基板洗浄装置、基板洗浄方法、及び基板の製造方法
【課題】基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板を均一に洗浄する。
【解決手段】基板搬送機構は、基板１をローラに搭載して所定の速度で移動する。ブラシユニットは、複数のディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを有し、ブラシユニットカバー２０内には、各ディスクブラシに対してブラシ高さ調整機構が設けられている。各ブラシ高さ調整機は、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシが基板に接触する圧力を等しくする。ブラシ移動機構は、ブラシユニットカバー２０に連結されたリンク１４によって、ブラシユニットをスライドレール１３に沿って所定距離だけ往復させる。
【解決手段】基板搬送機構は、基板１をローラに搭載して所定の速度で移動する。ブラシユニットは、複数のディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを有し、ブラシユニットカバー２０内には、各ディスクブラシに対してブラシ高さ調整機構が設けられている。各ブラシ高さ調整機は、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシが基板に接触する圧力を等しくする。ブラシ移動機構は、ブラシユニットカバー２０に連結されたリンク１４によって、ブラシユニットをスライドレール１３に沿って所定距離だけ往復させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板等を洗浄する基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に係り、特にブラシを用い、大型の基板の洗浄に好適な基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等のようなフラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板の製造工程では、現像やエッチング等の薬液処理により、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成する。このとき、基板上に汚れや異物が存在すると、回路パターンやカラーフィルタ等が良好に形成されないため、基板を製造工程へ受け入れる際、及び薬液処理の前又は後には、基板の洗浄が必要である。基板の洗浄及び薬液処理を含む一連の処理は、ローラコンベア等の基板搬送機構を用いて、基板を移動しながら行われることが多い。
【０００３】
基板の洗浄は、一般に基板上の汚れや異物、薬液等を洗浄水（純水）で洗い流して行われるが、汚れや異物が多い場合、あるいは特に高い洗浄力が望まれる場合には、ブラシ等の洗浄手段を用いて基板上の汚れや異物を機械的に除去する。基板を移動しながらブラシを用いて基板の洗浄を行うものとして、特許文献１及び特許文献２に記載の技術がある。特許文献１には、ロールブラシを用いた基板洗浄装置が開示されている。また、特許文献２には、ディスクブラシを用いたガラス板洗浄装置と、ロールブラシを用いたガラス板洗浄装置とが開示されている。
【特許文献１】特開平１０−３３７５４１号公報
【特許文献２】特開２００３−１１２９５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年のフラットパネルディスプレイ装置の大画面化に伴って基板が大型化すると、特許文献１及び特許文献２のようにロールブラシを用いる場合、基板の幅に合わせてロールブラシを長尺化しなければならない。また、特許文献２のようにディスクブラシを用いる場合、基板の幅方向に配置するディスクブラシの数を増加させ、または各ディスクブラシの直径を大きくしなければならない。
【０００５】
しかしながら、ロールブラシを長尺化すると、ロールブラシの自重が増加し、ロールブラシにたわみが発生するため、ロールブラシの中央部と両端部とで基板に接触する圧力が異なり、基板を均一に洗浄することができなかった。同様に、ディスクブラシの数を増加させ、または各ディスクブラシの直径を大きくすると、ディスクブラシの総重量が増加し、ディスクブラシを共通に保持する部材にたわみが発生するため、各ディスクブラシが基板に接触する圧力が異なり、基板を均一に洗浄することができなかった。
【０００６】
さらに、特許文献１及び特許文献２のようにロールブラシを用いる場合、通常、ロールブラシは、洗浄力を高くするため、基板の移動方向と逆方向に回転させる。このため、基板には、ロールブラシの回転によって、基板の移動を妨げようとする抵抗が加わる。基板が大型化すると、基板とロールブラシとの接触面積が増加して、基板の移動を妨げようとする抵抗が大きくなるため、基板の移動速度が低下し、あるいは基板を移動するのが困難となる。基板の移動速度を確保するためには、ロールブラシが基板に接触する圧力を小さくする必要があり、洗浄力が低下するという問題があった。
【０００７】
本発明の課題は、基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板を均一に洗浄することである。また、本発明の課題は、品質の高い大型基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板洗浄装置は、基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って複数配置され、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシと、ディスクブラシを回転させる一つ又は複数のブラシ駆動用モータと、各ディスクブラシに対して設けられ、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整するブラシ高さ調整手段とを備えたものである。
【０００９】
また、本発明の基板洗浄方法は、基板を移動しながら、基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシを複数配置し、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシを同じ圧力で基板に接触させながら回転させるものである。
【００１０】
ディスクブラシは基板の表面に垂直な軸で回転するので、ディスクブラシの回転により基板に加わる力は、基板の移動方向にも逆方向にも同じとなり、互いに打ち消される。従って、基板の移動を妨げようとする抵抗が小さく、基板が大型化してもディスクブラシが基板に接触する圧力を小さくする必要がないので、洗浄力が低下しない。そして、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシを同じ圧力で基板に接触させながら回転させることにより、大型の基板が均一に洗浄される。
【００１１】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、ブラシ駆動用モータの一つから、二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達する伝達手段を備えたものである。また、本発明の基板洗浄方法は、一つのブラシ駆動用モータから二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達して、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させるものである。
【００１２】
一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることにより、ブラシ駆動用モータが少なくて済む。また、ブラシ駆動用モータが直接取り付けられていないディスクブラシでは、ブラシシャフトの内部に洗浄水を通して、ディスクブラシから基板へ洗浄水を供給することが可能となる。
【００１３】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、各ブラシ高さ調整手段が、ディスクブラシを上下に移動可能に保持するブラシ保持機構と、ブラシ保持機構に保持されたディスクブラシを上下に移動させるカムと、カムを駆動するサーボモータと、サーボモータを制御する制御装置とを備えたものである。また、本発明の基板洗浄方法は、各ディスクブラシを上下に移動可能に保持し、サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させて、各ディスクブラシの高さを調整するものである。
【００１４】
サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させることにより、各ディスクブラシの高さが精密に調整される。
【００１５】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させるブラシ移動手段を備えたものである。また、本発明の基板洗浄方法は、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させるものである。
【００１６】
複数のディスクブラシを用いて洗浄を行う場合、各ディスクブラシの隙間をなくすため、例えば特許文献２では、ディスクブラシを前後２列に並べ、１列目のディスクブラシの間に２列目のディスクブラシを配置している。本発明は、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させることにより、ディスクブラシを複数列に並べることなく、基板全体を洗浄する。基板上の汚れや異物に対し、一つのディスクブラシと、そのディスクブラシの軸を挟んだ反対側又は隣接するディスクブラシとから異なった向きの力が加わり、洗浄力が向上する。
【００１７】
本発明の基板の製造方法は、上記のいずれかの基板洗浄装置又は基板洗浄方法を用いて基板を洗浄した後、所定の薬液処理を行うものである。大型の基板が高い洗浄力で均一に洗浄され、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等が良好に形成される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の基板洗浄方法及び基板洗浄装置によれば、基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板を均一に洗浄することができる。
【００１９】
さらに、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることにより、ブラシ駆動用モータが少なくて済む。また、ブラシ駆動用モータが直接取り付けられていないディスクブラシでは、ブラシシャフトの内部に洗浄水を通して、ディスクブラシから基板へ洗浄水を供給することが可能となる。
【００２０】
さらに、サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させることにより、各ディスクブラシの高さを精密に調整することができる。
【００２１】
さらに、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させることにより、少ないディスクブラシで基板全体を洗浄することができ、かつ洗浄力を向上させることができる。
【００２２】
本発明の基板の製造方法によれば、大型の基板を高い洗浄力で均一に洗浄して、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を良好に形成することができる。従って、品質の高い大型基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の主要部の外観図である。また、図２（ａ）は本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の正面図、図２（ｂ）は同上面図である。基板洗浄装置は、チャンバー１０、基板搬送機構、ブラシユニット、及びブラシ移動機構を含んで構成されている。なお、ブラシユニットは、基板搬送機構により移動される基板１の上方及び下方にそれぞれ配置されるが、図１及び図２では、基板１の上方に配置したブラシユニットのみが示され、基板１の下方に配置したブラシユニットは省略されている。また、図１では、チャンバー１０及び基板搬送機構が省略され、ブラシユニット及びブラシ移動機構の一部のみが示されている。
【００２４】
図２において、基板搬送機構は、ローラシャフト１１及びローラ１２を含んで構成されている。図２（ｂ）に示すように、チャンバー１０内には、複数のローラシャフト１１が基板移動方向に所定の間隔で設置されている。各ローラシャフト１１には複数のローラ１２が取り付けられており、ローラ１２には基板１が搭載されている。基板搬送機構は、チャンバー１０外の図示しない駆動手段により各ローラシャフト１１を所定の速度で回転させて、ローラ１２に搭載した基板１を基板移動方向へ所定の速度で移動する。
【００２５】
ブラシユニットは、複数のディスクブラシ、ブラシユニットカバー２０、及びブラシユニットカバー２０内に設けられた複数のブラシ高さ調整機構を含んで構成されている。なお、本実施の形態では、ブラシユニットに６個のディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆが設けられているが、ディスクブラシの数はこれに限るものではなく、基板１の幅に応じて適宜決定される。
【００２６】
図３は、ディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構及びディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の正面図である。また、図４（ａ）はディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構の側面図、図４（ｂ）はディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の側面図である。なお、図３はブラシユニットカバー２０を取り外した状態を示しており、ディスクブラシ２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆのブラシ高さ調整機構は省略されている。
【００２７】
本実施の形態は、一つのブラシ駆動用モータで二つのディスクブラシを回転させる例を示している。図３において、ディスクブラシ２ａはブラシ駆動用モータ２１の回転軸に取り付けられており、ディスクブラシ２ｂはブラシシャフト２４に取り付けられている。ブラシ駆動用モータ２１及びブラシシャフト２４は、後述するブラシ高さ調整機構によって、軸が基板１の表面と垂直になるように設置されている。ブラシ駆動用モータ２１の駆動力は、回転軸に取り付けられたディスクブラシ２ａへ伝達されると共に、回転軸に取り付けられたベルト車、ベルト２２、及びブラシシャフト２４に取り付けられたベルト車２３（図５参照）から成る伝達機構によって、ディスクブラシ２ｂへ伝達される。
【００２８】
ディスクブラシ２ｃとディスクブラシ２ｄ、ディスクブラシ２ｅとディスクブラシ２ｆについても、同様にして、ディスクブラシ２ｃに取り付けられたブラシ駆動用モータの駆動力がディスクブラシ２ｄへ伝達され、ディスクブラシ２ｅに取り付けられたブラシ駆動用モータの駆動力がディスクブラシ２ｆへ伝達される。
【００２９】
なお、本実施の形態では一つのブラシ駆動用モータで二つのディスクブラシを回転させているが、一つのブラシ駆動用モータで三つ以上のディスクブラシを回転させてもよい。例えば、一つのブラシ駆動用モータでディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃを回転させ、別のブラシ駆動用モータでディスクブラシ２ｄ，２ｅ，２ｆを回転させてもよい。あるいは、一つのブラシ駆動用モータで全てのディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを回転させてもよい。また、ディスクブラシの数によっては、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させた上で、余ったディスクブラシについては一つのブラシ駆動用モータで回転させることもできる。
【００３０】
図５は、図４（ｂ）のＡ−Ａ部の断面図である。本実施の形態は、ディスクブラシ２ｂの中央部に洗浄水の吐出口４を設けた例を示している。ディスクブラシ２ｂが取り付けられたブラシシャフト２４の内部には、洗浄水の通路が形成されている。ブラシシャフト２４は、ベアリング２５により回転可能に支持されている。ブラシシャフト２４の上端は、ロータリジョイント４１によって配管４０と接続されている。配管４０は、ロータリジョイント４１を介し、ブラシシャフト２４へ洗浄水を供給する。供給された洗浄水は、ブラシシャフト２４の内部の通路を通って、ディスクブラシ２ｂの吐出口４から基板１の表面へ吐出される。ディスクブラシ２ｄとディスクブラシ２ｆについても同様である。
【００３１】
なお、後述するブラシ高さ調整機構の働きによって、ディスクブラシ２ｂはブラシシャフト２４と共に上下に移動可能となっている。ブラシシャフト２４の上下の移動に対応するためは、ロータリジョイント４１に上下に伸縮する機能を設けてもよく、あるいは配管４０を柔軟性のある材料で構成してもよい。
【００３２】
本実施の形態によれば、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることにより、ブラシ駆動用モータが少なくて済む。また、ブラシ駆動用モータが直接取り付けられていないディスクブラシでは、ブラシシャフトの内部に洗浄水を通して、ディスクブラシから基板へ洗浄水を供給することが可能となる。
【００３３】
図３及び図４において、各ブラシ高さ調整機構は、ブラシ保持機構、カム３５、サーボモータ３６、及び制御装置３７を含んで構成されている。なお、制御装置３７は、ブラシユニットカバー２０の外に設置されており、図４では省略されている。
【００３４】
ブラシ保持機構は、ベース３０、スライドバー３１、ばね３２、上板３３、及びカム動作ブレード３４を含んで構成されている。図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、ベース３０はブラシユニットカバー２０の内壁に固定されている。ベース３０の上方には、４本のスライドバー３１及びばね３２によって、上板３３が支えられている。スライドバー３１は、ベース３０に設けた貫通穴を通ってスライドする。ばね３２は、上板３３を図面上方向へ付勢し、上板３３の上面に取り付けられたカム動作ブレード３４をカム３５に押し付ける。上板３３の下面には、ブラシ駆動用モータ２１又はブラシシャフト２４が取り付けられている。
【００３５】
図３において、サーボモータ３６の駆動によってカム３５が回転すると、カム３５に押し付けられたカム動作ブレード３４が上下に移動し、上板３３が上下に移動する。これにより、ブラシ高さ調整機構は、ブラシ駆動用モータ２１と共にディスクブラシ２ａを上下に移動させて、ディスクブラシ２ａの高さを調整し、またはブラシシャフト２４と共にディスクブラシ２ｂを上下に移動させて、ディスクブラシ２ｂの高さを調整する。
【００３６】
制御装置３７は、各サーボモータ３６を制御することにより、各ブラシ高さ調整手段でディスクブラシ２ａ，２ｂの高さをそれぞれ独立に調整して、ディスクブラシ２ａ，２ｂが基板１に接触する圧力を等しくする。制御装置３７は、ディスクブラシ２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆについても、同様にして、各ブラシ高さ調整手段で各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシが基板１に接触する圧力を等しくする。
【００３７】
なお、制御装置３７によるサーボモータ３６の制御については、例えば特開平１０−３３７５４１号公報に記載された駆動制御装置によるカム駆動モータの制御と同様にして行うことができる。
【００３８】
本実施の形態によれば、サーボモータ３６により駆動されるカム３５で各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを上下に移動させることにより、各ディスクブラシの高さを精密に調整することができる。
【００３９】
図２（ａ）及び図２（ｂ）において、ブラシ移動機構は、スライドレール１３、リンク１４、リンク駆動板１５、及びリンク駆動用モータ１６を含んで構成されている。チャンバー１０内には、基板１の基板移動方向とほぼ直交する方向に２本のスライドレール１３が基板１と平行に設置されている。２本のスライドレール１３にはブラシユニットカバー２０が搭載され、ブラシユニットカバー２０の上部にはリンク１４の一端が連結されている。リンク１４の他端はリンク駆動板１５に連結されており、リンク駆動用モータ１６の駆動によりリンク駆動板１５が回転すると、リンク１４はブラシユニットカバー２０をスライドレール１３に沿って移動させる。これによりブラシ移動機構は、ブラシユニットをブラシ移動方向に所定距離だけ往復させる動作を繰り返す。
【００４０】
ブラシユニットカバー２０内に設けた各ブラシ高さ調整手段で各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの高さをそれぞれ独立に調整した後、基板搬送機構により基板１を基板移動方向へ移動しながら、ブラシ移動機構によりブラシユニットをブラシ移動方向に所定距離だけ往復させる。
【００４１】
一例として、基板１の移動速度を２．７ｍ／ｍｉｎ、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの回転速度を毎分３００回転、ブラシユニットの往復を最大で毎分３０回程度とする。また、ブラシユニットを往復させる距離は、ディスクブラシの半径に各ディスクブラシの隙間の距離を加えた長さ以上とする。
【００４２】
ブラシユニットは、ディスクブラシ２ｂ，２ｄ，２ｆの吐出口４から基板１へ洗浄水を供給しながら、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆにより基板１を洗浄する。このとき、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆは基板１の表面に垂直な軸で回転するので、各ディスクブラシの回転により基板１に加わる力は、基板移動方向にも逆方向にも同じとなり、互いに打ち消される。従って、基板１の移動を妨げようとする抵抗が小さく、基板１が大型化しても各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆが基板１に接触する圧力を小さくする必要がないので、洗浄力が低下しない。そして、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシを同じ圧力で基板１に接触させながら回転させることにより、基板１が均一に洗浄される。
【００４３】
従って、以上説明した実施の形態によれば、基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板１を均一に洗浄することができる。
【００４４】
さらに、ブラシユニットをブラシ移動方向に所定距離だけ往復させることにより、ディスクブラシを複数列に並べることなく、基板１全体が洗浄される。そして、基板１上の汚れや異物に対し、一つのディスクブラシと、そのディスクブラシの軸を挟んだ反対側又は隣接するディスクブラシとから異なった向きの力が加わり、洗浄力が向上する。
【００４５】
従って、以上説明した実施の形態によれば、少ないディスクブラシで基板１全体を洗浄することができ、かつ洗浄力を向上させることができる。
【００４６】
本発明の基板洗浄装置又は基板洗浄方法を用いて基板１を洗浄した後、所定の薬液処理を行うことにより、大型の基板１を高い洗浄力で均一に洗浄して、基板１上に回路パターンやカラーフィルタ等を良好に形成することができる。従って、品質の高い大型基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の主要部の外観図である。
【図２】図２（ａ）は本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の正面図、図２（ｂ）は同上面図である。
【図３】ディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構及びディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の正面図である。
【図４】図４（ａ）はディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構の側面図、図４（ｂ）はディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の側面図である。
【図５】図４（ｂ）のＡ−Ａ部の断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１ 基板
２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ ディスクブラシ
４ 吐出口
１０ チャンバー
１１ ローラシャフト
１２ ローラ
１３ スライドレール
１４ リンク
１５ リンク駆動板
１６ リンク駆動用モータ
２０ ブラシユニットカバー
２１ ブラシ駆動用モータ
２２ ベルト
２３ ベルト車
２４ ブラシシャフト
２５ ベアリング
３０ ベース
３１ スライドバー
３２ ばね
３３ 上板
３４ カム動作ブレード
３５ カム
３６ サーボモータ
３７ 制御装置
４０ 配管
４１ ロータリージョイント
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板等を洗浄する基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に係り、特にブラシを用い、大型の基板の洗浄に好適な基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等のようなフラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板の製造工程では、現像やエッチング等の薬液処理により、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成する。このとき、基板上に汚れや異物が存在すると、回路パターンやカラーフィルタ等が良好に形成されないため、基板を製造工程へ受け入れる際、及び薬液処理の前又は後には、基板の洗浄が必要である。基板の洗浄及び薬液処理を含む一連の処理は、ローラコンベア等の基板搬送機構を用いて、基板を移動しながら行われることが多い。
【０００３】
基板の洗浄は、一般に基板上の汚れや異物、薬液等を洗浄水（純水）で洗い流して行われるが、汚れや異物が多い場合、あるいは特に高い洗浄力が望まれる場合には、ブラシ等の洗浄手段を用いて基板上の汚れや異物を機械的に除去する。基板を移動しながらブラシを用いて基板の洗浄を行うものとして、特許文献１及び特許文献２に記載の技術がある。特許文献１には、ロールブラシを用いた基板洗浄装置が開示されている。また、特許文献２には、ディスクブラシを用いたガラス板洗浄装置と、ロールブラシを用いたガラス板洗浄装置とが開示されている。
【特許文献１】特開平１０−３３７５４１号公報
【特許文献２】特開２００３−１１２９５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年のフラットパネルディスプレイ装置の大画面化に伴って基板が大型化すると、特許文献１及び特許文献２のようにロールブラシを用いる場合、基板の幅に合わせてロールブラシを長尺化しなければならない。また、特許文献２のようにディスクブラシを用いる場合、基板の幅方向に配置するディスクブラシの数を増加させ、または各ディスクブラシの直径を大きくしなければならない。
【０００５】
しかしながら、ロールブラシを長尺化すると、ロールブラシの自重が増加し、ロールブラシにたわみが発生するため、ロールブラシの中央部と両端部とで基板に接触する圧力が異なり、基板を均一に洗浄することができなかった。同様に、ディスクブラシの数を増加させ、または各ディスクブラシの直径を大きくすると、ディスクブラシの総重量が増加し、ディスクブラシを共通に保持する部材にたわみが発生するため、各ディスクブラシが基板に接触する圧力が異なり、基板を均一に洗浄することができなかった。
【０００６】
さらに、特許文献１及び特許文献２のようにロールブラシを用いる場合、通常、ロールブラシは、洗浄力を高くするため、基板の移動方向と逆方向に回転させる。このため、基板には、ロールブラシの回転によって、基板の移動を妨げようとする抵抗が加わる。基板が大型化すると、基板とロールブラシとの接触面積が増加して、基板の移動を妨げようとする抵抗が大きくなるため、基板の移動速度が低下し、あるいは基板を移動するのが困難となる。基板の移動速度を確保するためには、ロールブラシが基板に接触する圧力を小さくする必要があり、洗浄力が低下するという問題があった。
【０００７】
本発明の課題は、基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板を均一に洗浄することである。また、本発明の課題は、品質の高い大型基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板洗浄装置は、基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って複数配置され、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシと、ディスクブラシを回転させる一つ又は複数のブラシ駆動用モータと、各ディスクブラシに対して設けられ、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整するブラシ高さ調整手段とを備えたものである。
【０００９】
また、本発明の基板洗浄方法は、基板を移動しながら、基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシを複数配置し、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシを同じ圧力で基板に接触させながら回転させるものである。
【００１０】
ディスクブラシは基板の表面に垂直な軸で回転するので、ディスクブラシの回転により基板に加わる力は、基板の移動方向にも逆方向にも同じとなり、互いに打ち消される。従って、基板の移動を妨げようとする抵抗が小さく、基板が大型化してもディスクブラシが基板に接触する圧力を小さくする必要がないので、洗浄力が低下しない。そして、各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシを同じ圧力で基板に接触させながら回転させることにより、大型の基板が均一に洗浄される。
【００１１】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、ブラシ駆動用モータの一つから、二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達する伝達手段を備えたものである。また、本発明の基板洗浄方法は、一つのブラシ駆動用モータから二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達して、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させるものである。
【００１２】
一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることにより、ブラシ駆動用モータが少なくて済む。また、ブラシ駆動用モータが直接取り付けられていないディスクブラシでは、ブラシシャフトの内部に洗浄水を通して、ディスクブラシから基板へ洗浄水を供給することが可能となる。
【００１３】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、各ブラシ高さ調整手段が、ディスクブラシを上下に移動可能に保持するブラシ保持機構と、ブラシ保持機構に保持されたディスクブラシを上下に移動させるカムと、カムを駆動するサーボモータと、サーボモータを制御する制御装置とを備えたものである。また、本発明の基板洗浄方法は、各ディスクブラシを上下に移動可能に保持し、サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させて、各ディスクブラシの高さを調整するものである。
【００１４】
サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させることにより、各ディスクブラシの高さが精密に調整される。
【００１５】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させるブラシ移動手段を備えたものである。また、本発明の基板洗浄方法は、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させるものである。
【００１６】
複数のディスクブラシを用いて洗浄を行う場合、各ディスクブラシの隙間をなくすため、例えば特許文献２では、ディスクブラシを前後２列に並べ、１列目のディスクブラシの間に２列目のディスクブラシを配置している。本発明は、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させることにより、ディスクブラシを複数列に並べることなく、基板全体を洗浄する。基板上の汚れや異物に対し、一つのディスクブラシと、そのディスクブラシの軸を挟んだ反対側又は隣接するディスクブラシとから異なった向きの力が加わり、洗浄力が向上する。
【００１７】
本発明の基板の製造方法は、上記のいずれかの基板洗浄装置又は基板洗浄方法を用いて基板を洗浄した後、所定の薬液処理を行うものである。大型の基板が高い洗浄力で均一に洗浄され、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等が良好に形成される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の基板洗浄方法及び基板洗浄装置によれば、基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板を均一に洗浄することができる。
【００１９】
さらに、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることにより、ブラシ駆動用モータが少なくて済む。また、ブラシ駆動用モータが直接取り付けられていないディスクブラシでは、ブラシシャフトの内部に洗浄水を通して、ディスクブラシから基板へ洗浄水を供給することが可能となる。
【００２０】
さらに、サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させることにより、各ディスクブラシの高さを精密に調整することができる。
【００２１】
さらに、複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させることにより、少ないディスクブラシで基板全体を洗浄することができ、かつ洗浄力を向上させることができる。
【００２２】
本発明の基板の製造方法によれば、大型の基板を高い洗浄力で均一に洗浄して、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を良好に形成することができる。従って、品質の高い大型基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の主要部の外観図である。また、図２（ａ）は本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の正面図、図２（ｂ）は同上面図である。基板洗浄装置は、チャンバー１０、基板搬送機構、ブラシユニット、及びブラシ移動機構を含んで構成されている。なお、ブラシユニットは、基板搬送機構により移動される基板１の上方及び下方にそれぞれ配置されるが、図１及び図２では、基板１の上方に配置したブラシユニットのみが示され、基板１の下方に配置したブラシユニットは省略されている。また、図１では、チャンバー１０及び基板搬送機構が省略され、ブラシユニット及びブラシ移動機構の一部のみが示されている。
【００２４】
図２において、基板搬送機構は、ローラシャフト１１及びローラ１２を含んで構成されている。図２（ｂ）に示すように、チャンバー１０内には、複数のローラシャフト１１が基板移動方向に所定の間隔で設置されている。各ローラシャフト１１には複数のローラ１２が取り付けられており、ローラ１２には基板１が搭載されている。基板搬送機構は、チャンバー１０外の図示しない駆動手段により各ローラシャフト１１を所定の速度で回転させて、ローラ１２に搭載した基板１を基板移動方向へ所定の速度で移動する。
【００２５】
ブラシユニットは、複数のディスクブラシ、ブラシユニットカバー２０、及びブラシユニットカバー２０内に設けられた複数のブラシ高さ調整機構を含んで構成されている。なお、本実施の形態では、ブラシユニットに６個のディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆが設けられているが、ディスクブラシの数はこれに限るものではなく、基板１の幅に応じて適宜決定される。
【００２６】
図３は、ディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構及びディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の正面図である。また、図４（ａ）はディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構の側面図、図４（ｂ）はディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の側面図である。なお、図３はブラシユニットカバー２０を取り外した状態を示しており、ディスクブラシ２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆのブラシ高さ調整機構は省略されている。
【００２７】
本実施の形態は、一つのブラシ駆動用モータで二つのディスクブラシを回転させる例を示している。図３において、ディスクブラシ２ａはブラシ駆動用モータ２１の回転軸に取り付けられており、ディスクブラシ２ｂはブラシシャフト２４に取り付けられている。ブラシ駆動用モータ２１及びブラシシャフト２４は、後述するブラシ高さ調整機構によって、軸が基板１の表面と垂直になるように設置されている。ブラシ駆動用モータ２１の駆動力は、回転軸に取り付けられたディスクブラシ２ａへ伝達されると共に、回転軸に取り付けられたベルト車、ベルト２２、及びブラシシャフト２４に取り付けられたベルト車２３（図５参照）から成る伝達機構によって、ディスクブラシ２ｂへ伝達される。
【００２８】
ディスクブラシ２ｃとディスクブラシ２ｄ、ディスクブラシ２ｅとディスクブラシ２ｆについても、同様にして、ディスクブラシ２ｃに取り付けられたブラシ駆動用モータの駆動力がディスクブラシ２ｄへ伝達され、ディスクブラシ２ｅに取り付けられたブラシ駆動用モータの駆動力がディスクブラシ２ｆへ伝達される。
【００２９】
なお、本実施の形態では一つのブラシ駆動用モータで二つのディスクブラシを回転させているが、一つのブラシ駆動用モータで三つ以上のディスクブラシを回転させてもよい。例えば、一つのブラシ駆動用モータでディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃを回転させ、別のブラシ駆動用モータでディスクブラシ２ｄ，２ｅ，２ｆを回転させてもよい。あるいは、一つのブラシ駆動用モータで全てのディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを回転させてもよい。また、ディスクブラシの数によっては、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させた上で、余ったディスクブラシについては一つのブラシ駆動用モータで回転させることもできる。
【００３０】
図５は、図４（ｂ）のＡ−Ａ部の断面図である。本実施の形態は、ディスクブラシ２ｂの中央部に洗浄水の吐出口４を設けた例を示している。ディスクブラシ２ｂが取り付けられたブラシシャフト２４の内部には、洗浄水の通路が形成されている。ブラシシャフト２４は、ベアリング２５により回転可能に支持されている。ブラシシャフト２４の上端は、ロータリジョイント４１によって配管４０と接続されている。配管４０は、ロータリジョイント４１を介し、ブラシシャフト２４へ洗浄水を供給する。供給された洗浄水は、ブラシシャフト２４の内部の通路を通って、ディスクブラシ２ｂの吐出口４から基板１の表面へ吐出される。ディスクブラシ２ｄとディスクブラシ２ｆについても同様である。
【００３１】
なお、後述するブラシ高さ調整機構の働きによって、ディスクブラシ２ｂはブラシシャフト２４と共に上下に移動可能となっている。ブラシシャフト２４の上下の移動に対応するためは、ロータリジョイント４１に上下に伸縮する機能を設けてもよく、あるいは配管４０を柔軟性のある材料で構成してもよい。
【００３２】
本実施の形態によれば、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることにより、ブラシ駆動用モータが少なくて済む。また、ブラシ駆動用モータが直接取り付けられていないディスクブラシでは、ブラシシャフトの内部に洗浄水を通して、ディスクブラシから基板へ洗浄水を供給することが可能となる。
【００３３】
図３及び図４において、各ブラシ高さ調整機構は、ブラシ保持機構、カム３５、サーボモータ３６、及び制御装置３７を含んで構成されている。なお、制御装置３７は、ブラシユニットカバー２０の外に設置されており、図４では省略されている。
【００３４】
ブラシ保持機構は、ベース３０、スライドバー３１、ばね３２、上板３３、及びカム動作ブレード３４を含んで構成されている。図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、ベース３０はブラシユニットカバー２０の内壁に固定されている。ベース３０の上方には、４本のスライドバー３１及びばね３２によって、上板３３が支えられている。スライドバー３１は、ベース３０に設けた貫通穴を通ってスライドする。ばね３２は、上板３３を図面上方向へ付勢し、上板３３の上面に取り付けられたカム動作ブレード３４をカム３５に押し付ける。上板３３の下面には、ブラシ駆動用モータ２１又はブラシシャフト２４が取り付けられている。
【００３５】
図３において、サーボモータ３６の駆動によってカム３５が回転すると、カム３５に押し付けられたカム動作ブレード３４が上下に移動し、上板３３が上下に移動する。これにより、ブラシ高さ調整機構は、ブラシ駆動用モータ２１と共にディスクブラシ２ａを上下に移動させて、ディスクブラシ２ａの高さを調整し、またはブラシシャフト２４と共にディスクブラシ２ｂを上下に移動させて、ディスクブラシ２ｂの高さを調整する。
【００３６】
制御装置３７は、各サーボモータ３６を制御することにより、各ブラシ高さ調整手段でディスクブラシ２ａ，２ｂの高さをそれぞれ独立に調整して、ディスクブラシ２ａ，２ｂが基板１に接触する圧力を等しくする。制御装置３７は、ディスクブラシ２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆについても、同様にして、各ブラシ高さ調整手段で各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシが基板１に接触する圧力を等しくする。
【００３７】
なお、制御装置３７によるサーボモータ３６の制御については、例えば特開平１０−３３７５４１号公報に記載された駆動制御装置によるカム駆動モータの制御と同様にして行うことができる。
【００３８】
本実施の形態によれば、サーボモータ３６により駆動されるカム３５で各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆを上下に移動させることにより、各ディスクブラシの高さを精密に調整することができる。
【００３９】
図２（ａ）及び図２（ｂ）において、ブラシ移動機構は、スライドレール１３、リンク１４、リンク駆動板１５、及びリンク駆動用モータ１６を含んで構成されている。チャンバー１０内には、基板１の基板移動方向とほぼ直交する方向に２本のスライドレール１３が基板１と平行に設置されている。２本のスライドレール１３にはブラシユニットカバー２０が搭載され、ブラシユニットカバー２０の上部にはリンク１４の一端が連結されている。リンク１４の他端はリンク駆動板１５に連結されており、リンク駆動用モータ１６の駆動によりリンク駆動板１５が回転すると、リンク１４はブラシユニットカバー２０をスライドレール１３に沿って移動させる。これによりブラシ移動機構は、ブラシユニットをブラシ移動方向に所定距離だけ往復させる動作を繰り返す。
【００４０】
ブラシユニットカバー２０内に設けた各ブラシ高さ調整手段で各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの高さをそれぞれ独立に調整した後、基板搬送機構により基板１を基板移動方向へ移動しながら、ブラシ移動機構によりブラシユニットをブラシ移動方向に所定距離だけ往復させる。
【００４１】
一例として、基板１の移動速度を２．７ｍ／ｍｉｎ、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの回転速度を毎分３００回転、ブラシユニットの往復を最大で毎分３０回程度とする。また、ブラシユニットを往復させる距離は、ディスクブラシの半径に各ディスクブラシの隙間の距離を加えた長さ以上とする。
【００４２】
ブラシユニットは、ディスクブラシ２ｂ，２ｄ，２ｆの吐出口４から基板１へ洗浄水を供給しながら、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆにより基板１を洗浄する。このとき、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆは基板１の表面に垂直な軸で回転するので、各ディスクブラシの回転により基板１に加わる力は、基板移動方向にも逆方向にも同じとなり、互いに打ち消される。従って、基板１の移動を妨げようとする抵抗が小さく、基板１が大型化しても各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆが基板１に接触する圧力を小さくする必要がないので、洗浄力が低下しない。そして、各ディスクブラシ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの高さをそれぞれ独立に調整して、各ディスクブラシを同じ圧力で基板１に接触させながら回転させることにより、基板１が均一に洗浄される。
【００４３】
従って、以上説明した実施の形態によれば、基板を移動しながら、ブラシの洗浄力を低下させることなく、大型の基板１を均一に洗浄することができる。
【００４４】
さらに、ブラシユニットをブラシ移動方向に所定距離だけ往復させることにより、ディスクブラシを複数列に並べることなく、基板１全体が洗浄される。そして、基板１上の汚れや異物に対し、一つのディスクブラシと、そのディスクブラシの軸を挟んだ反対側又は隣接するディスクブラシとから異なった向きの力が加わり、洗浄力が向上する。
【００４５】
従って、以上説明した実施の形態によれば、少ないディスクブラシで基板１全体を洗浄することができ、かつ洗浄力を向上させることができる。
【００４６】
本発明の基板洗浄装置又は基板洗浄方法を用いて基板１を洗浄した後、所定の薬液処理を行うことにより、大型の基板１を高い洗浄力で均一に洗浄して、基板１上に回路パターンやカラーフィルタ等を良好に形成することができる。従って、品質の高い大型基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の主要部の外観図である。
【図２】図２（ａ）は本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の正面図、図２（ｂ）は同上面図である。
【図３】ディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構及びディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の正面図である。
【図４】図４（ａ）はディスクブラシ２ａのブラシ高さ調整機構の側面図、図４（ｂ）はディスクブラシ２ｂのブラシ高さ調整機構の側面図である。
【図５】図４（ｂ）のＡ−Ａ部の断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１ 基板
２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ ディスクブラシ
４ 吐出口
１０ チャンバー
１１ ローラシャフト
１２ ローラ
１３ スライドレール
１４ リンク
１５ リンク駆動板
１６ リンク駆動用モータ
２０ ブラシユニットカバー
２１ ブラシ駆動用モータ
２２ ベルト
２３ ベルト車
２４ ブラシシャフト
２５ ベアリング
３０ ベース
３１ スライドバー
３２ ばね
３３ 上板
３４ カム動作ブレード
３５ カム
３６ サーボモータ
３７ 制御装置
４０ 配管
４１ ロータリージョイント
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って複数配置され、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシと、
前記ディスクブラシを回転させる一つ又は複数のブラシ駆動用モータと、
前記各ディスクブラシに対して設けられ、前記各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整するブラシ高さ調整手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記ブラシ駆動用モータの一つから、二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達する伝達手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記各ブラシ高さ調整手段は、
前記ディスクブラシを上下に移動可能に保持するブラシ保持機構と、
前記ブラシ保持機構に保持された前記ディスクブラシを上下に移動させるカムと、
前記カムを駆動するサーボモータと、
前記サーボモータを制御する制御装置とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させるブラシ移動手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
基板を移動しながら、
基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシを複数配置し、
各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、
各ディスクブラシを同じ圧力で基板に接触させながら回転させることを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項６】
一つのブラシ駆動用モータから二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達して、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項７】
各ディスクブラシを上下に移動可能に保持し、サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させて、各ディスクブラシの高さを調整することを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項８】
複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いて基板を洗浄した後、所定の薬液処理を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項５乃至請求項８のいずれか１項に記載の基板洗浄方法を用いて基板を洗浄した後、所定の薬液処理を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１】
基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って複数配置され、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシと、
前記ディスクブラシを回転させる一つ又は複数のブラシ駆動用モータと、
前記各ディスクブラシに対して設けられ、前記各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整するブラシ高さ調整手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記ブラシ駆動用モータの一つから、二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達する伝達手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記各ブラシ高さ調整手段は、
前記ディスクブラシを上下に移動可能に保持するブラシ保持機構と、
前記ブラシ保持機構に保持された前記ディスクブラシを上下に移動させるカムと、
前記カムを駆動するサーボモータと、
前記サーボモータを制御する制御装置とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させるブラシ移動手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
基板を移動しながら、
基板の移動方向と直交する方向の幅に渡って、基板の表面に垂直な軸で回転するディスクブラシを複数配置し、
各ディスクブラシの高さをそれぞれ独立に調整して、
各ディスクブラシを同じ圧力で基板に接触させながら回転させることを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項６】
一つのブラシ駆動用モータから二つ以上のディスクブラシへ駆動力を伝達して、一つのブラシ駆動用モータで二つ以上のディスクブラシを回転させることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項７】
各ディスクブラシを上下に移動可能に保持し、サーボモータにより駆動されるカムで各ディスクブラシを上下に移動させて、各ディスクブラシの高さを調整することを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項８】
複数のディスクブラシを基板の移動方向とほぼ直交する方向に所定距離だけ往復させることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いて基板を洗浄した後、所定の薬液処理を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項５乃至請求項８のいずれか１項に記載の基板洗浄方法を用いて基板を洗浄した後、所定の薬液処理を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−１６７５２９（Ｐ２００６−１６７５２９Ａ）
【公開日】平成１８年６月２９日（２００６．６．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３６０８７１（Ｐ２００４−３６０８７１）
【出願日】平成１６年１２月１４日（２００４．１２．１４）
【出願人】（０００２３３４８０）日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 (34)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年６月２９日（２００６．６．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１２月１４日（２００４．１２．１４）
【出願人】（０００２３３４８０）日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 (34)
【Ｆターム（参考）】
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