【課題】
炊飯釜等の容器洗浄装置において、容器洗浄面の最短距離まで洗浄ノズルを挿入し、洗浄面を死角なく効率的に洗浄することを可能ならしめると共に装置の小型化を達成する。
【解決手段】
容器３の取手部３ａが挿入される凹状部４を有する反転回動可能な容器支持体２と、ノズルアーム７ａ先端に取り付けられ、容器支持体２が反転したとき、該容器支持体に取り付けられた容器３内部を洗浄する回転式洗浄ノズル７を設けて、回転式洗浄ノズル７を容器支持体２の反転に伴って容器３内に移行して挿入し、回転しながら下向き姿勢の容器３内部を全面にわたり洗浄し得る如く構成した。なお、支持体２内への容器３の挿入、洗浄後の支持体内からの取り出しはガイドローラーを使用し、バッチ式としてもよく、搬送コンベアを用いて連続式又は往復式としてもよい。 （もっと読む）

【課題】水道水等を貯留する貯水槽の広大な面積の垂直なコンクリート壁面に対して、ウォータージェットによる研掃を効率良く行えるようにする表面処理方法を提供する。
【解決手段】噴射ノズル１１がカバー体１２の内部に設けられたウォータージェット治具１３を壁面１０に沿ってスライド移動させてコンクリート壁面１０の研掃を行う表面処理方法であって、ウォータージェット治具１３は、横方向スライドガイド部１５に沿って左右方向にスライド移動する。横方向スライドガイド部１５は、ベースマシン１４に設けられた縦方向スライドガイド部１６に沿って上下方向にスライド移動する。ウォータージェット噴射ノズル１１をコンクリート壁面１０に対向させてベースマシン１４を据付た後に、ウォータージェット治具１３を一定速度で上下左右に移動させて、カバー体１２の３倍の研掃巾で、コンクリート壁面１０の下端部から上端部に至る領域の研掃を行なう。 （もっと読む）

【課題】被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、液供給機構１５と、液供給装置に接続され温度調節された液を吐出する吐出開口３０ａを有した供給ライン３０と、供給ラインの吐出開口を支持しする処理ユニット５０と、供給ラインに供給された液を液供給機構へ戻す戻しライン３５と、処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁３８ａと、を有する。液供給切り替え弁３８ａは、供給ライン３０上に設けられ、供給ライン３０から戻しライン３５を介して液供給機構１５へ戻る液の経路上に、位置している。 （もっと読む）

【課題】使い勝手の良い車用底面洗浄機セットを提供する。
【解決手段】車両の底面下の平面上を走行可能とする走行回転体１０と底面に向けて洗浄水を噴射する洗浄手段５とを有する洗浄ヘッド１と、先端に洗浄ヘッド１を取着すると共に基端のグリップ部６から洗浄水を供給する配管機能と洗浄ヘッド１の動きを制御する操作機能とを兼ね備えた長柄部材２と、を備え、走行回転体１０が異なる複数種類の洗浄ヘッド１Ａ，１Ｂと、形状が異なる複数種類の長柄部材２Ａ，２Ｂと、を組み合わせ自在としている。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板に所定温度に加熱された処理液を確実に供給することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理液が貯えられる貯液タンク３２と、貯液タンクに貯えられた処理液を基板に噴射するための上部ノズル体３１に給液管路３３を通じて供給する供給ポンプ３４と、給液管路に設けられ上部ノズル体に供給する処理液を所定温度に加熱する第１の加熱ヒータ３７と、上部ノズル体が基板の上面から外れた待機位置にあるときに供給ポンプによって上部ノズル体から噴射される処理液の温度を測定する温度センサ４３と、温度センサが測定した処理液の温度が所定温度であることを検出したときにその検出に基いて上部ノズル体を基板の上方に移動させて上記処理液を噴射させる制御装置を具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄殺菌の工程を行った後、殺菌効果を得るためのホールド時間に、他のコンテナに前記洗浄殺菌等の工程を行うことにより、時間を無駄にせず、効率的な殺菌洗浄処理を行う。
【解決手段】各コンテナの処理を行う中央の処理部Ａと、この処理部Ａに設置され液体を噴射するノズル１２を有する処理ヘッド８と、処理ヘッド８に洗浄液、殺菌剤等を切り換えて供給する液体供給手段１６と、前記処理部Ａの周囲に配置された４箇所のコンテナ載置部Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅを有している。第１載置部Ｂのコンテナ２Ｂに第１工程の洗浄液の噴射と第２工程の殺菌剤の噴射を行った後、そのまま放置する第３工程を行う。この第３工程の間に他の３個のコンテナ２Ｃ、２Ｄ、２Ｅの第１工程および第２工程を順次行う。その後、第１載置部Ｂから第４載置部Ｅの各コンテナ２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ、２Ｅに順次第４工程を行う。 （もっと読む）

【課題】基板を効率良く洗浄しながらも基板へのダメージを低減することができる二流体ノズルおよび該二流体ノズルを用いた基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３０１において、液体吐出口３２７を環状で且つスリット状に開口させるとともに、液体吐出口３２７の開口面積を１．８ｍｍ^２以上かつ３６ｍｍ^２以下に設定している。このため、従来ノズルに比べて単位時間当たりの供給液滴数を増加させ、基板Ｗを実用的かつ効率的に洗浄することが可能となる。しかも、液体吐出口３２７のスリット幅を０．１ｍｍ以上かつ１．０ｍｍ以下の範囲に設定しているので、基板Ｗへのダメージ発生に寄与する比較的大きな粒径の液滴が生成されるのを抑制することができる。したがって、基板Ｗを効率良く洗浄しながらも基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 化学工業、食品工業などにおける重合タンクや反応タンク、食品工業における発酵槽等の内部を洗浄するタンク洗浄装置において、タンクの上部にあるマンホールまでの昇降が容易なタンク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明のタンク洗浄装置１０は、タンク２０に設けられた円形の開口を塞ぐ曲面を備えた蓋状治具１６と、該蓋状治具に貫通突設された中空管１７と、該中空管内に挿通される高圧ホース１４と、前記高圧ホース１４をその軸線を中心として回転させるために床上に設けられたホース回転装置１２と、該高圧ホースの先端に設けられたノズル１５と、前記ホース回転装置と前記蓋状治具との間の床上にあって、前記高圧ホースを前進又は後退させるホース進退装置１３と、を有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】基板に供給する処理液を十分に除電するとともに、処理液を接地するためのアース線の長寿命化が実現できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に供給される薬液の流路を形成する接地継手４２０に炭素電極ＣＥの一端部Ｅ１が挿入される。接地継手４２０から突出する炭素電極ＣＥの他端部Ｅ２には、第２のユニオンナット５２０が取り付けられ、炭素電極ＣＥの第２の溝部ｄ２にストッパリングＳＲが取り付けられる。そして、炭素電極ＣＥの他端部Ｅ２側から接続樹脂ＦＥが取り付けられる。さらに、炭素電極ＣＥの他端部Ｅ２にアース線３１０の一端が接続される。アース線３１０の他端は接地されている。この状態で、炭素電極ＣＥの他端部Ｅ２がアース線保護ブロック５００に挿入される。そして、雄ねじを形成するアース線保護ブロック５００の突出部６０１に第２のユニオンナット５２０が締め付けられる。 （もっと読む）

【課題】基板上における液体の微粒子の密度を増大し、微粒子の基板への到達速度を調整可能とし、かつ、ノズルの内周面に微粒子が付着することを抑制する。
【解決手段】液滴を噴射する液滴生成ノズル部４１の先端には筒状の補助ノズル部４２が取り付けられる。補助ノズル部４２では、加速ガス導入口４２６ａを介して加速ガスが導入されるとともに、下側端部４２３にて液滴の噴射範囲が制限されることにより、基板上における液滴の密度を増大しつつ、液滴の基板への到達速度が調整可能となる。また、加速ガスが、中心軸Ｊ１に垂直な方向から下側端部４２３に向かって傾斜するとともに中心軸Ｊ１から逸れた方向に沿って内周面４２４の内部へと導入されることにより、加速ガスが内周面４２４に沿って旋回し、内周面４２４に液滴が付着することが抑制される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスク端面のレジストを薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】混合処理液による処理効率を向上させることができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、外筒２３および内筒２４を含む。内筒２４の下端には、硫酸を吐出する半円状の第１処理液吐出口３０と、過酸化水素水を吐出する半円状の第２処理液吐出口３４とが形成されている。外筒２３の下端と内筒２４の下端との間は、第１および第２処理液吐出口３０，３４を取り囲み、窒素ガスを吐出する円環状の環状気体吐出口３１となっている。第１および第２処理液吐出口３０，３４から吐出された硫酸および過酸化水素水は、環状気体吐出口３１から吐出された窒素ガスと混合されて液滴状態となり、ウエハＷの上空またはウエハＷの表面上で混合されて、活性の高いＳＰＭとしてウエハＷの表面に供給される。 （もっと読む）

【課題】基板へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理時間を短縮することができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、外筒２３、内筒２４および中間筒２５を含む。内筒２４の内部空間は、ＤＩＷが流通する直線状の第１処理液流路２６となっている。内筒２４と中間筒２５との間には、窒素ガスが流通する円筒状の気体流路２７が形成されおり、中間筒２５と外筒２３との間には、ＤＩＷが流通する円筒状の第２処理液流路２８が形成されている。第１処理液流路２６の下端は、ＤＩＷを吐出する円状の第１処理液吐出口３０となっており、気体流路２７の下端は、第１処理液吐出口３０を取り囲み窒素ガスを吐出する円環状の気体吐出口３１となっている。また、第２処理液流路２８の下端は、気体吐出口３１を取り囲みＤＩＷを吐出する円環状の第２処理液吐出口３４となっている。 （もっと読む）

【課題】この発明は、上述した事情に鑑み、簡単な作業で配管の洗浄と、配管の脱臭および殺菌処理をより一層効果的に行なうようにした配管の洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】微細気泡を大量に含んだ洗浄液を生成する工程と、前記微細気泡を大量に含んだ洗浄液をノズルを介し配管の内周面へ向けて噴射する工程とを少なくとも含んだ配管の洗浄方法である。
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【課題】パターン形成された基板に対し、基板上のパターンを損傷することなく、基板上のパーティクルを除去できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】加圧された気体と薬液を混合し、ミストを形成する２流体ノズルを用いて、パターン形成された基板にミストを吐出する処理を行うことで、基板上のパーティクルを除去することができる。その基板処理において、基板上のパターンのアスペクト比に対応して、気体流量を変更して処理を行う。好適な処理条件の１つとして、Ａｌ配線パターンが形成された基板上において、アスペクト比２．２未満のパターンが形成された基板に対して、気体流量８０Ｌ／ｍｉｎで処理を行う。アスペクト２．２以上のパターンが形成された基板に対して、気体流量６０Ｌ／ｍｉｎで処理を行う。 （もっと読む）

井戸洗浄装置が垂直供給管上で回転する水ノズルを備え、この垂直供給管が井戸の上部に回転可能に取付けられ、水中ポンプによって井戸からくみ上げられた液体流がこの垂直供給管に供給される。装置は噴霧器を保持するために流入管の上方に取付けられたハウジングを備え、この噴霧器は供給流によって脱臭蒸気を供給管内に引き込むことができる。水ノズルから送出される廃水を案内するために、水ノズルはその端部に取付けられたそらせ板を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成された液膜を短時間でしかも基板表面を汚染させることなく凍結させることができる基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法を提供する。
【解決手段】スピンチャック２に基板Ｗを略水平姿勢で保持した状態で基板表面ＷｆにＤＩＷを供給して基板表面Ｗｆに液膜を形成する。続いて、基板裏面Ｗｂに液体冷媒を供給しながら基板Ｗを回転させる。これにより、基板Ｗに接液する液体冷媒に作用する遠心力によって、基板Ｗの裏面全体に液体冷媒が均一に行き渡る。その結果、基板Ｗが裏面Ｗｂに接液する液体冷媒によって直接的に冷却され、液膜が比較的短時間で凍結する。また、基板表面Ｗｆに形成された液膜に液体冷媒が接触することがないため、基板表面Ｗｆを汚染させることなく液膜を凍結させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ごみピットにごみを投入したごみ収集車のテールゲート内部を洗浄するために好適な洗浄装置及びこの洗浄装置を備えたごみ焼却施設を提供することである。
【解決手段】本発明による洗浄装置は、洗浄水を噴出するノズル（５１）と、前記ノズルがごみピット（２０）を臨むプラットホーム（１０）に設けられた車止め（１１）よりごみピット側に配置されるように前記ノズルを支持する支持体（５２）とを具備している。このようなノズルの配置は、ごみ収集車（９０）のテールゲート（９１）内部を洗浄するために好適である。本発明によれば、作業者は、足場の悪いごみ投入口（２０ａ）周辺でテールゲート（９１）の清掃作業をしないで済む。本発明による洗浄装置は、ごみ焼却施設又はごみ焼却施設以外のごみ処理施設に適用可能である。 （もっと読む）

【課題】基板を回転しながら、処理液による基板の処理を均一に行う。
【解決手段】回転テーブル１０は、基板１を水平に支持して回転する。ノズル２０は、基板１の表面へ処理液を供給する。モータ駆動回路１８は、回転テーブル１０に連結されたモータ１７を駆動し、所定時間が経過した後、モータ１７を逆回転する。基板１を所定時間回転した後、基板１をそれまでと逆方向へ回転するので、処理液の流れる方向が途中で変化し、それまでの処理液の流れでは処理が進んでいなかった部分で処理が進行して、基板１の処理が均一に行われる。 （もっと読む）

【課題】基板上の異物残留を低減できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽１３内に設置される基板Ｗ上に処理液を供給する位置と該処理液を供
給する位置から退避する位置との間を移動可能な吐出口６ｂを有するノズル６を備えた基
板処理装置１において、ノズル６が処理液を供給する位置から退避したときに、吐出口６
ｂが配置される空間領域と基板Ｗが配置される空間領域とを遮断する可動な遮断手段８、
１４が設けられている。 （もっと読む）