【課題】リンス液を回収して再利用することによって、ランニングコストを低減する。
【解決手段】この基板処理装置は、基板Ｗを保持するスピンチャック１と、スピンチャック１に保持された基板Ｗにリンス液を供給するリンス液供給機構７と、基板Ｗに供給された後のリンス液をリンス液貯留槽４７に回収するリンス液回収機構８と、この回収されたリンス液を薬液原液と混合して薬液を調製し、この薬液をスピンチャック１に保持された基板Ｗに供給する薬液供給機構６とを含む。 （もっと読む）

【課題】スプレーガンをメッシュ式吸引台２と組み合わせた織物洗浄装置において、その作業性を高める。
【解決手段】スプレーガンは本体１、持ち手３および開閉スイッチを有する。さらに、真空ポンプ８が吸引台２に接続され、制御装置１３が本体１、開閉スイッチ、真空ポンプ８および電源に接続され、開閉スイッチおよび制御装置１３によって本体１および真空ポンプ８が駆動される。 （もっと読む）

【課題】基板上の処理液の温度をより適正に保ちながら処理を進めることができ、しかも、装置構成を簡単、かつ安価とする。
【解決手段】エッチング装置１０は基板Ｓを水平姿勢で搬送しながらその上面にエッチング液を供給するものである。このエッチング装置１０は、基板Ｓのうちその幅方向両端部分であって、かつ所定のパターン形成領域よりも外側の領域をローラ２６により支持した状態で基板Ｓを搬送するローラコンベア１６と、前記ローラ２６による基板Ｓの支持位置よりも幅方向内側の位置でエッチング液と同温度の流体（エッチング液）を噴出することによりその流体圧により基板Ｓをその下側から支持する流体圧支持装置１７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】処理液貯留槽において実際に処理液がなくなり、この処理液貯留槽から処理液を引き抜くためのラインに処理液が流れなくなった場合において、当該処理液貯留槽が空状態であることを自動的に判定することができ、このことにより、処理液貯留槽から引き抜かれた処理液を被処理体に供給するような処理において安全性や生産性の向上を図ることができる処理システムおよび処理方法を提供する。
【解決手段】処理液貯留槽２０から処理液を引き抜くためのライン２２（２３）には往復動ポンプ３０が介設されている。往復動ポンプ３０が処理液貯留槽２０から処理液を引き抜く際に、この往復動ポンプ３０の往復部材３４が往復動作を行う際の所定距離における移動時間を計測する。この移動時間が予め設定された設定時間よりも小さい場合には処理液貯留槽２０が空状態であると判定する。 （もっと読む）

【課題】 部品洗浄加熱器ポンプモジュールの提供。
【解決手段】 部品洗浄機は、洗浄液中に懸濁する金属粒子を回収するためにポンプ入口近くに配置された磁石と、取扱時に衝撃からポンプ機構を保護するケーシングと、一連の垂直層内での洗浄液の分離をうまく行う水平配向されたポンプと、貯留槽内の洗浄液の液位を計測する二つの液位センサーと、洗浄液の蒸発分を制限するために貯留槽と容器との境界部に位置する蒸発制限板と、衝撃から装置を保護するために制御部の操作部の隣りに設置された保護ハンドルバーと、可変調整器なしのポンプを使用して洗浄液の流量を低流量にできるポンプモーター制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】天板に上部開口及びエア抜き口を有するコンテナ容器の洗浄乾燥装置及び方法において、エア抜き口のノズル部周辺を含めた自動洗浄を可能とすると共に、装置自体の配置スペースを抑え、かつコンテナ容器の洗浄及び乾燥を効率良く行う。
【解決手段】洗浄乾燥装置１０は、コンテナ容器１内に進入して温水又はスチームを多方向に噴射しつつ回転するメインノズル１７と、エア抜き口７の上方からそのノズル部７ａに温水を噴射する複数のサブノズル３４とを備え、各ノズル１７，３４から温水を噴射してコンテナ容器１内及びエア抜き口７を洗浄した後、前記メインノズル１７からスチームを噴射して前記コンテナ容器１内を昇温させると共に、前記メインノズル１７からのスチーム噴射により昇温した前記コンテナ容器１内に除菌エアを送入して乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の雰囲気を安定させて従来のトラブルの発生を防止することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄装置は、半導体基板、液晶ガラス基板、磁気ディスク等の被洗浄基板２を容器３内にて洗浄するものであって、空気や不活性ガス等を容器３内に供給する手段５、２１、３１と、容器３内から空気や不活性ガスを排出する手段とを備え、空気や不活性ガス等を排出する手段は、容器３の圧力を制御する圧力制御手段７Ｂを有している。圧力制御手段７Ｂは、圧力計７Ｃの検出値によりその開度を制御する制御弁７Ａを含む。 （もっと読む）

【課題】リンス処理に要する時間を短くして、半導体ウエハや液晶基板などの製造のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、リンス処理時に、リンス液の液面位置(LV1)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV2)までの距離(L1)が薬液処理時の薬液の液面位置(LV3)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV4)までの距離(L2)よりも短くなるように、或いは、リンス液の液面位置(LV1)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV2)までの距離(L1)がリンス液の底面位置(LV5)から被処理体(ウエハ２)の下端位置(LV6)までの距離(L3)よりも短くなるようにした。 （もっと読む）

【課題】水没した精密電子機器を分解することなく、電子回路素子に悪影響を及ぼすことを抑え、内部に入り込んだ水分、水分に含まれる異物を除去する。
【解決手段】水没した精密電子機器Ａを気密容器８に配置し、超純水タンク１１から超純水を入れて電気抵抗センサー１４からの信号で流入、排出バルブ１２，１３の制御をおこない、複数の超音波振動子Ｂを切り替えながら超音波発信機１６で洗浄し、超純水を排出した後、気密容器８内部を気圧センサー４で検出することにより、排気ポンプ１と外気導入コントロール電磁バルブ３及び排出コントロール電磁バルブ２を制御して、外気流入制御をおこない、気密容器内を最適気圧に保つ。 （もっと読む）

【課題】基板に吐出される処理液の流量を正確に計測することができ、これにより、基板に適切な処理を施すことのできる基板処理装置、および処理液流量計測方法を提供すること。
【解決手段】処理液供給路への第１薬液の流通が開始されたときの流量計の出力する計測値がサンプリングされ（ステップＴ９）、この計測値に基づいて、第１薬液の計測値の時間変化を表す計測パターンが形成される（ステップＴ１２）。その計測パターンの波形をＤＩＷパターンの波形にパターンマッチングさせる（ステップＴ１３）。パターンマッチングされた後の計測パターンと、ＤＩＷパターンとに基づいて、複数の計測値にそれぞれ対応する第１薬液の補正係数が演算される（ステップＴ１４）。パターンマッチング後の互いに波形のずれがない計測パターンおよびＤＩＷパターンに基づいて補正係数の演算が行われる。 （もっと読む）

【課題】薬液及び純水の消費量を削減できる基板洗浄装置及び基板洗浄方法
【解決手段】洗浄液と基板１００を収納する洗浄槽１１と、洗浄槽１１中の洗浄液に超音波振動を印加する超音波振動子１５と、洗浄液を循環させて基板１００を洗浄する循環装置１０と、洗浄液中の溶存ガス濃度を測定する測定装置２０と、溶存ガス濃度の測定結果に基づき、溶存ガス濃度が一定値になるように大気から洗浄液に溶解されるガス量を調整する調整装置３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】適合する洗浄仕様が異なる被洗浄物の場合であっても流体噴出ノズルの交換作業を必要とせず１台のマシンで効率よく対応できるようにする。
【解決手段】洗浄流体噴出部４１２が、噴射特性の異なる高圧洗浄ノズル４１７ａと２流体洗浄ノズル４１８ａを備え、被洗浄物の種類に応じて高圧洗浄ノズル４１７ａと２流体洗浄ノズル４１８ａのいずれか一方を選択使用することで、適合する洗浄仕様（高圧洗浄仕様、２流体洗浄仕様）が異なる被洗浄物の場合であってもノズル交換作業を必要とせず１台のマシンで効率よく対応できるようにした。 （もっと読む）

【課題】媒体に付着した汚れを確実かつ効率的に除去することのできる媒体洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留する洗浄槽１と、前記洗浄液中に超音波を照射する超音波振動子２と、前記洗浄液中にて被洗浄媒体を搬送するとともに、前記超音波振動子２からの超音波と当該超音波の反射波とが形成する定在波によって液深が特定される高効率洗浄領域を前記被洗浄媒体が必ず通過するように当該被洗浄媒体の搬送を行う媒体搬送手段５とを備え、媒体搬送手段５に搬送される被洗浄媒体の全てが前記高効率洗浄領域での洗浄を経るように媒体洗浄装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】既設の構造物に保持された液体中の洗浄対象を、分解せずに洗浄できるようにする。
【解決手段】既設の原子炉容器５などの構造物に保持された水２２に接触する洗浄対象表面である原子炉容器５の内面を洗浄するために、原子炉容器５に超音波６を加えて、原子炉容器を振動させ、洗浄対象表面の近傍にキャビテーション７を発生させる。キャビテーション７が消滅すると、原子炉容器５の内面に衝撃波が到達して、原子炉容器５の内面に付着したクラッド８などの不純物が除去される。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、洗浄する車両の種類を任意に設定することができる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 操作パネル４４で設定した新規の車種設定を記憶するメモリ４２と、メモリ４２に記憶した車種設定における洗浄範囲Ａ内で台車３及びノズル装置４を所定の洗浄パターンで動作させる洗浄制御部４１を備えた。操作パネル４４は、台車３とノズル装置４を任意の位置に移動させる位置決めキー４８と、この位置決めキー４８を操作して台車３とノズル装置４を移動させ、任意の洗浄開始点Ｐ１とこの洗浄開始点Ｐ１の対角点Ｐ２を指定する決定キー４９を備えている。また、台車エンコーダ１３と、ノズルエンコーダ２５とを備え、メモリ４２には設定した洗浄開始点Ｐ１及び対角点Ｐ２を台車３及びノズル装置４の位置データとして記憶する。 （もっと読む）

【課題】処理槽内のペルオキソ一硫酸酸濃度の推移を予め検出し、その検出結果を指標として基板上の有機物を除去するための適正な処理時間を設定することを可能にした電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】硫酸を含む処理液が収容され、過酸化水素水の供給でペルオキソ一硫酸を生成する処理槽内で基板表面の有機物を除去する電子デバイスの製造方法で、基板表面の有機物除去時における処理槽内の処理液を逐次サンプリングし、サンプリング液中の硫酸および過酸化水素をキャピラリーゾーン電気泳動分析により検出し、この検出結果からペルオキソ一硫酸の濃度変化を予め測定する工程と、硫酸を含む処理液が収容された処理槽内に過酸化水素水を供給し、有機物が付着された基板を挿入し、取り出す際、過酸化水素水の供給時期を予め測定した前記ペルオキソ一硫酸の濃度変化に基づいて基板の挿入から取り出しの間にペルオキソ一硫酸の濃度ピークが現れるように設定する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハなどの電子材料基板上に付着した有機汚染物などを洗浄液で効果的に除去でき、かつ洗浄液の品質寿命を長く維持できる洗浄システムを提供する。
【解決手段】硫酸溶液を含む洗浄液１６によって被洗浄材を洗浄する洗浄槽１と、過硫酸溶液を生成する過硫酸溶液生成手段２０と、過硫酸溶液を前記洗浄液に添加する過硫酸添加手段（開閉弁１４、過硫酸添加ライン１５）とを備える。過硫酸溶液生成手段２０は、好適には過硫酸塩溶液を用いた電気透析装置により構成し、洗浄液の液温は８０〜２００℃に調整し、硫酸濃度を８〜１７Ｍに維持するのが望ましい。洗浄液である硫酸に過硫酸溶液を添加することで高度な洗浄が可能になり、洗浄プロセスのスループットを向上できる。さらに洗浄液ライフも長くできる。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＡなどの有機溶媒成分を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、有機溶媒成分の消費量を抑制しながら基板表面を良好に乾燥する。
【解決手段】リンス処理後に基板Ｗを回転させながら基板表面Ｗｆに付着しているリンス液（ＤＩＷ）の表層部を基板表面Ｗｆから振り切って除去する。続いて、基板表面ＷｆにＩＰＡとＤＩＷとが混合された混合液を供給する。基板表面Ｗｆ上のリンス液の大部分が除去されていることから、基板表面Ｗｆに微細パターンＦＰが形成されている場合であってもパターン間隙に付着する液体成分が混合液に置換される。しかも、基板表面Ｗｆに供給する混合液のＩＰＡ濃度は５０％以下とされている。したがって、ＩＰＡの消費量を抑制しながらパターン倒壊を有効に防止できる。 （もっと読む）

【課題】基板の面内における薬液処理の均一性を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、処理槽内の純水を薬液に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的又は連続的に上昇させる。また、処理槽内の薬液を純水に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的または連続的に低下させる。このため、処理槽内において一度に発生する薬液成分の濃度のばらつきが緩和され、基板の面内における薬液処理の均一性が向上する。 （もっと読む）

井戸洗浄装置が垂直供給管上で回転する水ノズルを備え、この垂直供給管が井戸の上部に回転可能に取付けられ、水中ポンプによって井戸からくみ上げられた液体流がこの垂直供給管に供給される。装置は噴霧器を保持するために流入管の上方に取付けられたハウジングを備え、この噴霧器は供給流によって脱臭蒸気を供給管内に引き込むことができる。水ノズルから送出される廃水を案内するために、水ノズルはその端部に取付けられたそらせ板を備えている。 （もっと読む）