【課題】ランニングコストや設備投資の増大、さらにはガラス基板の生産性低下を極力招くことなく、ガラス基板の有効面を効果的に清浄化することができる技術を提供する。
【解決手段】搬送されるガラス基板Ｇの有効面に対し、洗浄液２１を供給しつつ、洗浄ヘッド１５を回転させながら押し当てることにより、ガラス基板Ｇの有効面に付着した異物を取り除く洗浄工程において、洗浄ヘッド１５または洗浄ヘッド１５を保持する第１保持部材１３の少なくとも一方の膨張収縮を利用して、ガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を調整する。具体的には、洗浄ヘッド１５がある程度摩耗したときに、洗浄液２１の供給温度を上昇させて、洗浄ヘッド１５または第１保持部材１３の少なくとも一方を熱膨張させ、洗浄ヘッド１５の摩耗によって低下したガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を再度高める。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス頻度を低減させながらも、除液効率を高く維持する。
【解決手段】洗浄されたコインの洗浄液を除去するコイン除液装置５０であって、コインを挟み込んで搬送する柔軟性ロール８２によって、コインの表面に付着した洗浄液を除去する際に、掻き上げ手段７０によって、この柔軟性ロール８２の表面を長手方向に亘って掻くことで、柔軟性ロール８２の表面の油分をロール表面から浮き上がらせるようにした。 （もっと読む）

【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被清掃面の全域に亘って良好なクリーニング能力を得ることができる表面処理装置及を提供する。
【解決手段】芯部１１２の直径は、被清掃面２ａの半径よりも大きく設定され、ワークＷと芯部１１２とを相対移動させる移動機構８３を備え、移動機構８３は、回転可能に支持され、駆動力が付与されるシャフト８７を備え、パッドシャフト９５の中心軸Ｏ２と、シャフト８７の中心軸Ｏ１とをオフセットさせた状態で、中心軸Ｏ１回りにパッドシャフト９５を公転させるとともに、公転に連動してパッドシャフト９５を中心軸Ｏ２回りに回動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブラシの寿命を長くした洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する保持機構１０と、基板Ｗを洗浄可能な洗浄ブラシ２１とを備え、保持機構１０に保持された基板Ｗに洗浄ブラシ２１を当接させながら相対回転させて基板Ｗを洗浄するように構成された洗浄装置１において、洗浄ブラシ２１を洗浄するブラシ洗浄器５０を有し、このブラシ洗浄器５０は、洗浄ブラシ２１の表面電位を変化させて、洗浄ブラシ２１の表面電位および当該洗浄ブラシ２１に付着した異物の表面電位を互いに正負が同じ表面電位にすることにより、洗浄ブラシ２１から異物を分離して除去するようになっている。 （もっと読む）

【課題】装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを水平姿勢で保持する基板保持部１と、基板Ｗに接触して基板Ｗを洗浄する洗浄ブラシ７と、洗浄ブラシ７の側方に設けられ、処理液の液滴をキャリアガスとともに基板に噴射して基板を洗浄する二流体ノズル９と、洗浄ブラシ７と二流体ノズル９とを保持する保持アーム５と、この保持アーム５に連結して設けられ、基板Ｗ面に沿って洗浄ブラシ７と二流体ノズル９とを移動させる単一のアーム移動機構と、を備えている。このように構成される基板処理装置によれば、洗浄ブラシ７と二流体ノズル９を移動させる単一のアーム移動機構を備えているので、装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能が一層向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面及びベベル部並びに裏面の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１００は、裏面を下方に向けた状態の基板を裏面から支えて保持する２つの基板保持手段（吸着パッド２、スピンチャック３）を備え、支える領域が重ならないようにしながらこれらの基板保持手段の間で基板を持ち替える。洗浄部材（ブラシ５）は基板保持手段により支えられている領域以外の基板の裏面を洗浄し、２つの基板保持手段の間で基板が持ち替えられることを利用して基板の裏面全体を洗浄する。また基板がスピンチャック３により保持され、回転されるときに、基板の裏面の洗浄と合わせて、基板表面及びベベル部に夫々洗浄液を供給して、当該表面とベベル部の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハをスポンジブラシによって所定の洗浄度合に洗浄できるようにしたブラシ洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】回転テーブル１１に保持された半導体ウエハ２２を回転駆動されるスポンジブラシ３８によって洗浄するブラシ洗浄装置において、上記回転テーブルを回転駆動するモータ１６と、上記洗浄ブラシを回転駆動するモータ３４と、上記スポンジブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動機構３２と、上記スポンジブラシを半導体ウエハの径方向中心部から外方へ揺動させたときに上記スポンジブラシの上記半導体ウエハに接触する端面と上記半導体ウエハの上記端面が接触する部分との相対速度が所定値以上になるよう上記角モータを制御する制御装置６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、本体に内蔵したモータにより回転軸に取り付けられた洗浄ブラシを回転させると共に、回転軸に貫通した穴を開けたノズル先端から流体を噴射する洗浄モータノズルを提供する。
【解決手段】ホース取付金具５には圧力流体が供給され、回転軸７の貫通孔６からノズル嘴４のオリフィス孔１９を経て洗浄ブラシ３の中央開口から圧力流体が噴射される。一方、固定子９のコイルが励磁され、前記固定子９と対向している永久磁石の回転子８が回転する。前記回転子８が回転すると、前記回転子８が固定されている回転軸７が一体に回転し、前記回転軸７の先端に螺合されているノズル嘴４が一体となって回転する。したがって、前記ノズル嘴４の先端に螺着されている洗浄ブラシ３も一体となって回転する。このようにして、洗浄ブラシ３の回転及圧力流体の相乗剥離効果により汚れを落とすことができる。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハの研磨に使用されるウェーハ研磨用プレートの表面を高清浄度かつ高効率的に洗浄する。
【解決手段】 ウェーハ研磨後のウェーハ研磨用プレートＰを洗浄槽１１内のプレート回転用ローラー１２により回転自在に保持し、高圧噴射用ポンプ２１により加圧した洗浄液をノズル１４で噴射洗浄液１５にして、溝部Ｍの形成されたウェーハ保持面１３に噴射させ、付着するワックスあるいは研磨剤固形物を除去する。同時に、プレート表面ブラシ洗浄機構２５によりウェーハ保持面１３を摺擦する。また、プレート側面ブラシ洗浄機構２７およびプレート裏面ブラシ洗浄機構２８を用いて各部位を摺擦し付着物を除去する。上記洗浄液は、洗浄液循環用ポンプ１７により洗浄液循環用タンク１９に還流され、洗浄液加熱用ヒータ２０により適温に加熱され循環供給される。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＰ装置を用いずに塗布膜を平坦化する。
【解決手段】基板処理システム１には，加熱炉において硬化される前に塗布絶縁膜Ａを硬化する平坦化装置１８が設けられる。平坦化装置１８には，ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック７１や，ウェハＷ上の塗布絶縁膜Ａに押し付けて塗布絶縁膜Ａの表面を削るブラシ１０１，ブラシ１０１をウェハＷの表面に沿って移動させる第１のアーム８１，ウェハＷの表面に加工液を供給する加工液供給ノズル１１０などが設けられる。硬化前の柔らかい状態の塗布絶縁膜Ａを有するウェハＷが平坦化装置１８に搬送され，ブラシ１０１を塗布絶縁膜Ａに押し当てて当該塗布絶縁膜Ａの表面に沿って移動させることにより，塗布絶縁膜Ａを所定の膜厚に平坦化できる。 （もっと読む）

円筒部材の保守装置は、網状のスチールケーブル等の円筒部材（１３）の周囲を閉じるための２つのヒンジで連結されている半ハウジング（１１、１２）から成るハウジング（１０）を備えている。回転螺旋ブラシアセンブリ（２１）及び回転縦ブラシアセンブリ（２２）がハウジング内に配置されており、ハウジングの軸を中心として回転可能である。各回転ブラシアセンブリは、同軸の分割リング（２３、２６）を備え、分割リングの間には、回転円筒ワイヤブラシ（２５、２８）が接続され、それ自体の軸を中心として独立して回転可能である。ノズル（２９）は、円筒部材に洗浄液又はペンキを吹き付けるために、ハウジング内部に配置されている。ハウジングの開口部（３２）は、環境汚染を避けるために、破片、洗浄液、及びペンキを除去するための吸引装置に接続するためのものである。ハウジング上のループ（１８）は、ハウジングを円筒部材に沿って動かすためにケーブルに取り付けるためのものである。
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【課題】 成膜処理終了後洗浄されるまでの時間を一定として基板を均一に処理することができ、また、成膜処理の終了した基板を清浄な状態で搬送することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理部を備えるＣＶＤ処理装置１２により成膜処理された基板を基板洗浄装置１により洗浄処理する基板処理装置であって、基板の表面を洗浄するための洗浄ユニット６、７と、基板の裏面を洗浄するための反転洗浄ユニット８と、基板搬送用カセット１２が載置される搬入搬出テーブル７３を備えたインデクサ部７５と、ＣＶＤ処理装置１２の処理部と、洗浄ユニット６、７と、第２洗浄ユニット８と、インデクサ部７５との間で基板を搬送する基板搬送機構４、７４とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】ブラシ洗浄部材を用いて洗浄ブラシのブラシ部を確実に洗浄処理できるとともに、ブラシ洗浄部材からブラシ部への異物の再付着を、容易に軽減する構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理後の洗浄ブラシ１３のブラシ部１６に付着、蓄積した異物を、ブラシ洗浄部材３０を用いてブラシ部１６から除去することにより、ブラシ部１６を洗浄処理する製造装置１であって、ブラシ洗浄部材３０は、ブラシ部１６が接触される、台座３１から起立するとともに、台座３１の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部３２を有し、該突起部３２のみにブラシ部１６が接触されることにより、異物がブラシ部１６から除去されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】基板表面の異物をより確実に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、ウエハＷを保持して回転させるスピンチャック１と、ウエハＷに処理液を供給する処理液ノズル２と、ウエハＷをスクラブするスクラブブラシ３と、このスクラブブラシ３を移動させるノズル移動機構４と、待機ポット５とを備えている。スクラブブラシ３によってウエハＷの異物を除去するためのスクラブ処理をしていない待機時には、スクラブブラシ３は待機ポット５で待機させられる。待機ポット５には、アルカリ性液体としてのアンモニア水が供給されており、その内部にはアルカリ性液体貯留部が設けられている。このアルカリ性液体貯留部に貯留されたアンモニア水の揮発によりアンモニアガスが発生し、このアンモニアガスが待機状態のスクラブブラシ３に供給される。 （もっと読む）