【課題】ＰＣＢ汚染フィルム素子の洗浄後に保管する場合における保管施設内の作業環境の悪化を防止することができるＰＣＢ汚染フィルム素子の処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】細分化（粉砕、裁断等）されたＰＣＢ汚染フィルム素子１１をＰＣＢ除去溶剤（ＩＰＡ、ＮＳ１００、ヘキサン等）１２で洗浄するＰＣＢ除去洗浄装置１３と、前記ＰＣＢ除去洗浄装置１３で洗浄した後、ＰＣＢ除去フィルム素子１４中の残留ＰＣＢ濃度を判定する卒業判定装置１５と、判定合格ＰＣＢ除去フィルム素子１４Ａが詰め込まれた網目状の袋に、ドライアイスを投入し、ドライアイスの昇華により二酸化炭素を発生しつつ、残留するＰＣＢ除去溶剤１２を揮発・除去させ、脱溶剤ＰＣＢ除去フィルム素子１４Ｂとする溶剤除去装置１６と、を具備する。 （もっと読む）

【解決手段】 複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させた状態において、対向位置の壁面３Ａ、３Ｂの噴射ノズル２１から同時に洗浄液１３を噴射させると、相互に対向する位置の噴射ノズル２１から噴射された洗浄液１３が洗浄槽３内で衝突し、その衝突位置Ｘに洗浄液１３による乱流が生じる。この状態において、調整手段２２が壁面３Ａの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に大きくするとともに、壁面３Ｂの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に小さくする。これにより、上記洗浄液１３の衝突位置Ｘが洗浄槽３内で右方へ移動して、洗浄槽３内の洗浄液１３が攪拌される。
【効果】 洗浄カゴＢ内の金属部品Ｗを満遍なく洗浄することができる。 （もっと読む）

【解決手段】 物品洗浄装置１は、洗浄液１３を貯溜した洗浄槽３と、洗浄液１３を攪拌する攪拌手段２１とを備えている。攪拌手段２１は、対向する壁面３Ａ，３Ａ’に配置された複数の噴射ノズル２２と、複数の電磁開閉弁２５とを備えており、それらの作動は制御手段２６によって制御される。
複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させ、その状態において制御手段２６がポンプＰを作動させるとともに所要箇所の電磁開閉弁２５を開放させる。すると、開放された電磁開閉弁２５と対応する噴射ノズル２２から洗浄液１３が噴射されて、洗浄槽３内の洗浄液１３は例えば時計方向に流動し、攪拌される。
【効果】 金属部品Ｗを効率的、かつ均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】
スプレー操作における管理の困難さがなく、またリンスと被洗浄面へのスプレーとの切替えという面倒な作業を不要とし、非常に操作性の良い吹付け洗浄方法の提供を目的とするものである。
【解決手段】
コンプレッサによる加圧状態において給水を２つの系統に分岐させ、１つの系統においては加圧した水を加温して高温とした高温水中に炭酸水素ナトリウムを添加しつつ、該炭酸水素ナトリウムを含んだ高温水を先端の吹付け用ノズルから被洗浄面へ吹付け、また他の系統においては加圧した水を先端の吹付け用ノズルから吹付けながら被洗浄面を水洗することにより、炭酸水素ナトリウムにより洗浄力を高めた高温の強アルカリ性洗浄液を被洗浄面へ吹付けて汚れを除去し、加圧した水による水洗によって洗浄液を温度低下させることにより弱アルカリ性として、洗浄液を廃棄しやすいようにしたことを特徴とする吹付け洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】極めて微細且つ高精度パターンを洗浄乾燥するための、フッ素イオンを遊離せず、且つ引火点を持たない洗浄乾燥剤、および基板の洗浄乾燥方法を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄乾燥剤は、一般式（１）


で表される含フッ素３級アルコールまたは一般式（２）


で表される含フッ素３級ジオールを含む。 （もっと読む）

【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置１００はウエハＷを上方から支持する回転自在の基板支持部１０と、基板支持部１０の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハＷに対して供給するトッププレートノズル１０ｎとを備えている。トッププレートノズル１０ｎは基板支持部１０に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０から離間した状態でトッププレートノズル１０ｎからリンス液をウエハＷに対して供給する。トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０に接近させた状態で、トッププレートノズル１０ｎからリンス液を基板支持部１０の下面に供給して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】金属の洗浄において、低起泡性能、防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）と下記一般式（２）で表される非イオン界面活性剤とを含有するものとする。




式（１）中、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜３０の数であり、式（２）中、ＰＯはオキシプロピレン基、ＥＯはオキシエチレン基、ｐ、ｒはそれぞれ平均付加モル数として、ｐ＝０〜５、ｒ＝３〜１５である。 （もっと読む）

【課題】 従来洗浄困難であった被洗浄面全域をコンタミが覆った場合であっても、該コンタミを好適に除去する。
【解決手段 】被洗浄面に対して垂直な方向から洗浄流体を吹き付ける第一の洗浄工程と、第一の洗浄工程により部分的に露出した被洗浄面に対して垂直とは異なる所定の角度を以って洗浄流体を吹き付ける第二の洗浄工程と、によって被洗浄面とコンタミとの剥離部分を拡大させてコンタミの除去を図る。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の２価イオンとを含む洗浄液７を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる２価の鉄イオンが酸化されて生成した３価の鉄イオンを紫外線照射２により還元する操作を行う。 （もっと読む）

【課題】機器や配管等の金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを良好に洗浄する難溶解性付着物の洗浄技術を提供する。
【解決手段】難溶解性付着物の洗浄剤は少なくともギ酸を成分に有し、金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを洗浄する。遠心薄膜乾燥機２０においてこの洗浄剤を供給する供給タンク３１が接続されている。例えば、乾燥処理の対象となる廃液が、ホウ酸カルシウムを主成分とする懸濁液である場合、洗浄剤のギ酸濃度が０．５〜１０ｗｔ％、好ましくは１〜５ｗｔ％の範囲に調整される。 （もっと読む）

【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートＴの転写パターン（洗浄領域）を当該転写パターンが下方に向くように保持機構４により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートＴの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部３１により形成し、前記通流空間に液収容部３１の底面に形成された第１の開口部３１ａからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部３１と転写パターン２外側領域との間に形成された隙間３０を介して排液部３２に排液する。リンス液は液収容部３１内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートＴの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】蒸気タービンやガスタービン本体あるいはガスタービン圧縮機のロータを分解せずに洗浄することにより、ロータの表面に付着した錆スケール、動翼にできた孔食や微小き裂内の錆、腐食性物質を取り除く。
【解決手段】タービンロータ１、３０の超音波洗浄方法において、ロータ植込部２ａに動翼３を植設した状態のタービンロータ１、３０を洗浄槽４Ａ，４Ｂ内で一部または全体を洗浄溶液５に浸け、タービンロータ１、３０を回転駆動モータ１０により連続回転駆動または間欠回転駆動させ、洗浄槽４Ａ、４Ｂ内の超音波振動子装置６に外部に設置した超音波発信器９から電力を供給して超音波振動させ、洗浄溶液にキャビテーションを発生させる。 （もっと読む）

【課題】蛋白質汚れに対して良好な洗浄力を示し、アルマイトに対する防食性に優れ、且つ保存安定性に優れたアルマイト用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン、（Ｂ）脂肪族カルボン酸及び／又はその塩、並びに、（Ｃ）ポリカルボン酸及び／又はその塩を、それぞれ特定範囲の質量％で含有するアルマイト用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 鉄道車両の車軸に配設されるころ軸受の内周面に塗布されている古いグリースの除去を十分に行う。
【解決手段】 本発明に係る鉄道用軸受洗浄装置１は、鉄道車両の車軸に配設される円環状のころ軸受Ｂの洗浄を行う。そして、鉄道用軸受洗浄装置１は、回転軸２４０に対して回転可能に配設され、ころ軸受Ｂの中心軸と回転軸２４０とが略同軸に配置されるように、ころ軸受Ｂを支持する回転支持部材２５０，２９０と、回転軸２４０の上端部に配設され、該回転軸２４０の内部を介して圧送される洗浄用液体を、ころ軸受Ｂの内周面に対して噴射可能な液体噴射手段２７０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面が傷ついて強度が低下するのを防止し、コーティング被膜の保護作用により、ガラス肉厚を薄くしてガラスびんを軽量化することも可能とするリターナブルガラスびんのコーティング方法を提供する。
【解決手段】リターナブル炭酸飲料びん等として使用することができる耐アルカリ性能を有するコーティング被膜をガラスびんの外周面に施す。硬化後被膜の最も薄い部分の膜厚が３０μｍ以上となるようにウレタンを主成分とする樹脂をガラスビンの外周面にコーティングする。コーティング液の粘度をＳ（ｍＰａ・ｓ）、ガラスびんの自転速度をＲ（ｒｐｍ）とした場合、Ｓ≦２２で、Ｓ・Ｒ^０．６／２．４≧６０とすることで、最も薄い部分の膜厚が３０μｍ以上となり、被膜に泡が入るおそれもない。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置の熱湯消毒に用いる熱湯供給装置のタンクが少しでも小型化できるように、タンク内の熱湯がタンクの下部に案内された給湯器の湯と混ざりにくくする。
【解決手段】洗浄装置１０の熱湯供給装置４０は、給湯管４２からタンク４１内に供給された湯をヒータ４４により熱湯に加熱した状態で、給湯管４２から供給された湯をガイド４３によりタンク４１下部に案内し、この案内された湯によりタンク４１内の水位を押し上げたときにオーバーフロー管４６から溢出する熱湯を貯水部に送出するものであり、タンク４１下部の熱湯がガイド４３の下端開口４３ｃからタンク４１下部に案内された湯によって撹拌されて上昇するのを抑制する撹拌抑制手段として、タンク４１の一側側に沿って立設させたガイド４３の下部をタンク４１の他側側に曲げ、ガイド４３の下端開口４３ｃをタンクの他側側に向けた。 （もっと読む）

【課題】水シミの発生を充分に抑制でき、しかも、安定に連続運転できる水切り乾燥方法を提供する。
【解決手段】処理槽４内の第１の処理液に、物品Ｗを浸漬させたまま、処理槽４内に第２の処理液を供給し、処理槽４の上部から第１の処理液を排出し、処理槽４内の第１の処理液を第２の処理液に置換する。物品Ｗを第２の処理液に浸漬させた状態に維持した後、第２の処理液から物品Ｗを引き上げる。この際に、第１の処理液としてアルコール水溶液を用い、第２の処理液として、フッ素系溶剤とアルコールとの混合液を用いる。 （もっと読む）

【課題】硫酸の温度の変更に容易に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、硫酸と過酸化水素水とを混合して生成したレジスト剥離液を基板Ｗの表面に供給する。この基板処理装置は、レジスト剥離液を基板に向けて吐出するノズル２と、ノズル２に向けて過酸化水素水を流通させる過酸化水素水供給路３０と、過酸化水素水供給路３０上においてノズル２までの流路長が異なる複数の混合位置ＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４にそれぞれ接続された複数の硫酸供給路３１，３２，３３，３４と、硫酸供給源２５からの硫酸を前記複数の硫酸供給路から選択された硫酸供給路に導入する硫酸供給路選択ユニット３５とを含む。 （もっと読む）

【課題】排水手段を熱湯の熱によって劣化させにくくするために、熱湯消毒工程の排水をする前に貯水部に水を供給したときに、被洗浄物に水がかからないようにする。
【解決手段】洗浄装置１０は、下部に洗浄水を貯える貯水部２１の上側に医療用器具を収容する洗浄槽２０と、洗浄槽２０の内周壁に形成された給水口２０ａから貯水部２１に給水源の水を洗浄水の一部として供給する洗浄水供給手段２８と、貯水部２１に湯を供給する熱湯供給手段４０と、医療用器具に貯水部２１の洗浄水を噴射する洗浄ノズル２４、２５と、貯水部２１の洗浄水を洗浄ノズル２４、２５に送出する洗浄ポンプ２７と、洗浄水を排水する排水手段として排水ポンプ３５を介装した排水管３４とを備え、洗浄槽２０には給水口２０ａから供給される水を洗浄槽２０内に収容した被洗浄物側に飛散するのを防止して貯水部２１に案内するガイド手段として、ガイドノズル３１とガイド板３２とを設けた。 （もっと読む）