【課題】処理液の基板周辺への飛散を抑制しつつ、基板に処理液を用いた処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】回転状態にあるウエハＷにプッシュプルノズル１５の下面に保持された処理液が接液され、この状態で、プッシュプルノズル１５が揺動アーム１４の揺動によって、ウエハＷの回転中心Ｃを含む位置と、ウエハＷの周縁部の位置との間で往復移動される。ウエハＷの表面における接液位置が円弧状の軌跡を描きつつ往復移動する。これにより、ウエハＷの表面の全域が薬液と接液する。 （もっと読む）

【課題】処理液供給手段を収納する収納室から処理液のミストや粒子が発生するのを防止して、基板の処理又は乾燥を均一に行う。
【解決手段】液回収チャンバ３０及び上チャンバ４０により形成された処理室内で、回転テーブル１０が、基板１を水平に支持して回転する。ノズル２１を収納する収納室５０が処理室につなげて設けられ、ノズル２１が、収納室５０から処理室内にある基板１の上方へ移動し、基板１の表面へ処理液を供給した後、収納室５０へ戻る。シャッター５３は、ノズル２１が収納室５０内にあるとき、収納室５０を処理室から遮蔽する。収納室５０を処理室から遮蔽するので、処理室内で基板１の回転により生じた空気の流れによって、収納室５０から処理液のミストや粒子が発生するのが防止される。 （もっと読む）

【課題】処理液の基板周辺への飛散を抑制しつつ、基板に処理液を用いた処理を良好に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１０により保持されたウエハＷの表面に対して、プッシュプルプレート２を対向配置する。プッシュプルプレート２は、下面２１に、複数の吐出口２２および吸引口２３を有している。吐出口２２からウエハＷの表面に向けて処理液を吐出させつつ、この吐出された処理液を吸引口２３から吸引する。プッシュプルプレート２上には処理液の液膜が形成され、この処理液の液膜がウエハＷの表面に接液されて、ウエハＷの表面に処理が施される。プッシュプルプレート２の吐出口２２から吐出される処理液は、吐出後直ちに吸引口２３から吸引される。 （もっと読む）

【課題】液表面に浮遊する軽いゴミやパーティクルを無くし、洗浄槽内で溶剤洗浄した後のワークを引き上げた際にゴミ等の再付着を防ぐことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽１２は、貯留している洗浄剤４６の液体でワーク４４を洗浄する液体洗浄エリア１６と、液体洗浄エリア１６内の洗浄剤４６の余剰液が流入するオーバーフロー槽３８（液流出エリア）と、洗浄槽１２内のいずれかの面から排出した後に液体洗浄エリア１６に導入する第１循環経路７１とを少なくとも備え、液体洗浄エリア１６に、第１循環経路７１を経由して液体洗浄エリア１６内に洗浄剤４６を流入させる流入部材７２と、流入部材７２から流入する洗浄剤４６の液流を液体洗浄エリア１６内の洗浄剤４６の液面７３と平行な液流７４になるように液面７３に導く液流ガイド８１とを有する液面流動手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】吹付けアスベストを効率良く除去する方法を提供する。
【解決手段】ノズルヘッダー２３の周囲に高温高圧の蒸気４が逃げないように取り付けたフード１を吹付アスベストに当てがい、ノズルヘッダーから噴出するアスベスト除去剤３の噴霧体をノズル２より吹付アスベストに所定の時間噴霧した後、ヘラ等でアスベストを除去する。 （もっと読む）

【課題】ノズルの軸方向に複数設けられた各ノズル孔から噴出する流体を均一化することにより洗浄性能を向上する。
【解決手段】ノズル２に供給された流体を、ノズル２の終端部に接続した戻し経路４を介して、流体を供給する流体供給経路１に戻して循環させる一方で、ノズル２の軸方向に複数設けた各ノズル孔２ａから噴出させる。これにより、ノズル２内の流体が、軸方向に沿って、十分な速度及び量を確保し、圧力（特に動圧）を均一化して、各ノズル孔２ａからほぼ均一に噴出するのを可能とする。 （もっと読む）

【課題】処理液の消費量を低減する。複数の処理工程における処理時間の差異への対応を容易にする。処理液槽間の基板搬送時間を短縮する。
【解決手段】この基板処理装置は、薬液槽２１と、リンス液槽２２と、複数の基板保持部１０とを備えている。薬液槽２１の槽本体３１には、その上面の開口３０から表面張力で盛り上がった状態で薬液４５が貯留されている。リンス液槽２２の槽本体５１には、その上面の開口５０から表面張力で盛り上がった状態でリンス液６１が貯留されている。薬液４５の液面４５ａおよびリンス液６１の液面６１ａは同一高さの水平面内にある。基板保持部１０は、基板Ｗの一主面である処理面を下方に向け、その処理面を液面４５ａ，６１に接液する状態で基板Ｗを保持する。基板保持部１０は、その接液状態を保持しつつ液面４５ａ，６１ａに沿って移動されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】洗浄する物の形状に合わせ、洗浄するものが、筒の中央付近を通過する様、ガイドラインケースを付け、その周囲に複数の回転ノズルを取り付け、高圧洗浄水を吹き付け、効率よく洗浄できる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】１筒型ケースの中央に状況に応じ選択できる３，４等案内ラインケースが付き、その周囲の１筒型ケースに複数の５回転ノズルを取り付け、その下に２洗浄排水受けケース配管溝を設け、洗浄物を安定した速さで送るため、７，巻き送りローラーを取り付け、その前に６濯ぎ洗い洗い用ノズルが付いをつけることで効率よく洗浄できる。１筒型ケースの中央に３，４等案内ラインケースが付き、その周囲の１筒型ケースに複数の５回転ノズルを取り付け、その下に２洗浄排水受けケース配管溝を設け、洗浄物を安定した速さで送るため、７巻き送りローラーを取り付け、その前に６濯ぎ洗い洗い用ノズルをつけることで効率よく洗浄する。 （もっと読む）

【課題】基板の面内における薬液処理の均一性を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、処理槽内の純水を薬液に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的又は連続的に上昇させる。また、処理槽内の薬液を純水に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的または連続的に低下させる。このため、処理槽内において一度に発生する薬液成分の濃度のばらつきが緩和され、基板の面内における薬液処理の均一性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の欠点を解消し、紡糸孔の直径が０．０５ｍｍ以下といった孔径の小さい紡糸口金に対しても、十分な洗浄状態を得ることができる紡糸口金の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 紡糸口金の洗浄装置であって、
洗浄流体を加圧する流体加圧装置（１）と、
流体加圧装置（１）で加圧された流体を噴射する流体噴射装置（２）と、
洗浄すべき紡糸口金（３）を固定する固定装置（４）と、
流体噴射装置（２）を洗浄すべき紡糸口金（３）に対して相対的に定置または紡糸口金の口金面に平行な方向に往復運動させる機構を有する駆動位置決め装置（５）とからなる紡糸口金の洗浄装置であって、
固定装置（４）が、紡糸口金に加圧された流体が噴射されることにより、紡糸口金の口金面が振動できるように、洗浄すべき紡糸口金（３）を固定する固定装置であることを特徴とする、紡糸口金の洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】フッ酸に起因する残留物を容易に除去することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】熱酸化膜６１及びＢＰＳＧ膜６３を有するウエハＷに向けてＨＦガスを供給して、ＢＰＳＧ膜６３を選択的にエッチングし、次いで、ウエハＷに向けてＮＨ_３ガスを供給して、ＳｉＯ_２とフッ酸との反応に基づいて発生する残留物６４のＨ_２ＳｉＦ_６とＮＨ_３ガスとを反応させてＮＨ_４Ｆ及びＳｉＦ_４を発生させ、さらに、ＮＨ_４Ｆを昇華させる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理対象面を非接触状態で保持することができながら、その処理対象面に処理液による処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの下面に対向配置される下プレート２と、ウエハＷの上面に対向配置される上プレート３とを備えている。下プレート２には、複数の吐出口１６と、複数の吸引口１７とが形成されている。吐出口１６から処理液を吐出させつつ、その下プレート２に形成された吸引口１７から処理液を吸引すると、下プレート２とウエハＷの表面との間に処理液の流れが形成され、その処理液の流れによって、ウエハＷの表面を下プレート２との間に所定の間隔を隔てた非接触状態で吸着保持することができる。このとき、ウエハＷの表面に処理液が接液した状態となり、そのウエハＷの表面に対して処理液による処理が施される。 （もっと読む）

【課題】複数種類のパレットを、簡単な装置構成で、作業性よく効率的に脱水処理できる複数種類のパレットに対応可能な脱水装置及びこれを用いた洗浄設備を提供する。
【解決手段】荷物の運搬に使用した複数種類の使用済みのパレット１１の側方周囲を囲むカバー部材と、パレット１１を水平状態で搬送するパレット搬送手段１９と、このパレット１１を設定位置に停止するパレット停止手段２３と、停止させたパレット１１の搬送方向と直交する方向の位置調整を行うパレット位置調整手段２７と、パレット１１を載置する回転テーブル４６を備えこれを回転可能及び昇降可能に支持する昇降手段４７と、カバー部材の内側に設けられ、昇降手段４７によって上昇させたパレット１１をその形状に対応してその両側からガイドする逆階段状となった一対の嵌合部５９、６０、５９ａ、６０ａを備える固定部材６１と、このパレット１１を回転させる駆動手段６５とを有する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に与えるダメージを最小限にしながら高い洗浄効果を得られる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液８が収容される洗浄槽１の底部に設置可能で、ノズル面２ａに多数のエア噴出用のノズル４が穿設され、上記各ノズル４に連通する所定容量のバッファ室３を有するノズルヘッド２と、上記ノズルヘッド２を正転逆転を繰り返すよう回転駆動する回転駆動手段５とを備え、上記ノズルヘッド２は、ノズルヘッド２の回転方向においてノズル面２ａがフラットになるよう形成した。 （もっと読む）

本発明は対象物の工程進行と同時に対象物の背面に噴射ノズルを通じて液体を噴射させて背面クリーニングをすることができる対象物背面の洗浄装置に関するものである。本発明による対象物背面の洗浄装置は、駆動軸を回転させるスピンドルモーターと; 前記スピンドルモーターによって回転する駆動軸と;前記スピンドルモーターの中央及び駆動軸を貫通して設置され, 水路を形成する水路管と; 前記水路管の末端部に設置される多数の噴射ノズルと;対象物が装着され、駆動軸の回転によって回転する対象物装着部と;対象物の枠を固定するガイドと;前記対象物装着部及びガイドを前記駆動軸と連結する駆動軸連結部とを含んで構成されることを特徴とする。本発明を通じて水路と繋がれている噴射ノズルを通じて液体を噴射させて対象物の背面をクリーニングするようにして、工程を進行しながら同時に背面クリーニングが可能なので、工程時間の短縮及び背面のクリーニングにより不良率を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】タンクの液体排出口に連結された構造部中にこびり付いた汚れを、タンクを破損させることなく、簡便に効率的に洗浄除去する。
【解決手段】タンク１から構造部２を取り外し、取り外した構造部２、洗浄液３４の貯蔵タンク３１及びポンプ２１，３６を含む循環経路を形成し、前記ポンプ２１，３６によって洗浄液３４をこの循環経路を通して循環させ、前記構造物２を、その構成部品にまで分解することなく洗浄する。 （もっと読む）

物品を汚染除去する方法であって次のステップが含まれる。すなわち、（ａ）既知温度の複数の物品を第１の通路に沿って移動させ、（ｂ）細長いプレナムを含む第２の通路に沿ってキャリヤガスを搬送し、第２の通路はプレナムより下流で第１の通路に交差し、（ｃ）キャリヤガスをプレナムの上流位置で少なくとも約１０５℃に加熱し、（ｄ）プレナムにおいてキャリヤガスに既知濃度の液体過酸化水素の噴霧ミストを注入し、（ｅ）（１）第２の通路に沿うキャリヤガスの容積流量と、（２）キャリヤガスに注入される過酸化水素の容積と、（３）第１の通路が第２の通路と交差する箇所のキャリヤガス中の蒸気過酸化水素の濃度が物品の既知温度より低い露点温度をもつようにプレナム内に注入されるキャリヤガスの温度とを制御するステップが含まれる。 （もっと読む）

【課題】音圧分布を均一に保って、被洗浄物の全面にわたり音圧均一な洗浄が行える超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を噴射させるスリットが形成された洗浄液溜槽と、スリットに沿って洗浄液溜槽内に備えられた超音波振動体とを有し、被洗浄物がスリットに直交する方向に移動されることによって洗浄が行われる超音波洗浄装置であって、超音波振動体は短冊形状の超音波振動素子を複数個、端面が相接するように長さ方向に並べて振動板上に配置・接着された複合素子配置構造によって形成され、超音波振動素子それぞれの相接する端面の一部分のみがスリットに直交方向に沿う又は点で交差するような嵌合形状とし、超音波振動素子それぞれの相接する端面において超音波音圧の低下が抑制されて超音波振動体のスリットから噴射する洗浄液の全面において実質上均一な超音波放射特性が得られる構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板の中央部に異物がたまりにくく、基板表面全面を効率よく洗浄し、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法の提供を目的とする。
【解決手段】矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄装置１は、フォトマスク基板８を回転させる回転板３と、フォトマスク基板８の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段とを具備し、処理液噴出手段５が、フォトマスク基板８の中央部に処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔５１１と、フォトマスク基板８の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔５２１，５３１を有する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】湿式工程後に基板表面に存在する純水や湿気を乾燥工程を通じて容易にとり除くことが可能な基板乾燥装置及びこれを利用した基板乾燥方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板乾燥装置１００は、純水供給手段１１を具備し、該純水供給手段１１の内部で基板Ｓの洗浄を行う洗浄槽１０と、前記洗浄槽１０で洗浄された前記基板Ｓを乾燥させるように、少なくとも一つ以上のノズル７０、８０、９０を具備し、前記ノズル７０、８０、９０を通じて前記基板Ｓに乾燥気体が噴射されるように構成され、いずれか一部が湾曲した形状を持つ乾燥槽３０と、前記基板Ｓを前記洗浄槽３０から前記乾燥槽３０に移送する移送手段と、を備える。 （もっと読む）