を使用して薬液2eから保護することもできる。
【0021】
図2は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の流れを示すフローチャートである。
【0022】
フォトレジスト端面剥離・洗浄方法8は、マスク搬入8a、マスクホルダー下降8b、マスク挟持8c、スリットノズル押当て8d、保護流体噴射8e、薬液噴射8f、スリットノズル退避8g、クランプ解除8h、マスクホルダー上昇8i、マスク90度回転8j及びマスク搬出8kからなる。
【0023】
まず、マスク搬入8aからマスクホルダー上昇8iまでの工程で、マスク7の左端面7c及び右端面7dのフォトレジストを除去する。次に、マスク90度回転8jの工程を行い、マスクホルダー下降8bからマスクホルダー上昇8iまでの工程で、マスク7の前端面7e及び後端面7fのフォトレジストを除去する。最後に、マスク搬出8kの工程を行い、最初に戻る。
【0024】
マスク搬入8aの工程は、端面にフォトレジストが付着したマスク7を、マスクホルダー5の上に載せる。尚、マスク7をマスクホルダー5に載せる処理を、ロボット等を利用して自動的に行っても良い。
【0025】
マスクホルダー下降8bの工程は、マスクホルダー5を下降させ、マスク7を下クランプ4aの上に載せる。
【0026】
マスク挟持8cの工程は、上クランプ4を下降させ、マスク7を上クランプ4と下クランプ4aとで挟んで固定する。
【0027】
スリットノズル押当て8dの工程は、左スリットノズル2を右方向に水平移動させ、マスク7の左端面7cに押し当て、また、右スリットノズル2aを左方向に水平移動させ、マスク7の右端面7dに押し当てる。
【0028】
保護流体噴射8eの工程は、左端部シャワーノズル3からマスク7の左端部に保護流体3bを噴射し、薬液2eがマスク7の表面7aに掛からないように保護し、また、右端部シャワーノズル3aからマスク7の右端部に保護流体3bを噴射し、薬液2eがマスク7の表面7aに掛からないように保護する。
【0029】
さらに、表面用シャワーノズル6から保護流体6bをマスク7の表面7a全体に流し、薬液2eから保護すると共に、左端部シャワーノズル3及び右端部シャワーノズル3aから噴射した保護流体3bを一緒に洗い流す。また、裏面用シャワーノズル6aからも保護流体6bをマスク7の裏面7b全体に流し、薬液2eから保護する。
【0030】
薬液噴射8fの工程は、左スリットノズル2からマスク7の左端面7c(回転後は前端面7e)に薬液2eを噴射し、フォトレジストを除去し、また、右スリットノズル2aからマスク7の右端面7d(回転後は後端面7f)に薬液2eを噴射し、フォトレジストを除去する。
【0031】
スリットノズル退避8gの工程は、端面のフォトレジストを除去した後に、左スリットノズル2を左方向に水平移動させ、また、右スリットノズル2aを右方向に水平移動させる。
【0032】
クランプ解除8hの工程は、上クランプ4を上昇させ、上クランプ4と下クランプ4aによるマスク7の固定を解除する。
【0033】
マスクホルダー上昇8iの工程は、マスクホルダー5を上昇させ、マスク7を下クランプ4aからマスクホルダー5に載せ替え、マスクホルダー5に載せたままマスク7を上方に持ち上げる。
【0034】
ここで、マスク7の左端面7c及び右端面7dしか洗浄していない場合は、マスク90度回転8jの工程を行い、前端面7e及び後端面7fまで洗浄した場合は、マスク搬出8kの工程を行う。
【0035】
マスク90度回転8jの工程は、マスクホルダー5を90度回転させ、マスク7の前端面7eを左側(又は右側)の位置に、後端面7fを右側(又は左側)の位置に移動させる。尚、回転の向きはどちらでも良い。再度、端面のフォトレジストを除去するために、マスクホルダー下降8bの工程から繰り返す。
【0036】
マスク搬出8kの工程は、全ての端面のフォトレジストを除去したマスク7を、マスクホルダー5から取り除く。次に、別のマスク7を洗浄する場合は、マスク搬入8aの工程から繰り返す。尚、洗浄済みのマスク7を取り除き、未洗浄のマスク7をマスクホルダー5に載せる処理を、ロボット等を利用して自動的に行っても良い。
【0037】
図3は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク搬入時における装置の正面図である。
【0038】
マスク7を搬入し、マスクホルダー5の上に載せる。尚、装置は初期状態であり、左右スリットノズル3、3aは退避しており、上クランプ4及びマスクホルダー5は上昇した状態である。
【0039】
図4は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の正面図であり、図5は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の平面図である。
【0040】
マスク7が載ったマスクホルダー5を下降させ、マスク7を下クランプ4aに載せ替える。マスクホルダー5はマスク7を離してそのまま下降し、マスク7は下クランプ4aの左前クランプピン4b、右前クランプピン4c、左後クランプピン4d及び右後クランプピン4eで支えられる。
【0041】
図6は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク挟持時における装置の正面図である。
【0042】
上クランプ4を下降させ、上クランプ4と下クランプ4aとでマスク7を挟み込んで固定する。具体的には、上クランプ4の左前クランプピン4bと下クランプ4aの左前クランプピン4bでマスク7の前端左側を挟み、上クランプ4の右前クランプピン4cと下クランプ4aの右前クランプピン4cでマスク7の前端右側を挟み、上クランプ4の左後クランプピン4dと下クランプ4aの左後クランプピン4dでマスク7の後端左側を挟み、上クランプ4の右後クランプピン4eと下クランプ4aの右後クランプピン4eでマスク7の後端右側を挟む。
【0043】
図7は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル押当て時における装置の正面図である。
【0044】
左スリットノズル2のスリット2bをマスク7の左端面7cに押し当て、右スリットノズル2aのスリット2bをマスク7の右端面7dに押し当てる。尚、スリット2bの入口側の角は斜めにカットしており、カット面でマスク7の端面の角を受ける。
【0045】
図8は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置の正面図であり、図9は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(片側供給)時における装置の平面図であり、図10は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(両側供給)時における装置の平面図であり、図11は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(中央供給)時における装置の平面図である。
【0046】
左右端部シャワーノズル3、3aからマスク7端部に保護流体3bを噴射して表面7aに薬液2eが掛からないように保護しつつ、左右スリットノズル2、2aから薬液2eを噴射してマスク7の端面のフォトレジストを除去する。
【0047】
薬液2eの供給は、ノズル2cの一端を供給口2dとして薬液2eを供給する片側供給と、ノズル2cの両端を供給口2dとして薬液2eを供給する両側供給と、ノズル2cの中央を供給口2dとして薬液2eを供給する中央供給の方法がある。
【0048】
図12は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をA−Aで切断した側面断面図であり、図13は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をB−Bで切断した正面断面図であり、図14は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をC−Cで切断した平面断面図である。
【0049】
保護流体3bは、マスク7の上方において前方から後方に掛けて配置された左端部シャワーノズル3から噴射されるが、一定の間隔を置いて空けられた複数の穴から噴射されるため、マスク7の左端部に遮断層のようなものを形成し、端面から飛んでくる薬液2eを排除することができる。尚、右端部シャワーノズル3aについても同様である。
【0050】
また、表面用シャワーノズル6からマスク7の表面7aに保護流体6bを流すことにより、マスク7の表面7a全体が保護流体6bで覆われ、薬液2eから保護することができる。尚、裏面用シャワーノズル6aについても同様である。
【0051】
左スリットノズル2は断面がコの字型であり、右側面の中央が前方から後方に掛けて凹んだスリット2bを有する。スリット2bには、前方から後方に掛けてノズル2cが配置されており、一定の間隔を置いて空けられた複数の穴から薬液2eが噴射される。尚、右スリットノズル2aについても左右対称のため同様である。
【0052】
左スリットノズル2をマスク7の左端面7cに押し当てることでスリット2bを塞ぎ、薬液2eを噴射した際にマスク7の表面7aに上がらないように防止する。尚、マスク7の端面が押し当てられる箇所は、斜めにカットした面となっており、面と面ではなく、面と角で接するため、しっかりと押さえることができる。
【0053】
左スリットノズル2の長さは、マスク7の長さよりも長くなっており、はみ出した前部と後部から洗浄済みの薬液2eが排出される。尚、排出される際、マスク7の左端面7cと前端面7e又は後端面7fとの間の角も洗浄することができる。
【0054】
図15は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル退避及びクランプ解除時における装置の正面図であり、図16は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー上昇時における装置の正面図であり、図17は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク90度回転時における装置の平面図である。
【0055】
マスク7の左端面7c及び右端面7dのフォトレジストを除去したら、マスク7を90度回転させて、マスク7の前端面7e及び後端面7fのフォトレジストも除去する。4端面全てのフォトレジストを除去したら、マスク7を搬出する。
【0056】
まず、押し当てていた左右スリットノズル2、2aを退避し、上クランプ4を上昇させる。マスクホルダー5を上昇させて、マスク7を下クランプ4aからマスクホルダー5に載せ替え、そのまま上昇させる。
【0057】
マスク搬入8a時と同様の状態となり、マスクホルダー5を90度回転させることで、マスク7の前端面7e及び後端面7fに左右スリットノズル2、2aを当てることができるようになる。
【0058】
図18は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形の場合の平面図であり、図19は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形でスリットノズルの形状がくの字型の場合の平面図である。
【0059】
マスク7gは、正方形だけでなく、六角形など様々な形状のものであっても対応することが可能である。例えば、六角形の場合は、スリットノズル2fはそのままで、マスク7を60度ずつ回転させ、3回の洗浄を行うことで6つの端面のフォトレジストを除去することができる。
【0060】
また、スリットノズル2gをくの字型にして六角形の2端面を一度に洗浄するようにしても良い。まず、左右の4端面を洗浄し、60度回転させて残りの端面を洗浄することができる。
【0061】
以上のように、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法は、スリットノズルのスリットをマスク端面に押し当てて薬液を噴射し、併せて上方から端部に保護流体を噴射することにより、マスク表面を保護しつつ、端面のみ洗浄することができる。
【0062】
また、薬液のみを使用し、ブラシを使用しないので、マスクにブラシのカス等が付着することはない。薬液がマスク表面に行かないように制御して、端面に噴射するので、効率良くフォトレジストを除去することができる。
【実施例2】
【0063】
以下に、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法の実施例を示す。薬液2eとして、室温で濃度が100mg/Lのオゾン水を使用する。
【0064】
フォトレジストの種類が、化学増幅型ポジレジストの場合においては、1分間当たり約350ccのオゾン水を、約45℃に加温して約15分間噴射した。
【0065】
また、フォトレジストの種類が、化学増幅型ネガレジストの場合においては、1分間当たり約350ccのオゾン水を、約42℃に加温して約10分間噴射した。
【0066】
尚、マスク7の表面7aには、1分間当たり約1.5Lの保護用純水を流し、マスク7の裏面には、1分間当たり約1.0Lの保護用純水を流した。
【0067】
いずれの場合も、フォトレジストの膜厚は約3000〜9000オングストロームであり、洗浄後、実体顕微鏡で確認したところ、端面のフォトレジストは除去されていた。
【図面の簡単な説明】
【0068】
【図1】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の斜視図である。
【図2】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の流れを示すフローチャートである。
【図3】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク搬入時における装置の正面図である。
【図4】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の正面図である。
【図5】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の平面図である。
【図6】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク挟持時における装置の正面図である。
【図7】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル押当て時における装置の正面図である。
【図8】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置の正面図である。
【図9】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(片側供給)時における装置の平面図である。
【図10】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(両側供給)時における装置の平面図である。
【図11】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射(中央供給)時における装置の平面図である。
【図12】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をA−Aで切断した側面断面図である。
【図13】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をB−Bで切断した正面断面図である。
【図14】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をC−Cで切断した平面断面図である。
【図15】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル退避及びクランプ解除時における装置の正面図である。
【図16】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー上昇時における装置の正面図である。
【図17】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク90度回転時における装置の平面図である。
【図18】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形の場合の平面図である。
【図19】本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が6角形でスリットノズルの形状がくの字型の場合の平面図である。
【符号の説明】
【0069】
1 フォトレジスト端面剥離・洗浄装置
2 左スリットノズル
2a 右スリットノズル
2b スリット
2c ノズル
2d 供給口
2e 薬液
2f スリットノズル
2g スリットノズル
3 左端部シャワーノズル
3a 右端部シャワーノズル
3b 保護流体
4 上クランプ
4a 下クランプ
4b 左前クランプピン
4c 右前クランプピン
4d 左後クランプピン
4e 右後クランプピン
5 マスクホルダー
6 表面用シャワーノズル
6a 裏面用シャワーノズル
6b 保護流体
7 マスク
7a 表面
7b 裏面
7c 左端面
7d 右端面
7e 前端面
7f 後端面
7g マスク
8 フォトレジスト端面剥離・洗浄方法
8a マスク搬入
8b マスクホルダー下降
8c マスク挟持
8d スリットノズル押当て
8e 保護流体噴射
8f 薬液噴射
8g スリットノズル退避
8h クランプ解除
8i マスクホルダー上昇
8j マスク90度回転
8k マスク搬出
【特許請求の範囲】
【請求項1】
マスク側の面に形成した溝にマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項2】
マスクを、石英基板、半導体基板、ガラス基板又は金属基板のいずれかに代えたことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項3】
薬液が、オゾン水、硫酸・過酸化水素水混合液、弗酸・硝酸混合液又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項4】
保護流体が、水、空気、窒素ガス、アルゴンガス又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至3に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項5】
マスクの左端面及び右端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去し、マスクを90度回転させた後、マスクの前端面及び後端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去することを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄方法。
【請求項1】
マスク側の面に形成した溝にマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項2】
マスクを、石英基板、半導体基板、ガラス基板又は金属基板のいずれかに代えたことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項3】
薬液が、オゾン水、硫酸・過酸化水素水混合液、弗酸・硝酸混合液又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項4】
保護流体が、水、空気、窒素ガス、アルゴンガス又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至3に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
【請求項5】
マスクの左端面及び右端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去し、マスクを90度回転させた後、マスクの前端面及び後端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去することを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【公開番号】特開2008−147490(P2008−147490A)
【公開日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−334296(P2006−334296)
【出願日】平成18年12月12日(2006.12.12)
【出願人】(000003193)凸版印刷株式会社 (10,630)
【出願人】(301028325)株式会社つくばセミテクノロジー (15)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【国際特許分類】
【出願日】平成18年12月12日(2006.12.12)
【出願人】(000003193)凸版印刷株式会社 (10,630)
【出願人】(301028325)株式会社つくばセミテクノロジー (15)
【Fターム(参考)】
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