【課題】異なる種類の処理流体の反応による被処理体の汚染防止、処理効率の向上、装置の小型化を図れるようにすること。
【解決手段】半導体ウエハＷを保持する回転可能なロータ２１と、ロータ２１にて保持された半導体ウエハを密封状態に包囲可能な複数の処理室例えば内チャンバ２３及び外チャンバ２４と、半導体ウエハに対して処理流体を供給する処理流体供給手段としての薬液供給手段５０、ＩＰＡ供給手段６０、リンス液供給手段７０及び乾燥流体供給手段８０と、内チャンバ及び外チャンバを半導体ウエハに対して相対的に移動するシリンダ２７，２８を具備する。内チャンバ及び外チャンバを筒体にて形成すると共に、筒体の一端に向かって拡開するテーパ状に形成し、筒体の拡開側部位に、処理流体の排液ポート及び排気ポートを設ける。 （もっと読む）

【課題】 たとえ被洗浄物の構造が複雑であったり大形であったりしても、労力を要さず、綺麗に洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物を移動させる移動装置１に、洗い装置７と、すすぎ装置８、殺菌装置９、乾燥装置１０を付設して、被洗浄物の、洗剤溶液噴射による洗いと、すすぎ液噴射によるすすぎ、殺菌作用による殺菌、付着残液除去による乾燥を順に行うようにした。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に応じた洗浄を可能として、洗浄品質を向上させることを目的とする。
【解決手段】被洗浄物３を個別に洗浄し乾燥させるノズルユニット１１であって、液体若しくはエアを選択的に切り換えて噴射し又は吸引可能なノズル部２７・２７・・・が複数配設され、該ノズル部２７・２７・・・は、洗浄液噴射ノズル部２７ａ、濯ぎ水斜方噴射ノズル部２７ｂ、濯ぎ水垂直噴射ノズル部２７ｃ、エア噴射ノズル部２７ｄ、及び吸引ノズル部２７ｅからなる群より選ばれる少なくとも一種のノズル部２７・２７・・・からなり、各ノズル部の種類及び位置を変更可能とされる。 （もっと読む）

【課題】移動手段１０により略水平方向に延びる所定の方向に移動される略水平姿勢の板状ワークＷに対し、複数のノズル列２０の各ノズル２０ａから処理液を噴射して液処理を行うようにした液処理装置において、板状ワークＷ上にて互いに逆方向の流れがぶつかり合うことに起因する液溜りの発生を回避できるようにする。
【解決手段】複数のノズル列２０の各ノズル２０ａを、板状ワークＷの移動方向前側および後側のうちの何れか一方の側に向かって処理液を噴射するように配置する。 （もっと読む）

【課題】 電子機器用部品に付着した異物粒子や油脂分を除去するための方法及び装置であって、洗浄工程を簡略化し、装置長さを短くすることができ、かつ、洗浄性に優れた洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】 高圧の電解水として２流体ノズルに供給すると同時に高圧の気体をその２流体ノズルに供給し、２流体ノズル内で高圧の電解水と高圧の気体とを混合して電解水を微粒化して電解水ミスト流を形成し、この電解水ミスト流を２流体ノズルから噴霧して被洗浄物に衝突させることにより被洗浄物を洗浄する。この方法によれば、洗浄工程が簡略化され、装置長さも短くでき、かつ、最終的な純水による水洗に用いられる純水の量も低減することができる。 （もっと読む）

【課題】おもにプラズマディスプレイ用部材のパターン現像工程において、パターン形成基板上に上述した再付着ということに起因する異物発生を生ずることが少なく、歩留まり良くパターン形成することを実現する液体除去装置、さらに液体除去装置を含むパターン形成方法を用いたプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に付着した液体を取り除く液体除去手段を有する液体除去装置であって、該基板が通過する位置の上方に液体落下防止手段を具備することを特徴とする液体除去装置。 （もっと読む）

【課題】 小型で高い液置換性能を有し、しかも強力な洗浄能力を併せ持つ高効率な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 水平姿勢で水平方向に搬送される基板１０の搬送方向に沿って第１ノズル列５０及び第２ノズル列６０を設ける。第１ノズル列５０は板幅方向に配列された複数個のフラット型スプレーノズル５２により構成されている。複数個のフラット型スプレーノズル５２は、基板表面における各ノズルの直線状スプレーパターンが前記板幅方向に対して同方向へ３０〜６０度の角度で傾斜するように配置されている。第２ノズル列６０は板幅方向に配列された複数個のフラット型スプレーノズル６２により構成されている。複数個のフラット型スプレーノズル６２は、各ノズルからの液膜が所定のオーバーラップで板幅方向に連続して板幅方向の全域にわたるカーテン状の液膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の噴射によって容器内の内容物を適切に排出できるとともに容器の内面を適切に洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、容器Ｗを搬送方向に搬送しながら、容器Ｗの姿勢を開口部が上方を向いた上方向き姿勢から開口部が搬送方向側方を向いた側方向き姿勢に変更する搬送手段２を備える。また、洗浄装置１は、側方向き姿勢の容器Ｗの開口部に向けて洗浄液を噴射することにより、この容器Ｗ内の内容物を排出すると同時にこの容器の内面を洗浄する洗浄液噴射手段３を備える。
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【課題】 建造物に設置されたテレビカメラやビデオカメラ等を収容するハウジング前面の球状のクリアードーム窓を傷つけずに清掃できるようにする。
【解決手段】 ハウジングの前面に設けられた球面状のクリアードーム窓２を清掃するためのドーム用ワイパー装置であって、ワイパー両端部を前記ハウジングの前記球面状のクリアードーム窓２の中心軸近傍に回転構造を持たせた半円弧状のワイパーアーム３と、前記ワイパーアーム３の内側に前記クリアードーム窓２の曲面に沿って一定の距離を持たせた非接触状態として高圧流体を排出する吐出孔１７を備え、前記ワイパーアーム３の端部より高圧流体を注入して、前記ワイパーアーム３を往復運動作させる駆動手段とを備えて成ることを特徴とするドーム用ワイパー装置。 （もっと読む）

【課題】高い効率で基板の処理面の略全表面にオゾン水を噴射させることができるオゾン水噴射ノズルを提供する。
【解決手段】オゾン水を用いて基板表面のレジストを除去する際に使用されるオゾン水噴射ノズルであって、前記基板の処理面の全表面に対応する位置に複数の噴射孔が形成されており、前記噴射孔は、隣接する噴射孔間の距離が１０ｍｍ以下であり、かつ、前記オゾン水の噴射方向に垂直な方向に回転させたときに、前記オゾン水の噴射方向に垂直な任意の平面上で前記噴射孔の中心に対応する点の描く軌跡が重ならないように配置されているオゾン水噴射ノズル。 （もっと読む）

【課題】 安価であって、薬品を用いることもなく、バクテリア等の雑菌を除去して、充分な洗浄機能を確保できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５によって紫外線を照射した後のＵＶ処理液（洗浄液）を、洗浄液供給部９によってブラシ基部５１に供給し、ブラシ基部５１では、洗浄液案内路１３を通して吐出口１３１からブラシ毛束５０に対して上記紫外線照射後のＵＶ処理液を吐出して、ブラシ毛束５０での雑菌繁殖を防止する。 （もっと読む）

【課題】キャリアガスの高温化を実現することができ、よってより高い均質処理を実現することができる基板表面処理装置を提供する。
【解決手段】所定の熱媒体を供給する熱媒体入口に上流環が接続され、熱媒体を放出する熱媒体出口に下流環が接続され、上流環から下流環へと至る熱媒体の流れ方向が互いに隣接するもの同士で逆方向となるように上流環と下流環とに複数の熱伝達路が接続されると共に、熱媒体として気体が用いられている。 （もっと読む）

転写パターンとなる薄膜が形成された基板上に、回転塗布処理によりレジスト液の膜を形成した後、基板をカバー部材で覆い、このカバー部材の上方から溶媒を供給し、基板及びカバー部材を一体的に回転させながら、溶媒を基板の周縁部に供給することによって、レジスト膜の不要部分を溶解除去するマスクブランクスの製造方法であって、レジスト膜の不要部分を溶解除去する不要膜除去処理の前に、回転塗布処理で形成されたレジスト膜に対して、不要膜除去処理におけるレジスト膜の面内膜厚均一性の悪化を抑制するための減圧乾燥処理を行う。
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【課題】マスク基板表面のレジストを高い効率で除去することができるマスク基板用レジ
スト除去装置を提供する。
【解決手段】オゾン水を用いてマスク基板表面のレジストを除去するマスク基板用レジス
ト除去装置であって、少なくとも、前記マスク基板の上面に対向し、前記マスク基板の上
面との間にオゾン水流の水路を形成する上板と、前記マスク基板の側面に対向し、前記マ
スク基板の側面との間にオゾン水流の水路を形成する側板とからなる蓋部を備えるマスク
基板用レジスト除去装置。 （もっと読む）

【課題】スピンコーターカップ、半導体ウェハ、液晶ガラス基板等の被洗浄物に被着した
有機被膜を、短時間で除去するとともに、洗浄剤を代えずに多数回にわたり繰り返し洗浄
できる生産性、経済性の優れた洗浄装置を提供する。
【解決手段】複数の噴射口を備えた洗浄液噴射アーム及びすすぎ液噴射アームを、被洗浄
物の上下に噴射口を前記被洗浄物に向けて回転可能に配設して、洗浄液としての炭酸アル
キレン、すすぎ液としての純水を順に、高速で吹き付けて洗浄及びすすぎを行う。炭酸ア
ルキレンによる洗浄、純水によるすすぎの後に、被洗浄物に向けて高速気体を噴射して液
切りする。洗浄後の炭酸アルキレンは、ヒーターを備えた洗浄液再生槽でオゾンで汚染物
質を分解して循環再使用する。 （もっと読む）

【課題】 基板を保持しながら回転させて所定の処理を施す基板処理装置において、基板保持に起因する基板への悪影響を防止しつつ、精度良く位置決めされた状態で基板を処理する。
【解決手段】 基板Ｗは支持ピン５により滑動自在に支持されながら基板Ｗの下面と支持ピン５との間に発生する摩擦力で支持ピン５に保持されながらスピンベース３の回転中心Ａ０回りに回転する。一方、押圧ブロック７１により上記摩擦力よりも大きな力を基板Ｗに対して水平方向に作用させることで、基板Ｗをスピンベース３の回転中心Ａ０側に滑動させて基板位置を補正することができる。したがって、基板Ｗの端面に当接して基板Ｗを保持するチャックピン等の保持部材を不要とすることができ、基板保持に起因する基板への悪影響を防止しながら精度良く位置決めされた状態で基板Ｗを処理することができる。 （もっと読む）

【課題】適量の洗浄液で被洗浄ローラ保持シャフトへの汚れの再付着或は前記洗浄布の清潔な部分への汚れの再付着を防止し、効率良く洗浄することができるローラ保持シャフト洗浄装置を提供すること。
【解決手段】被洗浄ローラ保持シャフト１を洗浄する洗浄布２と、洗浄布２を張設するためのガイドローラ３と、同様に洗浄布２を張設し、且つ、洗浄布２に洗浄液を供給する洗浄液供給シャフト４と、被洗浄保持シャフトと洗浄布の接触圧を調整するテンション調整ローラ５と、前記テンション調整ローラ５を軸と垂直方向に引張る引張り機構６と、洗浄布２を送り出す洗浄布送り出し機構７と洗浄布２を巻き取る洗浄布巻き取り機構８と、洗浄布２に洗浄液を供給する洗浄液供給機構９とでできるローラ保持シャフト洗浄装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 液滴（５）を液滴噴射平面でガス流（８）中に噴射する、ガス流（８）に液滴（５）を散在させる方法を提供する。
【解決手段】 本方法は、副ガス（６．１、６．２）を液滴（５）と同時にガス流（８）中に噴射することを特徴とする。副ガス（６．１、６．２）の噴射速度は液滴（５）の噴射速度よりも速く、噴射された副ガス（６．１、６．２）により、噴射された液滴（５）をその軌跡及び大きさに関して安定させ、ガス流（８）から部分的にシールドされ、及び／又は液滴をガス流（８）中に同伴する。これにより、液滴（５）の空間分布及び液滴の大きさ分布の制御が改善される。液滴（５）は、副ガス（６．１、６．２）がない場合よりも効率的にガス流（８）に入り込む。好ましい用途は、ガスタービンコンプレッサーのオンライン湿式クリーニングである。
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【課題】 高濃度の薬液ではなく純水のみを用い、しかも複数の薬液槽、純水吐出装置などを用いることがなく、かつ基板汚染物の基板表面からの剥離除去と基板外への排除とを連続して行い得る基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 水平面２に対して傾斜角度θ１をなすように基板１を傾斜姿勢で保持し、この基板１の被洗浄面１ａに、被洗浄面１ａから間隔ｄ１を開けて純水噴射手段３から加圧状態にある純水を噴射し、被洗浄面１ａ上において上部から下部へ一方向に流れる液膜７を発生させ、被洗浄面１ａに付着する基板汚染物を除去する。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの液滴を広範囲に噴射でき、液滴が噴射された構造体に短時間で大きな損傷を与えることができ、金属材料の表面の錆や異物を除去する洗浄作業、表面の劣化塗料やコンクリート劣化層、砥石表面の磨耗層を除去するハツリ作業、金属材料や無機材料等の表面と塗料との密着性を向上させるためのアンカーパターン形成、溶接部の酸化皮膜除去等の大面積の表面改質処理、コンクリートや石材等の切断作業等を短時間で行うことができ作業性に優れる液滴噴射ノズルを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、高圧液体が供給される液体室と、前記液体室の下流側端部に配設若しくは形成された複数のオリフィス孔部と、前記オリフィス孔部の下流側に配設若しくは形成された噴射口と、隣り合う前記オリフィス孔部間の前記液体室の下流側端部に配設若しくは形成され前記液体室を区画する隔壁と、を備える。
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