【課題】水道水等を貯留する貯水槽の広大な面積の垂直なコンクリート壁面に対して、ウォータージェットによる研掃を効率良く行えるようにする表面処理方法を提供する。
【解決手段】噴射ノズル１１がカバー体１２の内部に設けられたウォータージェット治具１３を壁面１０に沿ってスライド移動させてコンクリート壁面１０の研掃を行う表面処理方法であって、ウォータージェット治具１３は、横方向スライドガイド部１５に沿って左右方向にスライド移動する。横方向スライドガイド部１５は、ベースマシン１４に設けられた縦方向スライドガイド部１６に沿って上下方向にスライド移動する。ウォータージェット噴射ノズル１１をコンクリート壁面１０に対向させてベースマシン１４を据付た後に、ウォータージェット治具１３を一定速度で上下左右に移動させて、カバー体１２の３倍の研掃巾で、コンクリート壁面１０の下端部から上端部に至る領域の研掃を行なう。 （もっと読む）

【課題】貯蔵プールの水中で、狭隘部や障害物があっても、目的とする部位の各種作業を遠隔地点から行うことにある。
【解決手段】水中を航行する遠隔操縦式移動体であるＲＯＶ６，１７，２６に電動ウインチ８と空気袋６ｂに接続された吸着パッド６ａや、内視鏡カメラ２２やサンプリングヘッド２９を装備させ、それらを貯蔵プール１の外側から操作卓１３等で操縦して、容器２を吸着パッド６ａで吸着保持して検査個所から移動させる作業や、内視鏡カメラ２２を用いてその移動跡での観察作業を行ったり、サンプリングヘッドで貯蔵プール壁面に付着した物質の採取作業を行ったりする。 （もっと読む）

【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】洗浄部近傍の吸引状態を確実に検出することが可能でかつ吸引気流に含まれる揮発性ガスと接触せずに安価な流量検出手段にて検出する。
【解決手段】揮発性洗浄剤が供給される洗浄部１０と、洗浄部１０を基板１の洗浄箇所に沿って相対移動させる移動手段３と、洗浄部１０の近傍の雰囲気を吸引して排出する排気手段２０とを備え、排気手段２０は、洗浄部１０の近傍に開口する吸込口２１と排気ファン２２を接続する吸引経路２３と、吸引経路２３に分岐接続された外気吸入経路２４と、外気吸入経路２４に吸入される吸入流量を検出する流量検出手段２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属帯表面の微小異物が金属帯へ圧入されることを防止し表面品質に優れた金属帯が圧延できる連続冷間圧延設備とその運転方法を提供する。
【解決手段】圧延機入側に連続圧延のための溶接機１と入側ルーパー３を配置し、この入側ルーパー３と圧延機４の間に金属帯の洗浄装置５を設置した連続冷間圧延設備。また、金属帯１０を圧延機入側にある連続圧延のための溶接機１を通過させた後、入側ルーパー３へ導き、次いで、入側ルーパー３と圧延機４の間に設置した金属帯の洗浄装置５により高圧水、高圧エアー、圧延液の高圧吹付け、ブラシのいずれかにより、又は２種以上により金属帯を洗浄して、金属帯表面に付着した微小異物を除去するようにした連続冷間圧延設備の運転方法。 （もっと読む）

【課題】清掃及び保守を考慮して改善されたブラシの利用を可能にすること。
【解決手段】本発明は、印刷シリンダー（２）の清掃装置（４）に関する。前記清掃装置は、前記印刷シリンダーの回転軸線に平行な回転軸線と、駆動シャフト（３０）に取り付けられたブラシ組立体（２８、２８ａ〜ｄ）とを有する回転式のブラシ（１２）を含む。前記ブラシ組立体は、連続して配置された複数の筒状のブラシ部材（２８ａ〜ｄ）を有する。前記清掃装置は、洗浄液を分配させ及び（又は）放出するために使用される少なくとも１つの通路（３８ａ、３８ｂ、４０ａ、４０ｂ）を有する、前記駆動シャフトに平行な搬送部材（６）有する。前記搬送部材は、１つの部材であり、前記通路を有する押出し成形された断面を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の両面の各周縁領域および周端面を洗浄することができ、かつ、各周縁領域における洗浄幅を容易に変更することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第１ブラシ８４および第２ブラシ８８を備えている。第１ブラシ８４の先端部の側面は、円錐面をなし、周縁領域１３および周端面１５に当接する洗浄面９８となっている。一方、第２ブラシ８８の先端部の側面は、円錐面をなし、周縁領域１４および周端面１５に当接する洗浄面９９となっている。第１ブラシ８４の洗浄面９８をウエハＷの表面の周縁領域１３および周端面１５に当接させて、その周縁領域１３および周端面１５を洗浄することができ、また、第２ブラシ８８の洗浄面９９をウエハＷの裏面の周縁領域１４および周端面１５に当接させて、その周縁領域１４および周端面１５を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の厚みにかかわらず、その少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】ブラシ１６は、略円板状の胴部２７と、この胴部２７の先端側の端面に接続され、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第１周端面当接部２８とを備えている。胴部２７の先端側の端面における第１周端面当接部２８の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第１洗浄面２９Ａとなっている。また、第１周端面当接部２８の側面が、基板の周端面に当接する第２洗浄面２９Ｂとなっている。第１洗浄面２９Ａを基板の表面の周縁領域に押し付けるとともに、ブラシ１６の第２洗浄面２９Ｂを基板の周端面に押し付けることにより、基板の一方表面の周縁領域および周端面を同時に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができ、かつ、その周縁領域における洗浄幅を容易に変更することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ１６を保持した揺動アーム１７は、ウエハＷの表面の周縁領域に対するブラシ１６の押し圧を調節するための押し圧保持機構３３を備えている。ブラシ１６は、鉛直軸線まわりに回転対称な略鼓状に形成され、中心軸線に対して４５度の傾斜角度を有して、下方ほど中心軸線に近づくように傾斜する第１洗浄面を有する。回転中のウエハＷの周縁部にブラシ１６の第１洗浄面が当接され、第１洗浄面がウエハＷの表面の周縁領域および周端面に押し付けられる。このとき、押し圧保持機構３３の働きによって、ブラシ１６の第１洗浄面は、予め設定された一定の押し圧で、ウエハＷの表面の周縁領域に押し付けられる。 （もっと読む）

【課題】連続して搬送するフィルムを少量の洗浄液で効率よく確実に洗浄する。
【解決手段】洗浄装置７０Ａには、感光ウエブ１８に新鮮な洗浄水Ｌを吹き付ける複数のパイプ８２Ａ、８２Ｂ、８４Ａ、８４Ｂと、感光ウエブ１８に吹き付けられた洗浄水Ｌを受ける第１洗浄槽７２を備えている。第１洗浄槽７２の隣には、隔壁１０８と仕切板１１０を挟んで第２洗浄槽７４が配設される。仕切板１１０は、上端部１１０Ａが隔壁１０８より高く形成され、下部に通水口１１２を備えている。第１洗浄槽７２の洗浄水Ｌは隔壁１０８からオーバーフローして仕切板１１０との間を通って通水口１１２から第２洗浄槽７４に導入される。感光ウエブ１８は、第２洗浄槽７４、第１洗浄槽７２、パイプ８２Ａ、８２Ｂ、８４Ａ、８４Ｂの順で搬送されるにしたがって、より清浄な洗浄水Ｌで洗浄される。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＰ装置を用いずに塗布膜を平坦化する。
【解決手段】基板処理システム１には，加熱炉において硬化される前に塗布絶縁膜Ａを硬化する平坦化装置１８が設けられる。平坦化装置１８には，ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック７１や，ウェハＷ上の塗布絶縁膜Ａに押し付けて塗布絶縁膜Ａの表面を削るブラシ１０１，ブラシ１０１をウェハＷの表面に沿って移動させる第１のアーム８１，ウェハＷの表面に加工液を供給する加工液供給ノズル１１０などが設けられる。硬化前の柔らかい状態の塗布絶縁膜Ａを有するウェハＷが平坦化装置１８に搬送され，ブラシ１０１を塗布絶縁膜Ａに押し当てて当該塗布絶縁膜Ａの表面に沿って移動させることにより，塗布絶縁膜Ａを所定の膜厚に平坦化できる。 （もっと読む）

【課題】大幅なコスト増加を招くことなく、複数の保持ローラの同期回転を保証することができ、これにより、基板のダメージおよび保持ローラの摩耗を低減できる基板保持回転装置を提供する。
【解決手段】第１基板保持回転装置１は、基板Ｗを保持して回転させるための４本の保持ローラ６〜８を備えている。４本の保持ローラ６〜８は、基板Ｗの周端面に沿って互いに所定間隔をあけて配置されている。保持ローラ６は、ベルト３３を介して保持ローラ駆動モータ３２からの駆動力が与えられるただ１つの駆動ローラである。４本の保持ローラ６〜８が基板Ｗを保持した状態で、保持ローラ駆動モータ３２が保持ローラ６を回転させることにより、基板Ｗが回転する。残り３本の保持ローラ７，８は、基板Ｗの回転に伴って、保持ローラ６と同期して従動回転する。また、保持ローラ６〜８は、いずれも、弾性材料であるゴムで形成されている。 （もっと読む）

【課題】 成膜処理終了後洗浄されるまでの時間を一定として基板を均一に処理することができ、また、成膜処理の終了した基板を清浄な状態で搬送することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理部を備えるＣＶＤ処理装置１２により成膜処理された基板を基板洗浄装置１により洗浄処理する基板処理装置であって、基板の表面を洗浄するための洗浄ユニット６、７と、基板の裏面を洗浄するための反転洗浄ユニット８と、基板搬送用カセット１２が載置される搬入搬出テーブル７３を備えたインデクサ部７５と、ＣＶＤ処理装置１２の処理部と、洗浄ユニット６、７と、第２洗浄ユニット８と、インデクサ部７５との間で基板を搬送する基板搬送機構４、７４とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板を均一に洗浄する。
【解決手段】基板搬送機構は、基板１をローラに搭載して所定の速度で移動する。ブラシユニットは、複数のディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを有し、ブラシユニットカバー２０内には、各ディスクブラシに対してブラシ高さ調整機構が設けられている。各ブラシ高さ調整機は、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシが基板に接触する圧力を等しくする。ブラシ移動機構は、ブラシユニットカバー２０に連結されたリンク１４によって、ブラシユニットをスライドレール１３に沿って所定距離だけ往復させる。 （もっと読む）

【課題】 表面形状が球面の光学物品を、研磨剤を用いることなく、効率良く洗浄する洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】 成形型Ｍを保持し回転させるスピンドル２と、表面が凹凸付弾性体からなり成形型Ｍの回転軸方向と交差する方向に回転する洗浄ローラ５と、洗浄液を成形型Ｍまたは洗浄ローラ５に供給する洗浄液吐出ノズル６を備え、成形型Ｍをスピンドル２の回転軸の周方向に回転し、洗浄ローラ５を成形型Ｍに圧接させながら、洗浄ローラ５の回転接線方向と成形型Ｍの回転接線方向とが互いに同一方向とならない方向に回転し、洗浄液吐出ノズル６から洗浄液を成形型Ｍまたは洗浄ローラ５に供給しながら、洗浄ローラ５を成形型Ｍの回転中心から外周方向、または外周から回転中心方向へ移動させて成形型Ｍの表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄処理をより効果的に、かつ均質に行うことを可能とした洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハＷ等の基板に洗浄処理を施す洗浄処理装置、例えば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａは、ウエハＷを略水平に保持して面内回転させる保持手段であるスピンチャック７１と、スピンチャック７１に保持された基板の上面を洗浄するブラシ７６ａ・７６ｂ等の洗浄手段と、ブラシ７６ａ・７６ｂを保持するブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂと、ブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂをブラシ７６ａ・７６ｂがスピンチャック７１に保持されたウエハＷ上の所定位置を移動するように駆動するアーム駆動機構７９ａ・７９ｂとを具備する。カップ７３の外側の所定位置には、２本のリンスノズル８６ａ・８６ｂが配設されており、それぞれウエハＷの所定位置に洗浄液またはリンス液を供給してウエハＷ上に液膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ロボットカメラにこびりついた汚れを効果的に除去し、かつ、短時間で一連の清掃作業を遠隔操作で行う。
【解決手段】 ロボットカメラに対向する位置に設置する筐体と、該筐体を設置場所に固定する脚とを有するロボットカメラメンテナンスボックスであって、前記筐体前面に設けられた開閉自在の扉と、前記筐体上部に設けられ、液体を噴射するウォッシャーノズルと、ロボットカメラのハウジングに設けられた前面ガラス面を洗浄する洗浄ブラシと、前記洗浄ブラシによる洗浄後のガラス面を乾燥させる乾燥手段と、前記筐体内部に設けられ、前後左右に動き、かつ前記洗浄ブラシ及び乾燥手段を支持する支持腕部材とを具備するものである。 （もっと読む）

【課題】容器自動洗浄装置から排出される洗浄物（水とインキ等の剥離物及び未溶解分の重曹）を、水と剥離物及び未溶解分の重曹とに分離し、両者の二次処理を行い易くすること。
【解決手段】横軸回りに回転させる容器１の内面に対して粉状の重曹を水と共に噴射し、洗浄して排出する洗浄物排出機構を設けた容器自動洗浄装置において、スクリューコンベア１４の排出口１４ｃの下方に、ハウジング１６を設け、該ハウジング１６の内部に、多数の開口を有するバケット１５を回転自在に設け、バケット１５を回転駆動する駆動手段１８を設け、且つ、前記バケット１５に水透過性に優れた回収袋１７を着脱自在に設けた。 （もっと読む）